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1. 发明申请

WO2012041720A2 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译： EUV微型摄影用投影曝光装置及微型曝光方法
公开(公告)号：WO2012041720A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/066104
申请日：2011-09-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BIENERT, Marc , FELDMANN, Heiko , GÖHNERMEIER, Aksel , NATT, Oliver , RUOFF, Johannes
发明人： BIENERT, Marc , FELDMANN, Heiko , GÖHNERMEIER, Aksel , NATT, Oliver , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70425
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for EUV microlithography comprising an illumination system (1) for illuminating a pattern and a projection objective (2) for imaging the pattern onto a light-sensitive substrate (5). The projection objective (2) has a pupil plane (30) with an obscuration. The illumination system (1) generates light with an angular distribution. The angular distribution has an illumination pole (35, 36) which extends over a range of polar angles and a range of azimuth angles and within which the light intensity is greater than an illumination pole minimum value. From the illumination pole (35, 36) toward large polar angles a dark zone (41, 42) is excluded within which the light intensity is less than the illumination pole minimum value, and which has in regions a form corresponding to the form of the obscuration of the pupil plane (30).
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV微光刻的投影曝光设备，其包括用于照射图案的照射系统（1）和用于将图案成像到光敏基底（5）上的投影物镜（2）。投影物镜（2）具有遮光的光瞳平面（30）。照明系统（1）产生具有角度分布的光。角度分布具有在极角范围和方位角范围上延伸的照明极（35,36），并且在该范围内光强度大于照明极点最小值。从照明极（35,36）朝向大极角，排除了暗区（41,42），在暗区内光强度小于照明极点最小值，并且在区域中具有对应于照明极的最小值的形式模糊瞳孔飞机（30）。

2. 发明申请

WO2011095209A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2011095209A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/EP2010/051303
申请日：2010-02-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233 , G03F7/70566
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (600) mit einer Beleuchtungseinrichtung (601) und einem Projektionsobjektiv (602), wobei die Beleuchtungseinrichtung (601) im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage (602) eine Objektebene OP des Projektionsobjektivs beleuchtet und das Projektionsobjektiv diese Objektebene auf eine Bildebene (W) abbildet, wobei die Beleuchtung der Objektebene mit linear polarisiertem Licht erfolgt, dessen Wellenlänge kleiner als 15 Nanometer (nm) ist, und wobei das Projektionsobjektiv wenigstens eine Pupille (110, 210, 310, 410, 510) aufweist, wobei wenigstens eine Begrenzungslinie dieser Pupille eine von einer Kreisform abweichende Geometrie aufweist.
摘要翻译：本发明涉及具有照明装置（601）以及投影透镜（602），其中所述照明装置（601）照射所述投射物镜的物平面OP中的投影曝光装置（602）的操作的微光刻投射曝光设备（600）和在该对象平面上的投影透镜（图像平面 W）映射，其中，所述物体面的照明与直线偏振光的波长是小于15纳米（nm），并且其中，所述投射物镜中，至少一个光瞳（110，210，310，410，510），所述进行至少一个边界线此光瞳的形状从圆形形状的几何形状偏离。

3. 发明申请

WO2013056981A1 MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD AND ILLUMINATION DEVICE 审中-公开
标题翻译：微观曝光方法和照明装置
公开(公告)号：WO2013056981A1
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：PCT/EP2012/069621
申请日：2012-10-04
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , SINGER, Wolfgang , GÖHNERMEIER, Aksel , SCHLESENER, Frank
发明人： SÄNGER, Ingo , SINGER, Wolfgang , GÖHNERMEIER, Aksel , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G02F1/01 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G02F1/0131 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to a microlithographic exposure method and to an illumination device. In a microlithographic exposure method an illumination device illuminates an object plane of a projection lens, wherein the object plane is imaged into an image plane of the projection lens (20) by means of the projection lens (20), wherein the illumination device (10) comprises at least one retardation element by means of which, for light impinging on the retardation element, a temporally varying retardation dependent on the location of the impingement can be generated, wherein at least two light rays are directed through different regions of the retardation element, which differ from one another with regard to the retardation respectively generated by the retardation element, and wherein the retardation element is a photoelastic modulator (100).
摘要翻译：本发明涉及微光刻曝光方法和照明装置。在微光刻曝光方法中，照明装置照射投影透镜的物平面，其中通过投影透镜（20）将物平面成像到投影透镜（20）的像平面中，其中照明装置）包括至少一个延迟元件，通过该延迟元件，对于光照射在延迟元件上，可产生取决于冲击位置的随时间变化的延迟，其中至少两个光线被引导通过延迟元件的不同区域，其相对于由相位差元件分别产生的延迟而彼此不同，并且其中延迟元件是光弹性调制器（100）。

