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1. 发明申请

WO2006128613A1 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：微观投影目标
公开(公告)号：WO2006128613A1
公开(公告)日：2006-12-07
申请号：PCT/EP2006/004876
申请日：2006-05-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KALLER, Julian , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , KAMENOV, Vladimir , EPPLE, Alexander
发明人： KALLER, Julian , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , KAMENOV, Vladimir , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B17/08 , G03F7/702 , G03F7/70283 , G03F7/70941
摘要： Microlithography projection objectives for imaging into an image plane a pattern arranged in an object plane are described with respect to suppressing false light in such projection objectives.
摘要翻译：关于在这样的投影物镜中抑制假光，描述用于成像到平面中的布置在物体平面中的图案的微光刻投影物镜。

2. 发明申请

WO2007025783A2 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A2
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008605
申请日：2006-09-04
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
发明人： KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage enthält ein optisches Element (36), das zur Verringerung oder Erhöhung des Reflexionsvermögens eine Antireflex- Beschichtung (32) bzw. eine Reflex-Beschichtung trägt. Erfindungsgemäß ist die Antiref lex-Beschichtung derart ausgelegt, daß über einen Einfallswinkelbereich von 70° hinweg sich die Transmissionskoeffizienten der Antire- flex-Beschichtung für zueinander orthogonale Polarisationszustände (42p 42s) um nicht mehr als 10%, vorzugsweise um nicht mehr als 3%, weiter vorzugsweise um nicht mehr als 1%, voneinander unterscheiden. Entsprechendes gilt für den Reflexionskoeffizienten der Reflex-Beschichtung. Zu Korrektur von Fehlern, die durch größere Winkelabhängigkeiten des mittleren Transmissions- oder Ref lexionskoeffizienten und der Wirkung auf die Phase verursacht sind, enthält die Projektionsbelichtungsanlage Mittel (50) zur Homogenisierung einer Intensitätsverteilung, die vorzugsweise in oder in der Nähe einer Feld- oder Pupillenebene angeordnet sind.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包含BEAR为lt光学元件（36）用于减少或玉儿＆OUML;反射率＆OUML的红;一族的防反射涂层（32）和反射涂层TR＆AUML; GT。发明＆AUML;大街例如，抗反射涂层被设计成使得？在70°的入射角范围内。中的时间，Antire-柔性涂层˚F导航用途r的传输系数相互正交的偏振不超过10％的状态HANDS（42P 42S），优选不超过3％，更优选不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。对于由GR＆ouml错误校正;道路ERE引起所述相位中间传动或REF lexionskoeffizienten和效果的角度依赖性BEAR包含保持所述投射曝光系统的装置（50），用于在均质化的强度BEAR tsverteilung，优选或者在场或瞳孔飞机附近。

3. 发明申请

WO2008145296A9 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY, MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH SAID PROJECTION OBJECTIVE, MICROLITHOGRAPHIC MANUFACTURING METHOD FOR COMPONENTS, AS WELL AS A COMPONENT MANUFACTURED WITH SAID METHOD 审中-公开
公开(公告)号：WO2008145296A9
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/EP2008/004084
申请日：2008-05-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KRAEHMER, Daniel , KAMENOV, Vladimir , TOTZECK, Michael , GOEHNERMEIER, Aksel
发明人： KRAEHMER, Daniel , KAMENOV, Vladimir , TOTZECK, Michael , GOEHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Projection objectives of current designs for use in microlithography have a stray light component which varies over the exposure field. The variation of the stray light component over the field can be reduced and/or adapted to the variation of another projection objective by introducing additional stray light. This is accomplished advantageously by pre-adapting or altering the surface roughness of a field- proximate surface and/or by installing optical elements with specifically targeted light scattering properties in a pupil plane. In this, the invention makes use of the observation that the variation of the stray light component over the field and the different respective variations of the stray light components of different projection objectives present greater problems to the manufacturers of semiconductor components than the stray light component itself. Particularly in projection objectives for immersion lithography where a strongly scattering polycrystalline material is used, the invention provides a way to compensate for the increased variation of the stray light component of these projection objectives over the field and to thereby arrive at a stray light component that is constant over the entire field. Furthermore, particularly in the case of projection objectives for EUV lithography, which exhibit a higher stray light component than conventional projection objectives, it is possible to adapt different projection objectives to each other in regard to the stray light component and/or the variation of the stray light component over the exposure field.

