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1. 发明申请

WO2007025783A2 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A2
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008605
申请日：2006-09-04
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
发明人： KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage enthält ein optisches Element (36), das zur Verringerung oder Erhöhung des Reflexionsvermögens eine Antireflex- Beschichtung (32) bzw. eine Reflex-Beschichtung trägt. Erfindungsgemäß ist die Antiref lex-Beschichtung derart ausgelegt, daß über einen Einfallswinkelbereich von 70° hinweg sich die Transmissionskoeffizienten der Antire- flex-Beschichtung für zueinander orthogonale Polarisationszustände (42p 42s) um nicht mehr als 10%, vorzugsweise um nicht mehr als 3%, weiter vorzugsweise um nicht mehr als 1%, voneinander unterscheiden. Entsprechendes gilt für den Reflexionskoeffizienten der Reflex-Beschichtung. Zu Korrektur von Fehlern, die durch größere Winkelabhängigkeiten des mittleren Transmissions- oder Ref lexionskoeffizienten und der Wirkung auf die Phase verursacht sind, enthält die Projektionsbelichtungsanlage Mittel (50) zur Homogenisierung einer Intensitätsverteilung, die vorzugsweise in oder in der Nähe einer Feld- oder Pupillenebene angeordnet sind.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包含BEAR为lt光学元件（36）用于减少或玉儿＆OUML;反射率＆OUML的红;一族的防反射涂层（32）和反射涂层TR＆AUML; GT。发明＆AUML;大街例如，抗反射涂层被设计成使得？在70°的入射角范围内。中的时间，Antire-柔性涂层˚F导航用途r的传输系数相互正交的偏振不超过10％的状态HANDS（42P 42S），优选不超过3％，更优选不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。对于由GR＆ouml错误校正;道路ERE引起所述相位中间传动或REF lexionskoeffizienten和效果的角度依赖性BEAR包含保持所述投射曝光系统的装置（50），用于在均质化的强度BEAR tsverteilung，优选或者在场或瞳孔飞机附近。

2. 发明申请

WO2007025783A3 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION LIGHTING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A3
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/EP2006008605
申请日：2006-09-04
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KAMENOV VLADIMIR , KRAEHMER DANIEL , GRUNER TORALF , WEISSENRIEDER KARL-STEFAN , FELDMANN HEIKO , ZIRKEL ACHIM , PAZIDIS ALEXANDRA , THOME BRUNO , SIX STEPHAN
发明人： KAMENOV VLADIMIR , KRAEHMER DANIEL , GRUNER TORALF , WEISSENRIEDER KARL-STEFAN , FELDMANN HEIKO , ZIRKEL ACHIM , PAZIDIS ALEXANDRA , THOME BRUNO , SIX STEPHAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： A microlithographic projection lighting system contains an optical element (36) that supports an antireflection coating (32) or a reflection coating in order to reduce or increase the reflectance. According to the invention, the antireflection coating is designed in such a manner that, over an angle of incident sector of 70°, the transmission coefficients of the antireflection coating for polarization states (42p 42s), which are orthogonal to one another, do not differ from one another by more than 10 %, preferably by no more than 3 %, and more preferably by no more than 1 %. The same applies to the reflection coefficients of the reflection coating. In order to correct for errors, which are caused by larger angular dependencies of the middle transmission or reflection coefficients and the effect upon the phase, the projection lighting system contains means (50) for homogenizing or distributing intensity, which are preferably placed in or in the vicinity of a field plane or pupil plane.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备包括这有助于减少或抗反射涂层（32）和反射涂层的反射率的增加的光学元件（36）。根据本发明，Antiref法涂层被设计成使得在一定范围的70°远离的入射角，由不超过10％的Antire-柔性涂层相互正交的偏振态（42P 42S）的传输系数，优选不超过3％，更优选地，不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。为了纠正错误，由平均传输或Ref和均质化的强度分布，其优选位于或靠近一个场或光瞳平面上引起含有该投射曝光系统的装置相（50）的效果的更大的角度依赖性lexionskoeffizienten 是。

3. 发明申请

WO2011006685A1 MIKROSPIEGELANORDNUNG MIT BESCHICHTUNG SOWIE VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：根据上述制造涂层和方法微镜片布置
公开(公告)号：WO2011006685A1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：PCT/EP2010/054426
申请日：2010-04-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , LOERCHER, Roland , PAZIDIS, Alexandra
发明人： WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , LOERCHER, Roland , PAZIDIS, Alexandra
IPC分类号： G02B5/22 , G02B26/08 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G03F7/70291 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft eine Mikrospiegelanordnung (1), umfassend: mindestens einen Mikrospiegel (3) mit einer reflektierenden Oberfläche (11), die an einem Spiegelsubstrat (2) gebildet ist, sowie eine Anti-Reflexbeschichtung (7), die an dem Spiegelsubstrat (2) außerhalb der reflektierenden Oberfläche (11) gebildet ist. Eine reflektierende Beschichtung (8) ist innerhalb der reflektierenden Oberfläche (11) gebildet und weist wenigstens zwei Schichtteilsysteme auf, wobei das erste Schichtteilsystem Schichten (8e, 8f) aus einer periodischen Abfolge alternierender hoch und niedrig brechender Schichten aus einem nicht-metallischen Material aufweist und bezüglich einer Nutzwellenlänge der Mikrospiegelanordnung im Hinblick auf die Reflektivität optimiert ist und wobei das zweite Schichtteilsystem bezüglich einer von der Nutzwellenlänge abweichenden Messwellenlänge der Mikrospiegelanordnung im Hinblick auf die Reflektivität optimiert ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung, wobei die Beschichtung eine reflektierende Beschichtung (8) und eine Anti-Reflexbeschichtung (7) umfasst. Die Anti-Reflexbeschichtung (7) kann hierbei insbesondere zur Kompensation der Schichtspannung einer reflektierenden Beschichtung (8) dienen.
摘要翻译：本发明涉及一种微镜装置（1），包括：（3）具有形成在镜基板（2）上的反射表面（11）的至少一个微反射镜形成，且抗反射涂层（7），该（到镜基板2 ）的所述反射表面（11外侧形成）。反射涂层（8）的反射表面（11）的内部形成，并且具有至少两个层部分系统，其中，所述第一层子系统（8F 8E）具有交替的由非金属材料制成的高和低折射率层的周期序列的层，并且相对于优化的微反射镜装置的使用波长相对于反射率，并且其中所述第二层子系统相对于从微反射镜装置的相对于该反射率的测定波长不同的使用的波长进行优化。本发明还涉及一种用于制备涂层，其中该涂层包括一反射涂层（8）和抗反射涂层（7）的方法。抗反射涂层（7），在这里特别被用于补偿的反射涂层（8）的膜应力。

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