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1. 发明申请

WO2010049020A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统微EUV光刻
公开(公告)号：WO2010049020A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/EP2009/005113
申请日：2009-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
发明人： DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70558
摘要： Eine Beleuchtungsoptik (47) für die EUV-Mikrolithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (19) mit einem EUV-Nutzstrahlungsbündel (3). Zur Vorgabe von Beleuchtungsparametern dienen Vorgabeeinrichtungen (6, 10). Zur Korrektur der Intensitätsverteilung und/oder der Winkelverteilung der Objektfeldbeleuchtung dient eine Beleuchtungs-Korrektureinrichtung. Diese hat eine zumindest teilweise mit dem Nutzstrahlungsbündel (3) vor dem Objektfeld (19) beaufschlagte und gesteuert angetrieben verlagerbare optische Komponente (13). Ein Detektor (50, 53) dient zur Erfassung eines der Beleuchtungsparameter. Eine Auswerteeinrichtung (31) dient zur Auswertung der Detektordaten und zur Umsetzung von diesen in Steuersignale. Mindestens ein Aktor (61, 62) dient zur Verlagerung der optischen Komponente (13). Während Belichtungen werden die Stellelemente so mit den Detektorsignalen geregelt, dass während der Dauer einer Projektionsbelichtung eines maximale Verlagerung von Rändern des Objektfeldes (19) zu einem zu belichtenden Objekt (18) von unter 8 μm gewährleistet ist. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der die Einhaltung vorgegebener Beleuchtungsparameter auch bei höchsten Präzisionsanforderungen gewährleistet
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学部件（47）用于与EUVNutzstrahlungsbündel（3）照明物场（19）。用于指定照明参数指示装置用作（6，10）。照明校正装置用于校正的强度分布和/或物场照明的角度分布。这已作用于至少部分与所述物场（19）和控制驱动可移动光学部件（13）的Nutzstrahlungsbündel（3）的上游。的检测器（50，53）用于检测所述照明参数中的一个。的评估装置（31），用于将检测器数据的评估并将其转换成控制信号。至少一个致动器（61，62）用于将光学部件（13）的位移。在曝光被控制以便与被保证在物场（19）的边缘的最大位移的投影曝光的持续时间的对象的检测器信号中的调节元件，以小于8微米（18）被暴露。其结果是与即使在最高的精度要求具有特定照明参数确保符合的照明光学部件

2. 发明申请

WO2009132756A1 ILLUMINATION OPTICS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于EUV微结构和照明系统的照明光学和包含这种类型的照明光学的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009132756A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002584
申请日：2009-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083
摘要： An illumination optics for EUV microlithography serves for guiding an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension (x) and a shorter field dimension (y), the ratio being considerably greater than 1. A field facet mirror (13) has a plurality of field facets (19) for setting defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror (13) serves for transmitting the illumination light into the object field (5). The following optics comprises a pupil facet mirror (14) with a plurality of pupil facets (27). The field facets (19) are in each case individually allocated to the pupil facets (27) so that portions of the illumination light bundle (10) impinging upon in each case one of the field facets (19) are guided on to the object field (5) via the associated pupil facet (27). The field facet mirror (13) not only comprises a plurality of basic illumination field facets (19 G ) which provide a basic illumination of the object field (5) via associated basic illumination pupil facets (27 G ) but also a plurality of correction illumination field facets (19 K ) which provide for a correction of the illumination of the object field (5) via associated correction illumination pupil facets (27 K ). The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学器件用于将照明光束从辐射源引导到物场，其具有在较长场尺寸（x）和较短场尺寸（y）之间的延伸比，该比率远大于1。场面反射镜（13）具有多个场面（19），用于在对象场中设定定义的照明条件。场面反射镜（13）下游的跟随光学器件用于将照明光发射到物场（5）中。以下光学器件包括具有多个光瞳面（27）的光瞳小面镜（14）。场分面（19）在每种情况下分别被分配给光瞳面（27），使得照射光束（10）中的每一个场景面（19）中的一个照射的部分被引导到物场（5）通过相关联的光瞳面（27）。场面反射镜（13）不仅包括通过相关联的基本照明光瞳（27G）提供对象场（5）的基本照明的多个基本照明场面（19G），而且还包括多个校正照明场面（19K），其经由相关联的校正照明光瞳面（27K）提供对物场（5）的照明的校正。结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