4. 发明申请

WO2013185822A1 MASKLESS LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING AN EXPOSURE PATTERN 审中-公开
标题翻译：用于产生曝光图案的MASKLESS LITHOGRAPHIC装置和方法
公开(公告)号：WO2013185822A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/EP2012/061295
申请日：2012-06-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BODEMANN, Axel , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： BODEMANN, Axel , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70308
摘要： The invention relates to a maskless lithographic apparatus (1), comprising: a light modulator (7) having a plurality of micromirrors arranged in a micromirror array for modulating an exposure beam (5) according to an exposure pattern, and an exposure optical system (8) for delivering the modulated exposure beam (5) onto a substrate (2). The apparatus (1) comprises a tilt error compensation unit (15) for compensating for tilt errors of the micromirrors of the micromirror array. The invention also relates to a corresponding method for generating an exposure pattern on a substrate (2), comprising: modulating an exposure beam (5) according to the exposure pattern using a plurality of micromirrors of a micromirror array, and delivering the modulated exposure beam (5) onto a substrate (2) in the form of a beam-spot array (40), wherein at least one of the modulating step and the delivering step comprises compensating for tilt errors of the micromirrors of the micromirror array.
摘要翻译：本发明涉及一种无掩模光刻设备（1），包括：光调制器（7），其具有布置在微镜阵列中的多个微镜，用于根据曝光图案调制曝光光束（5），以及曝光光学系统 8），用于将调制的曝光束（5）输送到衬底（2）上。装置（1）包括用于补偿微镜阵列的微镜的倾斜误差的倾斜误差补偿单元（15）。本发明还涉及用于在衬底（2）上产生曝光图案的相应方法，包括：使用多个微镜阵列的微镜根据曝光图案调制曝光光束（5），并且传送经调制的曝光光束（5）以束 - 点阵列（40）的形式存在于衬底（2）上，其中调制步骤和传送步骤中的至少一个包括补偿微镜阵列的微镜的倾斜误差。

5. 发明申请

WO2012041457A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC IMAGING 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻成像方法
公开(公告)号：WO2012041457A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004741
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70675 , G01B9/02015 , G01B11/14 , G01B2290/65 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/70683 , G03F7/70733 , G03F7/7085 , G03F9/7003 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for imaging mask structures (22) of an image-providing substrate (20) onto a substrate (30) to be structured comprises a measuring apparatus (40) which is configured to determine a relative position of measurement structures (32) disposed on a surface of one of the substrates (20; 30) in relation to one another in at least one lateral direction in respect of the substrate surface and to thereby simultaneously measure a number of measurement structures (32) disposed laterally offset in relation to one another.
摘要翻译：用于将用于将图像提供基板（20）的掩模结构（22）成像到要构造的基板（30）上的用于微光刻的投影曝光工具（10）包括测量装置（40），该测量装置被配置为确定在相对于所述衬底表面的至少一个横向方向上相对于彼此确定布置在所述衬底（20; 30）之一的表面上的测量结构（32）的相对位置，并且由此同时测量测量结构（32）的数量相对于彼此侧向偏置。

6. 发明申请

WO2007101860A1 OFF-AXIS-OBJEKTIVE MIT DREHBAREM OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：与旋转光学元件，离轴镜片
公开(公告)号：WO2007101860A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/EP2007/052105
申请日：2007-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70308 , G03F7/70983
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Objektiv und ein Verfahren zum Betreiben eines Objektivs, insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithografie zur Abbildung eines Retikels auf einen Wafer, mit einer Mehrzahl von optischen Elementen, die entlang eines Strahlengangs angeordnet sind, wobei mindestens ein optisches Element (1) erster Art vorgesehen ist, welches von einem Strahlenbündel nur teilweise bestrahlt wird, wobei das oder mehrere optische Elemente erster Art um die oder parallel zur optischen Achse drehbar gelagert oder positionierbar sind, wobei für jedes optische Element erster Art mindestens zwei, vorzugsweise mehrere Lagerpositionen vorgesehen sind und wobei der Drehwinkel zwischen zwei Lagerpositionen durch die durch das Strahlenbündel bestrahlte Fläche (7) derart definiert ist, dass in den verschiedenen Lagerpositionen die von dem Strahlenbündel bestrahlten Flächen nicht überlappen.
摘要翻译：本发明涉及一种透镜和用于微光刻对掩模版的成像的投影或照明物镜具有多个沿光路设置的光学元件的操作的透镜，特别是在晶片上的方法，其中至少一个光学元件是（1）第一类型的设置，其通过辐射束只照射部分，其中，所述或多个第一类型的光学元件或安装平行于光学轴线旋转或可被定位，其中，多个用于第一类型的至少两个的每一个光学元件，优选提供存储位置，并且其中所述旋转由所述光束的表面照射限定的两个轴承位置之间的角度（7），使得在由所述光束照射的表面的各种存储位置不重叠。

