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热词
    • 1. 发明申请
    • ARRANGEMENT FOR REDUCING CONTAMINATION IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    • 减少微波投影曝光装置污染的装置
    • WO2016113113A1
    • 2016-07-21
    • PCT/EP2015/081412
    • 2015-12-30
    • CARL ZEISS SMT GMBHHARTJES, JoachimGRUNER, Toralf
    • HARTJES, JoachimGRUNER, Toralf
    • G03F7/20
    • G03F7/70916G03F7/70033H05G2/005H05G2/008
    • The invention relates to an arrangement for reducing contamination in a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the projection exposure apparatus is designed for operation in the EUV and comprises an illumination device, wherein during the operation of the projection exposure apparatus EUV light generated by a plasma excitation of a target material brought about by a first laser light source enters the illumination device via an intermediate focus (IF). The arrangement comprises a second laser light source (140), which directs directional electromagnetic radiation into a region adjoining the intermediate focus (IF) within the illumination device, wherein said second laser light source (140) is designed in such a way that the directional electromagnetic radiation of the second laser light source (140) brings about an evaporation or plasma excitation for at least part of target material that has entered said region during the operation of the projection exposure apparatus.
    • 本发明涉及一种用于减少微光刻投影曝光装置中的污染的装置,其中投影曝光装置被设计为在EUV中操作并且包括照明装置,其中在投影曝光装置的操作期间由等离子体激发产生的EUV光 由第一激光光源引起的目标材料经由中间焦点(IF)进入照明装置。 该装置包括第二激光源(140),其将定向电磁辐射引导到与照明装置内的中间聚焦(IF)相邻的区域中,其中所述第二激光源(140)被设计成使得定向 第二激光光源(140)的电磁辐射在投影曝光装置的操作期间对已经进入所述区域的目标材料的至少一部分产生蒸发或等离子体激发。
    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS FÜR EIN OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    • 法用于制造光学元件,用于光学系统尤其是对于微光刻投射曝光设备
    • WO2016113117A1
    • 2016-07-21
    • PCT/EP2015/081434
    • 2015-12-30
    • CARL ZEISS SMT GMBHHILD, KerstinSTICKEL, Franz-JosefFICHTL, RobertHARTJES, Joachim
    • HILD, KerstinSTICKEL, Franz-JosefFICHTL, RobertHARTJES, Joachim
    • G03F7/20G02B27/00G21K1/06
    • G03F7/70266G02B26/06G02B27/0068G03F7/70316G03F7/70958G21K1/062G21K2201/067
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Substrats (102), Aufbringen eines Schichtsystems (103) auf das Substrat, wobei eine optische Wirkfläche (101) des optischen Elements (100) ausgebildet wird und wobei das Schichtsystem eine zur Manipulation der geometrischen Form der optischen Wirkfläche thermisch deformierbare Schicht (104) aufweist, und Anlegen eines Temperaturfeldes an das optische Element unter zumindest bereichsweisem Aufwärmen der thermisch deformierbaren Schicht über eine vorgegebene Betriebstemperatur des optischen Systems, wobei vor dem Anlegen des Temperaturfeldes an das optische Element die thermisch deformierbare Schicht derart konfiguriert wird, dass eine beim Anlegen des Temperaturfeldes induzierte Deformation nach Abkühlen des optischen Elements auf die vorgegebene Betriebstemperatur zumindest teilweise erhalten bleibt. Die Erfindung betrifft weiter ein optisches Element für ein optisches System, wobei das optische Element (400) eine optische Wirkfläche (401 ) aufweist, mit einem Substrat (402) und einem auf dem Substrat (402) befindlichen Schichtsystem (403), welches ein Reflexionsschichtsystem (406) aufweist, wobei das Schichtsystem ferner eine Formgedächtnislegierung aufweist. Dabei kann eine im Betrieb des optischen Systems auftretende Deformation der optischen Wirkfläche des optischen Elements durch aktive Zufuhr von Wärmeenergie in die Formgedächtnislegierung wenigstens teilweise kompensiert werden.
    • 本发明涉及用于微光刻投射曝光设备制造的光学元件的光学系统,特别是一种方法。 本发明的方法包括以下步骤:提供衬底(102),所述基板,其中,在形成所述光学元件(100)的光学活性表面(101)上施加的层系统(103),并且其中所述层系统中,几何形状的操作 具有该光学有效的表面热变形层(104)和在所述光学系统的预定工作温度的热变形层的至少bereichsweisem加热下施加温度场的光学元件,其中在所述温度场的施加到所述光学元件,所述热变形层,例如 被配置为使得至少在预定的操作温度被部分地接收所述光学元件的冷却后在所述温度场变形应用诱导。 本发明还涉及一种光学元件的光学系统,其中所述光学元件(400)具有一个光学有效区域(401)包括基片(402)和在所述衬底(402)位于层系统(403)包括反射层系统 (406),其中所述层系统还包括形状记忆合金。 它可以通过在形状记忆合金中的至少一项所述的光学元件的光学有效表面变形的光学系统的操作期间发生的热能的活性供给来部分地补偿。