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1. 发明申请

WO2004057378A1 BESCHICHTETES OPTISCHES ELEMENT MIT KORREKTURWIRKUNG DURCH ERZEUGUNG EINER SCHICHTDICKENVARIATION ODER BRECHZAHLVARIATION IN DER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：涂校正效果光学元件通过创建一个厚度变化或破坏数变异在涂料
公开(公告)号：WO2004057378A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/EP2003/014543
申请日：2003-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
发明人： REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
IPC分类号： G02B1/10
CPC分类号： G02B1/18 , C23C14/5873 , G02B1/10 , G03F7/70958
摘要： Ein optisches Element (10; 10') weist einen Elementkörper (12) und eine auf dem Elementkörper (12) aufgebrachte Beschichtung (9; 18) zur Veränderung des Reflexionsvermögens auf. In der Beschichtung werden Korrekturstrukturen (23) zur Korrektur von Abbildungsfehlern erzeugt, z.B. durch lokalen Materialabtrag oder durch lokales Verändern der Brechzahl. Falls die Beschichtung (18) eine nach aussen weisende Abschlussschicht (186) sowie eine oder mehrere zwischen der Abschlussschicht (186) und dem Elementkörper (12) angeordnete Zwischenschichten (181 bis 185) um fasst, so enthält vorzugsweise nicht die Abschlussschicht (186), sondern eine der Zwischenschichten (185) die Korrekturstrukturen (23). Das optische Element (10; 10') ist mechanisch stabiler und kontaminationsbeständiger als optische Elemente, bei denen unmittelbar von dem Elementkörper Material zur Erzielung einer Korrekturwirkung abgetragen wird.
摘要翻译：的光学元件（10; 10“）具有一个元件主体（12）和在元件主体（12）的反射率（9 18）施加的涂层，上的变化。在涂覆修正结构（23）用于成像误差，例如的校正产生通过局部去除材料或通过局部改变折射率。如果涂层（18）具有一个面向外的精加工层（186）和一个或覆盖层（186）和所述元件体之间更多（12），以便词语设置中间层（181〜185），因此优选地不包括所述帽层（186），但是中间层中的一个（185）的修正结构（23）。所述光学元件（10; 10“）是机械上更稳定和污染比其中立即从元件体材料中除去，以获得校正效果的光学元件具有抗性。

2. 发明申请

WO2007101860A1 OFF-AXIS-OBJEKTIVE MIT DREHBAREM OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：与旋转光学元件，离轴镜片
公开(公告)号：WO2007101860A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/EP2007/052105
申请日：2007-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70308 , G03F7/70983
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Objektiv und ein Verfahren zum Betreiben eines Objektivs, insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithografie zur Abbildung eines Retikels auf einen Wafer, mit einer Mehrzahl von optischen Elementen, die entlang eines Strahlengangs angeordnet sind, wobei mindestens ein optisches Element (1) erster Art vorgesehen ist, welches von einem Strahlenbündel nur teilweise bestrahlt wird, wobei das oder mehrere optische Elemente erster Art um die oder parallel zur optischen Achse drehbar gelagert oder positionierbar sind, wobei für jedes optische Element erster Art mindestens zwei, vorzugsweise mehrere Lagerpositionen vorgesehen sind und wobei der Drehwinkel zwischen zwei Lagerpositionen durch die durch das Strahlenbündel bestrahlte Fläche (7) derart definiert ist, dass in den verschiedenen Lagerpositionen die von dem Strahlenbündel bestrahlten Flächen nicht überlappen.
摘要翻译：本发明涉及一种透镜和用于微光刻对掩模版的成像的投影或照明物镜具有多个沿光路设置的光学元件的操作的透镜，特别是在晶片上的方法，其中至少一个光学元件是（1）第一类型的设置，其通过辐射束只照射部分，其中，所述或多个第一类型的光学元件或安装平行于光学轴线旋转或可被定位，其中，多个用于第一类型的至少两个的每一个光学元件，优选提供存储位置，并且其中所述旋转由所述光束的表面照射限定的两个轴承位置之间的角度（7），使得在由所述光束照射的表面的各种存储位置不重叠。