7. 发明申请

WO2004057378A1 BESCHICHTETES OPTISCHES ELEMENT MIT KORREKTURWIRKUNG DURCH ERZEUGUNG EINER SCHICHTDICKENVARIATION ODER BRECHZAHLVARIATION IN DER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：涂校正效果光学元件通过创建一个厚度变化或破坏数变异在涂料
公开(公告)号：WO2004057378A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/EP2003/014543
申请日：2003-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
发明人： REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
IPC分类号： G02B1/10
CPC分类号： G02B1/18 , C23C14/5873 , G02B1/10 , G03F7/70958
摘要： Ein optisches Element (10; 10') weist einen Elementkörper (12) und eine auf dem Elementkörper (12) aufgebrachte Beschichtung (9; 18) zur Veränderung des Reflexionsvermögens auf. In der Beschichtung werden Korrekturstrukturen (23) zur Korrektur von Abbildungsfehlern erzeugt, z.B. durch lokalen Materialabtrag oder durch lokales Verändern der Brechzahl. Falls die Beschichtung (18) eine nach aussen weisende Abschlussschicht (186) sowie eine oder mehrere zwischen der Abschlussschicht (186) und dem Elementkörper (12) angeordnete Zwischenschichten (181 bis 185) um fasst, so enthält vorzugsweise nicht die Abschlussschicht (186), sondern eine der Zwischenschichten (185) die Korrekturstrukturen (23). Das optische Element (10; 10') ist mechanisch stabiler und kontaminationsbeständiger als optische Elemente, bei denen unmittelbar von dem Elementkörper Material zur Erzielung einer Korrekturwirkung abgetragen wird.
摘要翻译：的光学元件（10; 10“）具有一个元件主体（12）和在元件主体（12）的反射率（9 18）施加的涂层，上的变化。在涂覆修正结构（23）用于成像误差，例如的校正产生通过局部去除材料或通过局部改变折射率。如果涂层（18）具有一个面向外的精加工层（186）和一个或覆盖层（186）和所述元件体之间更多（12），以便词语设置中间层（181〜185），因此优选地不包括所述帽层（186），但是中间层中的一个（185）的修正结构（23）。所述光学元件（10; 10“）是机械上更稳定和污染比其中立即从元件体材料中除去，以获得校正效果的光学元件具有抗性。

8. 发明申请

WO2015039705A1 MULTILAYER MIRROR 审中-公开
标题翻译： MULTILERER MIRROR
公开(公告)号：WO2015039705A1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：PCT/EP2013/069689
申请日：2013-09-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , VON BLANCKENHAGEN, Gisela
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/702 , G03F7/70316 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061
摘要： A multilayer mirror for reflecting extreme ultraviolet (EUV) radiation, the mirror comprises a substrate and a stack of layers formed on the substrate. The stack of layers comprises layers comprising a low index material and a high index material, the low index material having a lower real part of the refractive index than the high index material at a given operating wavelength λ. The mirror provides a first peak of reflectivity of 20% or more at a first wavelength λ 1 in a first wavelength band extending from 6 nm to 7 nm and a second peak of reflectivity of 20% or more at a second wavelength λ 2 in a second wavelength band extending from 12.5 nm to 15 nm.
摘要翻译：一种用于反射极紫外（EUV）辐射的多层反射镜，该反射镜包括基底和在基底上形成的一叠层。层叠层包括包含低折射率材料和高折射率材料的层，低折射率材料在给定的工作波长λ下具有比高折射率材料更低的实部折射率。反射镜在从第一波长λ1延伸到6nm至7nm的第一波长λ1处提供20％以上的反射率的第一峰值，而在第二波长处的第二波长λ2处提供20％以上的反射率的第二峰值带从12.5nm延伸到15nm。