4. 发明申请

WO2008145295A9 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY, MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH SAID PROJECTION OBJECTIVE, MICROLITHOGRAPHIC MANUFACTURING METHOD FOR COMPONENTS, AS WELL AS A COMPONENT MANUFACTURED WITH SAID METHOD 审中-公开
公开(公告)号：WO2008145295A9
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/EP2008/004081
申请日：2008-05-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KRAEHMER, Daniel , KAMENOV, Vladimir , TOTZECK, Michael
发明人： KRAEHMER, Daniel , KAMENOV, Vladimir , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Projection objectives of current designs for use in microlithography have a stray light component (503) which varies over the exposure field. The variation of the stray light component over the field can be reduced by introducing additional stray light. This is accomplished advantageously by pre-adapting or altering the surface roughness of a field- proximate surface. In this, the invention makes use of the observation that the variation of the stray light component over the field presents greater problems to the manufacturers of semiconductor components than the stray light component itself. Particularly in projection objectives for immersion lithography where a strongly scattering polycrystalline material is used, the invention provides a way to compensate for the increased variation of the stray light component (502) of these projection objectives over the field and to thereby arrive at a stray light component (501) that is constant over the entire field.

5. 发明申请

WO2004092842A1 OPTICAL SYSTEM, METHOD OF ALTERING RETARDANCES THEREIN AND PHOTOLITHOGRAPHY TOOL 审中-公开
标题翻译：光学系统，改变其延迟的方法和光刻工具
公开(公告)号：WO2004092842A1
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/EP2003/004015
申请日：2003-04-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
发明人： KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B5/3091 , G02B17/02 , G02B17/08 , G02B17/0892 , G03F7/70241 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： An optical system, for example a lens for a photolithography tool, includes a group of optical elements (L1, L2) that each comprise a birefringent cubic crystal such as CaF 2 . The crystal lattices of the crystals have different orientations, e.g. for reducing the overall retardance of the group by mutual compensation. The [110] crystal axis of at least one optical element (L1, L2) is tilted with respect to an optical axis (34) of the system (10) by a predefined tilting angle (θ 1 , θ 2 ) having an absolute value between 1° and 20°. This reduces the magnitude, but not significantly change the orientation of intrinsic birefringence. By selecting an appropriate tilting angle it is possible to achieve a better performance of the optical system. For example, the overall retardance of the optical system may be reduced, or the angular retardance distribution may be symmetrized.
摘要翻译：光学系统，例如用于光刻工具的透镜，包括一组光学元件（L1，L2），每组包括双折射立方晶体，例如CaF 2。晶体的晶格具有不同的取向，例如通过相互补偿减少集团的整体延迟。至少一个光学元件（L1，L2）的[110]晶轴相对于系统（10）的光轴（34）倾斜预定的倾斜角（θ1，θ2），绝对值介于1 °和20°。这降低了幅度，但并没有显着改变固有双折射的取向。通过选择适当的倾斜角度，可以实现光学系统的更好的性能。例如，可以减小光学系统的总体延迟，或者可以对角度延迟分布进行对称化。