3. 发明申请

WO2007009543A1 PELLICLE FOR USE IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微波曝光装置的胶囊
公开(公告)号：WO2007009543A1
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：PCT/EP2006/005833
申请日：2006-06-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GÖHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra
IPC分类号： G03F1/14 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/62 , G03F7/70308 , G03F7/70341
摘要： A pellicle for use in a microlithographic exposure apparatus (10) has, for an operating wavelength of the apparatus, a maximum transmittance for light rays (56) that obliquely impinge on the pellicle (34; 134; 234) . This ensures smaller variations of the transmittance over a broad range of angles of incidence, as it occurs in very high numerical aperture projection lenses.
摘要翻译：在微光刻曝光设备（10）中使用的防护薄膜组件对于设备的工作波长具有倾斜撞击防护薄膜组件（34; 134; 234）上的光线（56）的最大透射率。这确保了在宽的入射角范围内的透射率的变化较小，因为它在非常高的数值孔径投影透镜中出现。

4. 发明申请

WO2006053705A1 VERFAHREN ZUM SCHUTZ EINES METALLSPIEGELS GEGEN DEGRADATION SOWIE METALLSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：一种保护金属镜抗降解和金属镜
公开(公告)号：WO2006053705A1
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012197
申请日：2005-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜLLENDER, Angelika , HAIDL, Markus , FELDERMANN, Horst
发明人： ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜLLENDER, Angelika , HAIDL, Markus , FELDERMANN, Horst
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/11
CPC分类号： G02B5/283 , G02B1/111 , G02B5/0808
摘要： Bei einem Verfahren zum Schutz eines Metallspiegels für Ultraviolettstrahlung mit Wellenlängen zwischen ca. 120 nm und ca. 260 nm gegen Degradation von Reflexionseigenschaften durch Umwelteinflüsse wird ein Metallspiegel, der bei einer bevorzugten Ausführungsform eine Metallschicht aus Aluminium hat, mit einer Schutzschicht beschichtet, die bei einer bevorzugten Variante aus Chiolith (Na5AI3F14) besteht. Ein derartig dielektrisch geschützter Metallspiegel weist im Vergleich zu herkömmlichen dielektrisch geschützten Metallspiegeln eine geringere Degradation des Reflexionsvermögens bei Lagerung in Umgebungsatmosphäre auf. Auch die Beständigkeit gegen Degradation durch UV-Strahlung ist gegenüber herkömmlichen dielektrisch geschützten Metallspiegeln verbessert.
摘要翻译：在用于保护金属反射镜为约120nm至约260 nm至的反射特性由于环境影响降解之间的波长的紫外辐射的方法中，具有的铝金属层的金属镜，在一个优选实施例中，在涂有保护层锥冰晶石的优选的变体（Na5AI3F14）组成。这样的电介质保护层的金属反射镜，相对于传统的介质保护金属反射镜反射率的下降解当存储在环境大气中。另外，为了降解抗性通过UV辐射比常规的介电保护的金属反射镜提高。

5. 发明申请

WO2003076086A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DEKONTAMINATION OPTISCHER OBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：方法和装置光学表面去污
公开(公告)号：WO2003076086A1
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2003/002464
申请日：2003-03-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LÜDECKE, Jens , ZAZCEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜHLPFORDT, Annette , THIER, Michael , WIESNER, Stefan
发明人： LÜDECKE, Jens , ZAZCEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜHLPFORDT, Annette , THIER, Michael , WIESNER, Stefan
IPC分类号： B08B7/00
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B7/0057
摘要： 1. Verfahren und Vorrichtung zur Dekontamination optischer Oberflächen. 2.1. Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Dekontamination von Oberflächen strahlführender Optiken unter Verwendung von UV-Strahlung in einer Reinigungsatmosphäre. 2.2. Erfindungsgemäss liegt die Wellenlänge der verwendeten UV-Strahlung in einem Bereich starker Sauerstoffabsorption, und die Reinigungsatmosphäre weist eine Sauerstoffkonzentration kleiner als diejenige von Luft auf. 2.3. Verwendung z.B. zur Reinigung der Oberflächen strahlführender Optiken von Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译： 1.一种用于光学表面的净化方法和设备。 2.1。本发明涉及一种用于光束导向光学器件的表面的净化的方法和装置，用紫外辐照在清洁的气氛。 2.2。根据本发明，在氧的强吸收的区域所使用的UV辐射，并且清洁大气的波长的氧浓度小于空气的。 2.3。例如使用用于清洁微光刻投射曝光系统的光束导向光学元件的表面上。