3. 发明申请

WO2008101656A2 METHOD FOR PRODUCING FACET MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：生产面镜和投影曝光装置的方法
公开(公告)号：WO2008101656A2
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/EP2008/001247
申请日：2008-02-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WARM, Berndt , RENNON, Sigfried , DINGER, Udo , BAIER, Jürgen , BURKART, Stefan , KOUROULIS, Christos , CHUNG, Hin Yiu Anthony , WIESNER, Stefan , ENKISCH, Hartmut , DENGEL, Günther
发明人： WARM, Berndt , RENNON, Sigfried , DINGER, Udo , BAIER, Jürgen , BURKART, Stefan , KOUROULIS, Christos , CHUNG, Hin Yiu Anthony , WIESNER, Stefan , ENKISCH, Hartmut , DENGEL, Günther
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/20 , G02B7/18
CPC分类号： G02B5/08 , B29D11/00596 , G02B5/09 , G03F7/702 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to methods for producing mirrors, in particular facet mirrors, and projection exposure apparatuses equipped with the mirrors according to the invention.
摘要翻译：本发明涉及用于生产反射镜，特别是小平面反射镜的方法以及配备有根据本发明的反射镜的投影曝光装置。

4. 发明申请

WO2009100856A1 FACET MIRROR FOR USE IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于微型计算机投影曝光装置的FACET MIRROR
公开(公告)号：WO2009100856A1
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：PCT/EP2009/000825
申请日：2009-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , ENDRES, Martin , WERBER, Armin , MÜHLBERGER, Norbert , BACH, Florian
发明人： DINGER, Udo , ENDRES, Martin , WERBER, Armin , MÜHLBERGER, Norbert , BACH, Florian
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/06 , G02B26/0816 , G02B26/0833 , G02B27/0927 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： A facet mirror is to be used as a bundle-guiding optical component in a projection exposure apparatus for microlithography. The facet mirror has a plurality of separate mirrors (21). For individual deflection of incident illumination light, these separate mirrors (21) are in each case connected to an actuator in such a way that they are separately tiltable about at least one tilt axis (x, y). A control device, which is connected to the actuators, is configured in such a way that a given grouping of the separate mirrors (21) can be grouped into separate mirror groups (19) comprising in each case at least two separate mirrors (21). The result is a facet mirror which, when installed in the projection exposure apparatus, increases the variability for setting various illumination geometries of an object field to be illuminated by the projection exposure apparatus. Various embodiments of separate mirrors for forming the facet mirrors are described.
摘要翻译：在用于微光刻的投影曝光装置中，将使用小平面镜作为束引导光学部件。小平面镜具有多个独立的反射镜（21）。对于入射照明光的单独偏转，这些分离的反射镜（21）在每种情况下都连接到致动器，使得它们可以围绕至少一个倾斜轴（x，y）分开倾斜。连接到致动器的控制装置被配置成使得分立的反射镜（21）的给定分组可以分组成分离的反射镜组（19），每个反射镜组（19）在每种情况下包括至少两个分离的反射镜（21）。其结果是，当安装在投影曝光装置中时，增加了用于设置由投影曝光装置照亮的对象场的各种照明几何形状的可变性的刻面镜。描述了用于形成小平面反射镜的分立反射镜的各种实施例。

5. 发明申请

WO2005040925A1 EUV-PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT SPIEGELN AUS MATERIALIEN MIT UNTERSCHIEDLICHEM VORZEICHEN DER STEIGUNG DER TEMPERATURABHÄNGIGKEIT DES WÄRMEAUSDEHNUNGSKOEFFIZIENTEN NAHE DER NULLDURCHGANGSTEMPERATUR 审中-公开
标题翻译：具有不同标牌材料接近零隧道温度的热膨胀系数的温度依赖性的斜率MIRROR EUV投影镜头
公开(公告)号：WO2005040925A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2003/010761
申请日：2003-09-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , EISERT, Frank , KOEHLER, Stefan , OCHSE, Andreas , ZELLNER, Johannes , LOWISCH, Martin , LAUFER, Timo
发明人： DINGER, Udo , EISERT, Frank , KOEHLER, Stefan , OCHSE, Andreas , ZELLNER, Johannes , LOWISCH, Martin , LAUFER, Timo
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B1/00 , G02B5/0891 , G02B7/181 , G03F7/70891 , G21K1/062 , G21K2201/065
摘要： Ein Projektionsobjektiv (1) für kurze Wellenlängen, insbesondere für Wellenlängen λ
摘要翻译：投影透镜（1），用于短的波长，特别是对于波长的λ<具有多个反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6），其位于精确地定位于光轴（5）的157纳米，提供。反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6）包括多层涂层。至少两种不同的反射镜的材料作为温度的在过零的热膨胀系数的范围内的功能，特别是在尺寸的符号，不同之处设置系数的热膨胀的斜率。

