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1. 发明申请

WO2004023172A1 OPTIMIERVERFAHREN FÜR EIN OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN SOWIE OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：优化方法用氟晶镜头和镜头用氟晶镜头镜头
公开(公告)号：WO2004023172A1
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：PCT/EP2003/009167
申请日：2003-08-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
发明人： TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/02 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70241 , G03F7/705 , G03F7/70966 , Y10S359/90
摘要： Numerisches Optimierverfahren zum Bestimmen der optischen Daten eines Objektivs (1), insbesondere eines Projektionsobjektivs für eine Milcrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage, wobei mit dem Optimierverfahren eine Optimierfunkction minimiert wird. Mit dem Optimierverfahren wird der störende Einfluss der intrinsischen Doppelbrechung von Linsen (L101-L130) aus Fluorid-Kristall-Material mit kubischer Kristallstruktur reduziert, indem in der Optimierfunktion mindestens ein Doppelbrechungs-Bildfehler berücksichtigt wird, welcher basierend auf der Durchrechnung eines Strahls (7) durch die Fluorid-Kristall-Linsen bestimmt wird und welcher, soweit er von Parametern des Strahls abhängt, nur von geometrischen Parametern des Strahls abhängt. Mit dem numerischen Optimierverfahren werden Objektive (1) hergestellt, bei welchen sowohl eine optische Verzögerung als auch eine optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist. Die Objektive weisen dabei mehrere homogene Gruppen (HG1-HG7) auf, in welchen jeweils die optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist.
摘要翻译：用于确定目标（1）的光学数据，尤其是投影物镜用于Milcrolithographie-投影曝光装置，其特征在于，一个Optimierfunkction被最小化与所述优化方法数值优化方法。与优化方法的氟化物晶体材料制成的透镜（L101-L130）的固有双折射的干扰影响被至少一个双折射图像误差具有立方晶体结构减少了优化功能，其基于所述跟踪的光束被认为是（7）由氟化物晶体透镜，并且其，只要它依赖于光束的参数，仅依赖于光束的几何参数来确定。与数值优化方法透镜（1）制备，其中两个光延迟和光学延迟不对称校正。在这种情况下，透镜具有更均匀的基团（HG1-HG7），在其中的每一个光学延迟不对称校正。

2. 发明申请

WO2004092842A1 OPTICAL SYSTEM, METHOD OF ALTERING RETARDANCES THEREIN AND PHOTOLITHOGRAPHY TOOL 审中-公开
标题翻译：光学系统，改变其延迟的方法和光刻工具
公开(公告)号：WO2004092842A1
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/EP2003/004015
申请日：2003-04-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
发明人： KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B5/3091 , G02B17/02 , G02B17/08 , G02B17/0892 , G03F7/70241 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： An optical system, for example a lens for a photolithography tool, includes a group of optical elements (L1, L2) that each comprise a birefringent cubic crystal such as CaF 2 . The crystal lattices of the crystals have different orientations, e.g. for reducing the overall retardance of the group by mutual compensation. The [110] crystal axis of at least one optical element (L1, L2) is tilted with respect to an optical axis (34) of the system (10) by a predefined tilting angle (θ 1 , θ 2 ) having an absolute value between 1° and 20°. This reduces the magnitude, but not significantly change the orientation of intrinsic birefringence. By selecting an appropriate tilting angle it is possible to achieve a better performance of the optical system. For example, the overall retardance of the optical system may be reduced, or the angular retardance distribution may be symmetrized.
摘要翻译：光学系统，例如用于光刻工具的透镜，包括一组光学元件（L1，L2），每组包括双折射立方晶体，例如CaF 2。晶体的晶格具有不同的取向，例如通过相互补偿减少集团的整体延迟。至少一个光学元件（L1，L2）的[110]晶轴相对于系统（10）的光轴（34）倾斜预定的倾斜角（θ1，θ2），绝对值介于1 °和20°。这降低了幅度，但并没有显着改变固有双折射的取向。通过选择适当的倾斜角度，可以实现光学系统的更好的性能。例如，可以减小光学系统的总体延迟，或者可以对角度延迟分布进行对称化。