6. 发明申请

WO2009143879A1 AN ELEMENT, IN PARTICULAR AN OPTICAL ELEMENT, FOR IMMERSION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：一个元素，特别是一个光学元素，用于倾斜图
公开(公告)号：WO2009143879A1
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：PCT/EP2008/010141
申请日：2008-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , SIX, Stephan , DÜSING, Rüdiger , FEDOSENKO, Gennady , VON PAPEN, Tilmann , ZACZEK, Christoph , HENSCHEL, Wolfgang
发明人： PAZIDIS, Alexandra , SIX, Stephan , DÜSING, Rüdiger , FEDOSENKO, Gennady , VON PAPEN, Tilmann , ZACZEK, Christoph , HENSCHEL, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G02B1/10
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B3/06 , G02B13/143 , G02B17/0892 , G03F7/70341
摘要： The present invention relates to an optical element (1) having an optically free diameter, the optical element comprising: a material that is transparent to wavelengths in the ultraviolet region, at least one of an oleophobic coating (6, 7) outside of the optically free diameter and an oleophilic coating (9b, 9c) which is transparent to wavelengths in the UV region inside the optically free diameter, wherein at least one of the oleophobic coating (6, 7) and the oleophilic coating (9b, 9c) is at least one of microstructured and arranged on a microstructured surface (2, 4, 5) of the optical element (1). The present invention also relates to an element having at least one contact area that can be brought into contact with an immersion fluid, the contact area comprising a microstructure or nanostructure produced by material removal and/or comprising a coating stabilised with respect to UV irradiation.
摘要翻译：本发明涉及具有光学自由直径的光学元件（1），该光学元件包括：对紫外线区域的波长透明的材料，光学上外部的疏油涂层（6,7）中的至少一个自由直径和对光学自由直径内的UV区域中的波长透明的亲油性涂层（9b，9c），其中疏油涂层（6,7）和亲油涂层（9b，9c）中的至少一个处于至少一个微结构并布置在光学元件（1）的微结构化表面（2,4,5）上。本发明还涉及具有至少一个能够与浸没流体接触的接触区域的元件，所述接触区域包括通过材料去除产生的微结构或纳米结构和/或包括相对于UV照射而稳定的涂层。

7. 发明申请

WO2007065769A1 VERFAHREN ZUR BEARBEITUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTES SOWIE OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：方法处理的光学元件和ELEMENT
公开(公告)号：WO2007065769A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/EP2006/068319
申请日：2006-11-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , HIRNET, Alexander , FINK, Herbert , SCHMEREK, Dieter
发明人： PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , HIRNET, Alexander , FINK, Herbert , SCHMEREK, Dieter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bearbeitung eines optisches Elementes, welches ein Substrat (110) und ein auf diesem Substrat (110) aufgebrachtes Schichtsystem (120) aufweist, wobei das Schichtsystem (120) in einem Ausgangszustand eine Mehrzahl von Volumendefekten (130) aufweist, wobei das Verfahren den Schritt aufweist: Wenigstens teilweises Auffüllen wenigstens eines der Volumendefekte (130) mit einem Füllmaterial (140) . Die Erfindüng betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Elementes.
摘要翻译：本发明涉及包括处理包括衬底（110）的光学元件的方法和在所述衬底（110）施加的层系统（120），其中所述层系统（120）包括在初始状态的多个体积的缺陷（130）的，所述方法包括以下步骤：至少部分地填充体积的缺陷（130）与填充材料（140）中的至少一个。所述Erfindüng还涉及一种用于制造光学元件的方法。

8. 发明申请

WO2010034367A1 DIELEKTRISCHER SPIEGEL UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG, SOWIE EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE MIT EINEM SOLCHEN SPIEGEL 审中-公开
标题翻译：绝缘镜及制造方法和投射曝光系统，微光刻技术这样的镜子
公开(公告)号：WO2010034367A1
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：PCT/EP2009/004814
申请日：2009-07-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra
发明人： PAZIDIS, Alexandra
IPC分类号： G02B5/08 , C23C14/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/0833 , G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft einen reflektierenden dielektrischen Spiegel, der mindestens einen gemischten Schichtstapel (B) aus einer alternierenden Folge von fluoridischen und oxidischen Schichten zwischen einem oxidischen Schichtstapel (C) und einem fluoridischen Schichtstapel (A) aufweist. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines solchen reflektierenden dielektrischen Spiegels, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem solchen reflektierenden dielektrischen Spiegel.
摘要翻译：本发明涉及的反射介质镜，氧化物层堆叠（C）和一个fluoridic层堆叠（A）之间fluoridic和氧化物层的交替序列的至少一个混合层堆叠（B）。此外，本发明涉及一种用于制造这样的反射介质镜，以及具有至少一个这样的反射介质镜的投射曝光系统的方法。