6. 发明申请

WO2007003359A1 KOLLEKTOREINHEIT FÜR EIN BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT WELLENLÄNGEN ≤ 193 NM 审中-公开
标题翻译： COLLECTOR单元，用于与波长= 193纳米照明系统
公开(公告)号：WO2007003359A1
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/EP2006/006356
申请日：2006-06-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang
发明人： DINGER, Udo , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： Die Erfindung betrifft eine Kollektoreinheit für ein Beleuchtungssystem mit Wellenlängen ≤ 193 nm, insbesondere im EUV Bereich, auf welche Strahlen eines Strahlbüschels auftreffen. Die Kollektoreinheit ist gekennzeichnet durch eine Porenstruktur (4), welche aus auf einer Unterseite reflektierenden, übereinander stapelbaren Schalen (1) mit einer vorgegebenen Krümmung gebildet ist. Die Schalen weisen auf einer Oberseite Stege (3) auf.
摘要翻译：本发明涉及一种收集器单元，用于在EUV范围内，在其上光束束的射线撞击与波长的照明系统= 193纳米，特别是。集流单元的特征在于，其上的下反射叠加可堆叠外壳（1）由预定曲率形成的孔结构（4）。壳具有在上侧纤维网（3）。

7. 发明申请

WO2006050891A2 A HIGH-PRECISION OPTICAL SURFACE PREPARED BY SAGGING FROM A MASTERPIECE 审中-公开
标题翻译：从MASTERPIECE发出的高精度光学表面
公开(公告)号：WO2006050891A2
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：PCT/EP2005/011894
申请日：2005-11-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EGLE, Wilhelm , DINGER, Udo , MATTHES, Axel
发明人： EGLE, Wilhelm , DINGER, Udo , MATTHES, Axel
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20 , B24B13/00
CPC分类号： G03F7/70166 , C03B23/0252 , C03B23/0357 , G03F7/70175 , G03F7/70958 , G21K1/06 , G21K2201/067
摘要： A method of making a high-precision optical surface which may be used either as a Wolter-type segment in an X-ray mirror system or in a collector of a EUVL system or as a spherical, aspherical, or free form normal or grazing incidence mirror in an EUVL system is prepared by sagging a thin flat glass sheet onto a masterpiece, in particular a mandrel, made from a temperature-resistant material, such as an alumina based ceramic or a keatite glass ceramic. The glass sheet is polished to the desired surface roughness (14), is positioned to an upper surface of the masterpiece (16), and is heated (18) to effect sagging onto the upper surface of the masterpiece for generating a shaped body. Thereafter, the shaped body is cooled and removed from the masterpiece, is mounted within a holder (22), is inspected for deviations from the specification (24) preferably using interferometric measurements, and is corrected for defects (26), preferably using ion beam figuring.
摘要翻译：制造高精度光学表面的方法，其可以用作X射线镜系统中的Wolter型片段或EUVL系统的收集器中，或者用作球形，非球面或游离形式的正常或掠入射 EUVL系统中的镜子是通过将薄平板玻璃片放在由诸如氧化铝基陶瓷或酮钙玻璃陶瓷的耐温材料制成的杰作（特别是心轴）上制备的。玻璃板被抛光到所需的表面粗糙度（14），被定位在杰作（16）的上表面上，并且被加热（18）以在下降到用于产生成形体的杰作的上表面上。此后，成形体被冷却并从杰作中移除，安装在保持器（22）内，优选地使用干涉测量来检查与规格（24）的偏差，并且对缺陷进行校正（26），优选使用离子束搞清楚。

8. 发明申请

WO2003096356A3 REFLEKTIVES RÖNTGENMIKROSKOP UND INSPEKTIONSSYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLÄNGEN ≤ 100NM 审中-公开
公开(公告)号：WO2003096356A3
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/EP2003/004803
申请日：2003-05-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
发明人： MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
IPC分类号： G21K7/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein reflektives Röntgenmikroskop zur Untersuchung eines Objektes in einer Objektebene, wobei das Objekt mit Strahlung einer Wellenlänge