6. 发明申请

WO2004023172A1 OPTIMIERVERFAHREN FÜR EIN OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN SOWIE OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：优化方法用氟晶镜头和镜头用氟晶镜头镜头
公开(公告)号：WO2004023172A1
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：PCT/EP2003/009167
申请日：2003-08-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
发明人： TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/02 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70241 , G03F7/705 , G03F7/70966 , Y10S359/90
摘要： Numerisches Optimierverfahren zum Bestimmen der optischen Daten eines Objektivs (1), insbesondere eines Projektionsobjektivs für eine Milcrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage, wobei mit dem Optimierverfahren eine Optimierfunkction minimiert wird. Mit dem Optimierverfahren wird der störende Einfluss der intrinsischen Doppelbrechung von Linsen (L101-L130) aus Fluorid-Kristall-Material mit kubischer Kristallstruktur reduziert, indem in der Optimierfunktion mindestens ein Doppelbrechungs-Bildfehler berücksichtigt wird, welcher basierend auf der Durchrechnung eines Strahls (7) durch die Fluorid-Kristall-Linsen bestimmt wird und welcher, soweit er von Parametern des Strahls abhängt, nur von geometrischen Parametern des Strahls abhängt. Mit dem numerischen Optimierverfahren werden Objektive (1) hergestellt, bei welchen sowohl eine optische Verzögerung als auch eine optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist. Die Objektive weisen dabei mehrere homogene Gruppen (HG1-HG7) auf, in welchen jeweils die optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist.
摘要翻译：用于确定目标（1）的光学数据，尤其是投影物镜用于Milcrolithographie-投影曝光装置，其特征在于，一个Optimierfunkction被最小化与所述优化方法数值优化方法。与优化方法的氟化物晶体材料制成的透镜（L101-L130）的固有双折射的干扰影响被至少一个双折射图像误差具有立方晶体结构减少了优化功能，其基于所述跟踪的光束被认为是（7）由氟化物晶体透镜，并且其，只要它依赖于光束的参数，仅依赖于光束的几何参数来确定。与数值优化方法透镜（1）制备，其中两个光延迟和光学延迟不对称校正。在这种情况下，透镜具有更均匀的基团（HG1-HG7），在其中的每一个光学延迟不对称校正。

7. 发明申请

WO2004001480A2 KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：折反射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004001480A2
公开(公告)日：2003-12-31
申请号：PCT/EP2003/006680
申请日：2003-06-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
发明人： MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70308 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat zwischen Objektebene und Bildebene einen katadioptrischen Objektivteil mit einen Konkavspiegel (17) und einem ersten Umlenkspiegel (16) sowie mindestens einen zweiten Umlenkspiegel (19). Im Lichtweg zwischen den Umlenkspiegeln wird die Polarisationsvorzugsrichtung des Lichtes mit Hilfe einer Polarisationsdreheinrichtung (26) um ca. 90° gedreht. Dadurch können polarisationsabhängige Reflektivitäts- und Phasenwirkungsunterschiede der Umlenkspiegel mindestens teilweise kompensiert werden. Hierdurch ist eine Abbildung mit weitgehend gleichem Kontrast für alle Strukturrichtungen möglich.
摘要翻译：用于成像放置在投影透镜图案的物平面中的投射物镜的像平面中的对象的反射折射投影物镜具有物平面和像平面的反射折射物镜部与凹面镜（17）和第一偏转反射镜（16）和至少一个第二偏转反射镜（19）之间。在偏转反射镜之间的光路中，利用偏振旋转器（26）由大约90°的光的偏振优选方向上旋转。在反射镜的作用这个偏振相关的反射率和相位差异可以至少部分地补偿。这导致画面而主要是为了所有结构的方向相同的对比。

8. 发明申请

WO2004023184A1 OBJECTIVE WITH BIREFRINGENT LENSES 审中-公开
标题翻译：目标与双向镜片
公开(公告)号：WO2004023184A1
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：PCT/EP2002/014638
申请日：2002-12-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , ULRICH, Wilhelm
发明人： TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G02B13/14
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/02 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70241 , G03F7/705 , G03F7/70966
摘要： Objective (1, 601), in particular a projection objective for a microlithography projection apparatus, with first birefringent lenses (L108, L109, L129, L130) and with second birefringent lenses (L101-L107, L110-L128). The first lenses (L108, L109, L129, L130) are distinguished from the second lenses (L101-L107, L110-L128) by the lens material used or by the material orientation. After passing through the first lenses (L108, L109, L129, L130) and the second lenses (L101-L107, L110-L128), outer aperture ray (5, 7) and a principal ray (9) are subject to optical path differences for two mutually orthogonal states of polarization. The difference between these optical path differences is smaller than 25% of the working wavelength. In at least one first lens (L129, L130), the aperture angle of the outer aperture ray (5, 7) is at least 70% of the largest aperture angle occurring for said aperture ray in all of the first lenses (L108, L109, L129, L130) and second lenses (L101-L107, L110-L128). This arrangement has the result that the first lenses (L108, L109, L129, L130) have a combined material volume of no more than 20% of the combined total material volume of the first lenses (L108, L109, L129, L130) and second lenses (L101-L07, L110-L128).
摘要翻译：目的（1，601），特别是具有第一双折射透镜（L108，L109，L129，L130）和第二双折射透镜（L101-L107，L110-L128）的微光刻投影装置的投影物镜。第一透镜（L108，L109，L129，L130）与所使用的透镜材料或材料取向与第二透镜（L101-L107，L110-L128）不同。在穿过第一透镜（L108，L109，L129，L130）和第二透镜（L101-L107，L110-L128）之后，外部光线（5,7）和主光线（9）经受光程差对于两个相互正交的极化状态。这些光程差之差小于工作波长的25％。在至少一个第一透镜（L129，L130）中，外光圈（5,7）的孔径角为所有第一透镜（L108，L109）中的所述孔径光线发生的最大孔径角的至少70％，L129，L130）和第二透镜（L101-L107，L110-L128）。这种结构的结果是，第一透镜（L108，L109，L129，L130）的组合材料体积不超过第一透镜（L108，L109，L129，L130）和第二透镜镜头（L101-L07，L110-L128）。