9. 发明申请

WO2009062665A2 OPTICAL ELEMENT FOR THE REFLECTION OF UV RADIATION, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING THE SAME 审中-公开
标题翻译：用于反射紫外线辐射的光学元件，其制造方法和包括其的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009062665A2
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/EP2008/009512
申请日：2008-11-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , FELDERMANN, Horst , HUBER, Peter
发明人： PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , FELDERMANN, Horst , HUBER, Peter
IPC分类号： G02B5/08 , G02B17/08
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/0833 , G03F7/70316 , G03F7/70958
摘要： The invention relates to an optical element (1a, 1b) for the reflection of UV radiation at an operating wavelength below 250 nm, preferably at 193 nm, comprising: a substrate (2a, 2b), a reflective layer (3a, 3b) made of aluminum superimposed on the substrate (2a, 2b), the reflective aluminum layer (3a, 3b) not being transparent to UV radiation. The reflective aluminum layer (3a, 3b) is (111)-plane oriented, and the reflective optical element (1a, 1b) has a reflectivity of more than 85 %, preferably of more than 88 %, more preferably of more than 92 %, in at least a range of incident angles of 10°, preferably of 15°, at the operating wavelength. The invention also relates to an optical element having a reflective layer made from a material having a higher melting point than aluminum, to methods for producing such optical elements, and to optical arrangements comprising such optical elements.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在工作波长低于250nm，优选193nm下反射UV辐射的光学元件（1a，1b），包括：基底（2a，2b），制成的反射层（3a，3b）的铝叠加在基板（2a，2b）上，反射铝层（3a，3b）对UV辐射不透明。反射铝层（3a，3b）为（111）面取向，反射光学元件（1a，1b）的反射率大于85％，优选大于88％，更优选大于92％在工作波长的入射角至少为10°，优选为15°的范围内。本发明还涉及具有由具有比铝更高的熔点的材料制成的反射层的光学元件，以及用于制造这种光学元件的方法以及包括这种光学元件的光学装置。

10. 发明申请

WO2007025783A2 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A2
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008605
申请日：2006-09-04
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
发明人： KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage enthält ein optisches Element (36), das zur Verringerung oder Erhöhung des Reflexionsvermögens eine Antireflex- Beschichtung (32) bzw. eine Reflex-Beschichtung trägt. Erfindungsgemäß ist die Antiref lex-Beschichtung derart ausgelegt, daß über einen Einfallswinkelbereich von 70° hinweg sich die Transmissionskoeffizienten der Antire- flex-Beschichtung für zueinander orthogonale Polarisationszustände (42p 42s) um nicht mehr als 10%, vorzugsweise um nicht mehr als 3%, weiter vorzugsweise um nicht mehr als 1%, voneinander unterscheiden. Entsprechendes gilt für den Reflexionskoeffizienten der Reflex-Beschichtung. Zu Korrektur von Fehlern, die durch größere Winkelabhängigkeiten des mittleren Transmissions- oder Ref lexionskoeffizienten und der Wirkung auf die Phase verursacht sind, enthält die Projektionsbelichtungsanlage Mittel (50) zur Homogenisierung einer Intensitätsverteilung, die vorzugsweise in oder in der Nähe einer Feld- oder Pupillenebene angeordnet sind.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包含BEAR为lt光学元件（36）用于减少或玉儿＆OUML;反射率＆OUML的红;一族的防反射涂层（32）和反射涂层TR＆AUML; GT。发明＆AUML;大街例如，抗反射涂层被设计成使得？在70°的入射角范围内。中的时间，Antire-柔性涂层˚F导航用途r的传输系数相互正交的偏振不超过10％的状态HANDS（42P 42S），优选不超过3％，更优选不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。对于由GR＆ouml错误校正;道路ERE引起所述相位中间传动或REF lexionskoeffizienten和效果的角度依赖性BEAR包含保持所述投射曝光系统的装置（50），用于在均质化的强度BEAR tsverteilung，优选或者在场或瞳孔飞机附近。

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