9. 发明申请

WO2009036957A1 BUNDLE-GUIDING OPTICAL COLLECTOR FOR COLLECTING THE EMISSION OF A RADIATION SOURCE 审中-公开
标题翻译：用于收集辐射源排放的组合光学收集器
公开(公告)号：WO2009036957A1
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/EP2008/007756
申请日：2008-09-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , WETH, Christopher
发明人： DINGER, Udo , WETH, Christopher
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70175 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G03F7/70083 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G21K2201/064
摘要： A bundle-guiding optical collector (10) serves for collecting an emission of a radiation source (2) and for forming a radiation bundle from the collected emission. A reflective surface of the collector (10) is the first bundle- forming surface downstream of the radiation source (2). The reflective sur face is formed such that it converts the radiation source (2) into a family of images in a downstream plane (11), the family of images consisting of a plurality of radiation source images (19) which are offset to each other in two dimensions (x, y) in a direction perpendicular to the beam direction (13) of the transformed radiation bundle (8) and are arranged relative to each other in a non-rotationally symmetric manner relative to the beam direction (13) of the transformed radiation bundle (8), with the result that the transformed radiation bundle (8) in the downstream plane (11) has a non-rotationally symmetric bundle edge contour (11a) relative to the beam direction (13) of the transformed radiation bundle (8). The result is a collector in which the radiation bundle shape generated by said collector, in other words the illumination distribution generated by said collector in a defined manner in the plane downstream of the collector, has a shape which is freely selectable to the greatest possible extent.
摘要翻译：束引导光收发器（10）用于收集辐射源（2）的发射并用于从所收集的发射形成辐射束。收集器（10）的反射表面是辐射源（2）下游的第一束形成表面。反射表面形成为使得其在下游平面（11）中将辐射源（2）转换成一系列图像，所述图像族由彼此偏移的多个辐射源图像（19）组成在垂直于变换辐射束（8）的光束方向（13）的方向上的二维（x，y）中并相对于光束方向（13）以非旋转对称的方式相对于彼此布置变换的辐射束（8），结果是下游平面（11）中的变换的辐射束（8）相对于变换的辐射的光束方向（13）具有非旋转对称的束边缘轮廓（11a）束（8）。结果是由集电体产生的辐射束形状的集电体，换句话说，由集电体在集电体下游的平面中以规定的方式产生的照明分布具有可以最大可能地自由选择的形状。

10. 发明申请

WO2008145364A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTES MIT HILFE VON ABFORMUNG, OPTISCHES ELEMENT HERGESTELLT NACH DIESEM VERFAHREN, KOLLEKTOR UND BELEUCHTUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：方法制造光学元件中使用的印象，光学元件制造的这种方法，采集器和照明系统
公开(公告)号：WO2008145364A2
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/EP2008/004273
申请日：2008-05-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , BINGEL, Ulrich , ERXMEYER, Jeffrey , ERZIN, Eral , WEIGL, Bernhard , BRUYNOOGHE, Stephane
发明人： DINGER, Udo , BINGEL, Ulrich , ERXMEYER, Jeffrey , ERZIN, Eral , WEIGL, Bernhard , BRUYNOOGHE, Stephane
CPC分类号： C25D1/06 , B82Y10/00 , C23C14/0005 , C23C28/023 , C23C28/322 , C23C28/345 , C23C28/42 , C25D7/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/70166 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/067 , Y10T29/49812
摘要： Verfahren zur Herstellung eines optischen Elementes oder Teil eines optischen Elementes mit einem Grundkörper umfassend folgende Schritte: - Bereitstellung eines Abformkörpers (21, 1000, 2000) mit einer Oberfläche, die der Geometrie des optischen Elementes entspricht; - Abscheiden eines Schichtsystems (7), umfassend mindestens ein Trennschichtsystem (15, 1010, 2010) auf der Oberfläche des Abformkörpers (21, 1000, 2000); - Elektroformen eines Grundkörpers (4, 1030, 2030) auf dem Schichtsystem (7); - Ablösen wenigstens des Grundkörpers am Trennschichtsystem (15, 1010, 2010) vom Abformkörper (21, 1000, 2000).
摘要翻译：一种制造具有基体，包括以下步骤的光学元件的光学元件或部件的方法： - 提供具有对应于光学元件的几何形状表面的心轴（21，1000，2000）; - 沉积层系统（7）Abformkörpers（21，1000，2000）的表面上，包括至少一个分离层系统（15，1010，2010）; - 该层系统在基体上（如图4所示，1030，2030）的电铸（7）; - 至少在从Abformkörper分离层系统（15，1010，2010）（21，1000，2000）在基体的脱离。

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