9. 发明申请

WO2004025349A1 KATADIOPTRISCHES PROJEKTIONSOBJEKTIV SOWIE VERFAHREN ZUR KOMPENSATION DER INTRINSISCHEN DOPPELBRECHUNG IN EINEM SOLCHEN 审中-公开
标题翻译：反射折射投影物镜，AND METHOD FOR补偿内在双折射此类
公开(公告)号：WO2004025349A1
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：PCT/EP2003/007917
申请日：2003-07-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG
发明人： ALBERT, Michael , KAMENOV, Vladimir
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70966
摘要： Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv (1), das insbesondere zur Verwendung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtsanlage bestimmt ist, umfasst sowohl in einem katadioptrischen Teil (5) als auch in einem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) eine Mehrzahl refraktiver, intrinsische Doppelbrechung aufweisender optischer Elemente. Da diese refraktiven optischen Elemente in dem katadioptrischen Teil (5) und dem dioptrischen Teil (18) durch eine polarisations sensitive reflektierende Schicht (10) voneinander polarisationsmässig entkoppelt sind, sind der katadioptrische Teil (5) und der dioptrische Teil (18) getrennt voneinander hinsichtlich der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert.
摘要翻译：一种反射折射投影物镜（1），这是特别打算用于微光刻Projektionsbelichtsanlage包括在反射折射部分（5），并在图像平面中的一个（3）相邻的折射光学部件（18）包括多个折射的，具有方向的光的固有双折射元素。由于由一个偏振敏感反射层（10）中的反射折射部分（5）和屈光部（18），这些折射光学元件被解耦偏振过度彼此，是反射折射部分（5）和从彼此分离的折射部分（18）固有双折射补偿。

10. 发明申请

WO2011073441A2 REFLECTIVE MASK FOR EUV LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：反射掩码的EUV LITHOGRAPHY
公开(公告)号：WO2011073441A2
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：PCT/EP2010/070171
申请日：2010-12-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KAMENOV, Vladimir , MIGURA, Sascha
发明人： KAMENOV, Vladimir , MIGURA, Sascha
IPC分类号： G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70316 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F7/70216
摘要： To improve the mask of an EUV lithography apparatus in view of its high reflectivity, a reflective mask is suggested for EUV lithography, comprising a reflective multilayer system on a substrate configured for a working wavelength in the EUV range and having stacks with layers of at least two materials with different real parts of the refractive index at the working wavelength, wherein the multilayer system (V) is configured in such a manner that, as it is irradiated with EUV radiation at a fixed wavelength and an angle interval between the smallest and the largest angle of incidence of up to 21°, the apodization is less than 30%.
摘要翻译：鉴于其高反射率，为了改进EUV光刻设备的掩模，建议用于EUV光刻的反射掩模，其包括在衬底上的反射多层系统，其被配置为在EUV范围内的工作波长并且具有至少层在工作波长处具有不同实际折射率部分的两种材料，其中所述多层系统（V）被配置成使得当被固定波长的EUV辐射和最小和最小的角度间隔照射时，最大发生角度高达21°，蜕变率小于30％。

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