3. 发明申请

WO2004001480A2 KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：折反射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004001480A2
公开(公告)日：2003-12-31
申请号：PCT/EP2003/006680
申请日：2003-06-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
发明人： MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70308 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat zwischen Objektebene und Bildebene einen katadioptrischen Objektivteil mit einen Konkavspiegel (17) und einem ersten Umlenkspiegel (16) sowie mindestens einen zweiten Umlenkspiegel (19). Im Lichtweg zwischen den Umlenkspiegeln wird die Polarisationsvorzugsrichtung des Lichtes mit Hilfe einer Polarisationsdreheinrichtung (26) um ca. 90° gedreht. Dadurch können polarisationsabhängige Reflektivitäts- und Phasenwirkungsunterschiede der Umlenkspiegel mindestens teilweise kompensiert werden. Hierdurch ist eine Abbildung mit weitgehend gleichem Kontrast für alle Strukturrichtungen möglich.
摘要翻译：用于成像放置在投影透镜图案的物平面中的投射物镜的像平面中的对象的反射折射投影物镜具有物平面和像平面的反射折射物镜部与凹面镜（17）和第一偏转反射镜（16）和至少一个第二偏转反射镜（19）之间。在偏转反射镜之间的光路中，利用偏振旋转器（26）由大约90°的光的偏振优选方向上旋转。在反射镜的作用这个偏振相关的反射率和相位差异可以至少部分地补偿。这导致画面而主要是为了所有结构的方向相同的对比。

4. 发明申请

WO2007025783A2 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A2
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008605
申请日：2006-09-04
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
发明人： KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage enthält ein optisches Element (36), das zur Verringerung oder Erhöhung des Reflexionsvermögens eine Antireflex- Beschichtung (32) bzw. eine Reflex-Beschichtung trägt. Erfindungsgemäß ist die Antiref lex-Beschichtung derart ausgelegt, daß über einen Einfallswinkelbereich von 70° hinweg sich die Transmissionskoeffizienten der Antire- flex-Beschichtung für zueinander orthogonale Polarisationszustände (42p 42s) um nicht mehr als 10%, vorzugsweise um nicht mehr als 3%, weiter vorzugsweise um nicht mehr als 1%, voneinander unterscheiden. Entsprechendes gilt für den Reflexionskoeffizienten der Reflex-Beschichtung. Zu Korrektur von Fehlern, die durch größere Winkelabhängigkeiten des mittleren Transmissions- oder Ref lexionskoeffizienten und der Wirkung auf die Phase verursacht sind, enthält die Projektionsbelichtungsanlage Mittel (50) zur Homogenisierung einer Intensitätsverteilung, die vorzugsweise in oder in der Nähe einer Feld- oder Pupillenebene angeordnet sind.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包含BEAR为lt光学元件（36）用于减少或玉儿＆OUML;反射率＆OUML的红;一族的防反射涂层（32）和反射涂层TR＆AUML; GT。发明＆AUML;大街例如，抗反射涂层被设计成使得？在70°的入射角范围内。中的时间，Antire-柔性涂层˚F导航用途r的传输系数相互正交的偏振不超过10％的状态HANDS（42P 42S），优选不超过3％，更优选不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。对于由GR＆ouml错误校正;道路ERE引起所述相位中间传动或REF lexionskoeffizienten和效果的角度依赖性BEAR包含保持所述投射曝光系统的装置（50），用于在均质化的强度BEAR tsverteilung，优选或者在场或瞳孔飞机附近。

5. 发明申请

WO2003077011A1 OPTICAL SYSTEM WITH BIREFRINGENT OPTICAL ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：具有双重光学元件的光学系统
公开(公告)号：WO2003077011A1
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2002/012446
申请日：2002-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
发明人： FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
IPC分类号： G02B27/28
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G02B27/286 , G02B27/288 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Optical system (1) : with a first optical subsystem (3) comprising at least a first birefringent optical element (7), with a second optical subsystem (5) comprising at least a second birefringent optical element (9), wherein between the first optical subsystem and the second optical subsystem an optical retarding system (13) with at least a first optical retarding element (15) is arranged, which introduces a ratardation of one-half of a wavelength between two mutually orthogonal states of polarization.
摘要翻译：光学系统（1）：具有包括至少第一双折射光学元件（7）的第一光学子系统（3），其中第二光学子系统（5）包括至少第二双折射光学元件（9），其中在第一光学子系统和第二光学子系统，布置有至少具有第一光学延迟元件（15）的光学延迟系统（13），其引入在两个相互正交的极化状态之间的波长的一半的估计。

6. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

7. 发明申请

WO2006111319A3 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING A MICRO-STRUCTURED STRUCTURAL MEMBER BY THE AID OF SUCH A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND POLARIZATION-OPTICAL ELEMENT ADAPTED FOR USE IN SUCH A SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2006111319A3
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/EP2006/003401
申请日：2006-04-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Juergen , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , DITTMANN, Olaf , TOTZECK, Michael
发明人： MANN, Hans-Juergen , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , DITTMANN, Olaf , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The invention relates to a projection exposure system, in particular for micro-lithography. The projection exposure system according to the invention comprises a light source (18) for producing light in the EUV region. The projection exposure system further comprises a first optical system (19, 20, 21, 22, 23, 24) for illuminating a mask (25) by the light of the light source (18) and a second optical system (26, 27, 28, 29, 30, 31) for imaging the mask (25) on a component (32). At least one polarization-optical element (1) is disposed on the beam path between the light source (18) and the component (32).

8. 发明申请

WO2006089919A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR OBJECTIVE OR ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微波投影曝光装置的目标或照明系统
公开(公告)号：WO2006089919A1
公开(公告)日：2006-08-31
申请号：PCT/EP2006/060196
申请日：2006-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf
发明人： TOTZECK, Michael , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B5/30 , G03F7/20
CPC分类号： G02B1/02 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an objective or an illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus, which in particular also permits the use of crystal materials with a high refractive index while reducing the influence of intrinsic birefringence on the imaging properties. In particular the invention relates to an optical system having at least two lens groups (10-60) with lenses of intrinsically birefringent material, wherein the lens groups (10-60) respectively comprise a first subgroup with lenses in a (lOO)-orientation and a second subgroup with lenses in (lll)-orientation, and wherein the lenses of each subgroup are arranged rotated relative to each other about their lens axes.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置的光学系统，特别是物镜或照明系统，其特别地还允许使用具有高折射率的晶体材料，同时减少本征双折射对成像性能的影响。特别地，本发明涉及一种具有至少两个具有本征双折射材料透镜的透镜组（10-60）的光学系统，其中透镜组（10-60）分别包括具有（100）取向的透镜的第一子组以及具有（III）取向的透镜的第二子组，并且其中每个子组的透镜相对于彼此围绕其透镜轴线旋转。

9. 发明申请

WO2007144193A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2007144193A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/EP2007/005297
申请日：2007-06-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
IPC分类号： G02B27/00 , G03F7/20 , G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B5/3091 , G02B27/0025 , G03F7/70308
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus has a high index refractive optical element (L3) with an index of refraction greater than 1.6. This element (L3) has a volume and a material related optical property which varies over the volume. Variations of this optical property cause an aberration of the objective. In one embodiment at least 4 optical surfaces are provided that are arranged in at least one volume (L3') which is optically conjugate with the volume of the refractive optical element. Each optical surface comprises at least one correction means, for example a surface deformation or a birefringent layer with locally varying properties, which at least partially corrects the aberration caused by the variation of the optical property.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜具有折射率大于1.6的高折射率折射光学元件（L3）。该元件（L3）具有在体积上变化的体积和材料相关的光学性质。该光学特性的变化导致物镜的像差。在一个实施例中，提供至少4个光学表面，其布置在与折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积（L3'）中。每个光学表面包括至少一个校正装置，例如具有局部变化特性的表面变形或双折射层，其至少部分地校正由光学性质的变化引起的像差。

10. 发明申请

WO2009013230A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的光学系统
公开(公告)号：WO2009013230A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059435
申请日：2008-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
发明人： MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B5/205 , G02B5/283 , G02B26/001 , G02B26/0825 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus. To permit comparatively flexible and fast influencing of intensity distribution and/or the polarization state, an optical system according to the invention comprises at least one layer system (120, 200) which is at least one-side bounded by a lens or a mirror, wherein said layer system (120, 200) is an interference layer system of several layers and has at least one liquid or gaseous layer portion (123, 220) whose maximum thickness is at a maximum 1 micrometer (μm), and a manipulator (105) for manipulation of the thickness profile of said layer portion (123, 220).
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的光学系统。为了允许强度分布和/或偏振状态的相对灵活和快速的影响，根据本发明的光学系统包括至少一个由透镜或反射镜限定的一个层系统（120,200）其中所述层系统（120,200）是几层的干涉层系统，并且具有至少一个最大厚度最大为1微米（μm）的液体或气体层部分（123,220）和机械手（105）），用于操纵所述层部分（123,220）的厚度分布。

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