9. 发明申请

WO2014111098A1 METHOD OF LITHOGRAPHICALLY TRANSFERRING A PATTERN ON A LIGHT SENSITIVE SURFACE AND ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：在光敏表面上的图案传输方法和微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2014111098A1
公开(公告)日：2014-07-24
申请号：PCT/EP2013/000118
申请日：2013-01-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHLESENER, Frank , SÄNGER, Ingo , DITTMANN, Olaf , GÖHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , SCHICKETANZ, Thomas , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/10
CPC分类号： G03F7/70158 , G02B27/12 , G03F7/70208 , G03F7/70466
摘要： A method of lithographically transferring a pattern (18) on a light sensitive surface (22) in a multiple exposure process comprises the following steps: a) providing a mask (16; 216; 316) comprising a first mask pattern area (181; 2181; 3181) and a second mask pattern area (182; 2182; 3182); b) directing projection light on the mask, thereby producing on the light sensitive surface a first exposed pattern area (301; 2301; 3301), which is an image of the first mask pattern area (181; 2181; 3181), and a second exposed pattern area (302; 232; 3302), which is an image of the second mask pattern area (182; 2182; 3182). The projection light illuminating the first and second mask pattern area has different angular light distributions. c) repeating step b) using the same mask (16; 216; 316) so that an image of the first mask pattern area (181; 2181; 3181) is superimposed on the second exposure pattern area (302; 232; 3302).
摘要翻译：在多次曝光过程中在光敏表面（22）上光刻传输图案（18）的方法包括以下步骤：a）提供包括第一掩模图案区域（181; 2181）的掩模（16; 216; 316） ; 3181）和第二掩模图案区域（182; 2182; 3182）; b）将投影光引导到掩模上，从而在光敏表面上产生作为第一掩模图案区域（181; 2181; 3181）的图像的第一曝光图案区域（301; 2301; 3301），第二裸露图案区域曝光图案区域（302; 232; 3302），其是第二掩模图案区域（182; 2182; 3182）的图像。照射第一和第二掩模图案区域的投影光具有不同的角度光分布。 c）重复步骤b）使用相同的掩模（16; 216; 316），使得第一掩模图案区域（181; 2181; 3181）的图像叠加在第二曝光图案区域（302; 232; 3302）上。

10. 发明申请

WO2013075923A1 CORRECTING AN INTENSITY OF AN ILLUMINATION BEAM 审中-公开
标题翻译：校正照明光束的强度
公开(公告)号：WO2013075923A1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：PCT/EP2012/071675
申请日：2012-11-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WOLF, Alexander , BITTNER, Boris , GÖHNERMEIER, Aksel , SCHNEIDER, Sonja
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70091 , G03F7/70191
摘要： A correction device (23) serves for influencing an intensity of a beam (3) of illumination light of an illumination system of a projection exposure apparatus. The correction device (23) comprises an ejection device (26) comprising at least one ejection channel (27) for attenuating bodies (28) which are attenuating for the illumination light. A collecting device (32) serves for collecting the ejected attenuating bodies (28). The ejection device (26) and the collecting device (32) are designed and arranged for the passage of the illumination light beam (3) through a trajectory (38) of the attenuating bodies (28) between the ejection device (26) and the collecting device (32). A control device (30), which is signal-connected (31) to the ejection device (26), serves for predefining ejection instants for ejecting in each case at least one attenuating body (28) from the at least one ejection channel (27). The result is a correction device for influencing the intensity of an illumination light beam which makes possible better spatial influencing in comparison with the known correction devices.
摘要翻译：校正装置（23）用于影响投影曝光装置的照明系统的照明光束（3）的强度。校正装置（23）包括喷射装置（26），该喷射装置（26）包括至少一个用于对照明光衰减的衰减体（28）的喷射通道（27）。收集装置（32）用于收集所弹出的衰减体（28）。喷射装置（26）和收集装置（32）被设计和布置成使得照明光束（3）经过喷射装置（26）和喷射装置（26）之间的衰减体（28）的轨迹（38）收集装置（32）。向喷射装置（26）信号连接（31）的控制装置（30）用于预先限定用于在每种情况下从至少一个排出通道（27）至少一个衰减体（28）喷射的喷射时刻）。结果是用于影响照明光束的强度的校正装置，其与已知的校正装置相比可以更好地进行空间影响。

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