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1. 发明申请

WO2009012919A1 METHOD FOR EXAMINING A WAFER WITH REGARD TO A CONTAMINATION LIMIT AND EUV PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于检查污染物限制和EUV投影曝光系统的方法
公开(公告)号：WO2009012919A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/005807
申请日：2008-07-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DORSEL, Andreas , SCHMIDT, Stefan
发明人： DORSEL, Andreas , SCHMIDT, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70425 , G03F7/70608 , G03F7/7075 , G03F7/70808 , G03F7/70866 , G03F7/70925 , G03F7/70983
摘要： The invention relates to a method for examining at least one wafer (13) with regard to a contamination limit, in which the contamination potential of the resist (13a) of the wafer (13), which resist (13a) outgasses contaminating substances, is examined with regard to a contamination limit before the wafer (13) is exposed in an EUV projection exposure system (1 ). The method preferably comprises the following steps: arranging the wafer (13) and/or a test disc coated with the same resist (13a) as the resist (13a) of the wafer (13) in a vacuum chamber (19), evacuating the vacuum chamber (19), and measuring the contamination potential of the contaminating substances outgassed from the wafer (13) in the evacuated vacuum chamber (19), and also comparing the contamination potential of the wafer (13) with a contamination limit. The invention further relates to an EUV projection exposure system (1 ) for carrying out the method. By rejecting wafers having an especially high contamination risk, the contamination of optical elements in the projection exposure system (1 ) on wafer exposure may be distinctly reduced.
摘要翻译：本发明涉及一种用于检查污染极限的至少一个晶片（13）的方法，其中抵抗（13a）去除污染物质的晶片（13）的抗蚀剂（13a）的污染电位为在将晶圆（13）暴露在EUV投影曝光系统（1）中之前，关于污染极限进行检查。该方法优选包括以下步骤：将晶片（13）和/或涂覆有与晶片（13）的抗蚀剂（13a）相同的抗蚀剂（13a））的测试盘布置在真空室（19）中，将真空室真空室（19），并且测量从抽真空真空室（19）中的晶片（13）脱气的污染物质的污染潜力，并且还将晶片（13）的污染电位与污染极限进行比较。本发明还涉及一种用于执行该方法的EUV投影曝光系统（1）。通过拒绝具有特别高的污染风险的晶片，可以明显减少投影曝光系统（1）中晶片曝光的光学元件的污染。

2. 发明申请

WO2009152885A1 PARTICLE CLEANING OF OPTICAL ELEMENTS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学元件的微粒清洁
公开(公告)号：WO2009152885A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2009/001581
申请日：2009-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML NETHERLANDS B.V. , EHM, Dirk, Heinrich , STORM, Arnoldus Jan , MOORS, Johannes Hubertus Josephina , CZAP, Almut , NAGEL, Mona , VAN DER DONCK, Jacques, Cor, Johan , STORTELDER, Jetske , SANDTKE, Marijn , CABALLERO, Maria, Isabel, Catalina , SCACCABAROZZI, Luigi , SCHMIDT, Stefan , KRAUS, Dieter , WIESNER, Stefan , KÖHLER, Stefan , CHUNG, Hin Yiu Anthony
发明人： EHM, Dirk, Heinrich , STORM, Arnoldus Jan , MOORS, Johannes Hubertus Josephina , CZAP, Almut , NAGEL, Mona , VAN DER DONCK, Jacques, Cor, Johan , STORTELDER, Jetske , SANDTKE, Marijn , CABALLERO, Maria, Isabel, Catalina , SCACCABAROZZI, Luigi , SCHMIDT, Stefan , KRAUS, Dieter , WIESNER, Stefan , KÖHLER, Stefan , CHUNG, Hin Yiu Anthony
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/00
CPC分类号： G03F7/70925 , B82Y10/00 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70975 , G03F7/70983 , G21K1/062
摘要： An optical assembly serves the purpose of being mounted in a projection exposure apparatus (101) for EUV microlithography and comprises at least one vacuum chamber (70, 71, 68a), at least one optical element (6, 7; 65, 66; 63) arranged in the vacuum chamber (70, 71, 68a), the optical element (6, 7; 65, 66; 63) having an optical surface (18) which may be impinged upon by a useful beam bundle (3) of the projection exposure apparatus (101), and a cleaning device (72) for cleaning the optical surface (18). The cleaning device (72) is configured to perform particle cleaning of the optical surface (18) at a gas pressure within the vacuum chamber (70,71, 68a) which is higher than a vacuum pressure (p0) for performing an exposure operation with the projection exposure apparatus (101). The result is an optical assembly capable of providing optical elements having an optical surface which may be impinged upon by a useful beam bundle which can be cleaned reliably from foreign particles.
摘要翻译：光学组件用于安装在用于EUV微光刻的投影曝光设备（101）中，并且包括至少一个真空室（70,71,68a），至少一个光学元件（6,7; 65,66,63 ），所述光学元件（6,7; 65,66,63）具有光学表面（18），所述光学表面可被所述真空室（70,71,68a）的有用光束束（3）撞击投影曝光装置（101）和用于清洁光学表面（18）的清洁装置（72）。清洁装置（72）构造成在真空室（70,71,68a）内的气体压力下进行光学表面（18）的粒子清洁，该气体压力高于用于进行曝光操作的真空压力（p0）投影曝光装置（101）。其结果是能够提供光学元件的光学组件，该光学元件具有光学表面，该光学表面可以被可以被外界颗粒可靠地清洁的有用束束撞击。

3. 发明申请

WO2008107166A1 VERFAHREN ZUM REINIGEN EINER EUV-LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG, VERFAHREN ZUR MESSUNG DER RESTGASATMOSPHÄRE BZW. DER KONTAMINATION SOWIE EUV-LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法用于清洁EUV光刻设备的测量方法REST气体或者污染和EUV光刻设备
公开(公告)号：WO2008107166A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/EP2008/001730
申请日：2008-03-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich , STEIN, Thomas , WÖLFLE, Harald , SCHMIDT, Stefan
发明人： KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich , STEIN, Thomas , WÖLFLE, Harald , SCHMIDT, Stefan
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/66
CPC分类号： G01N21/67 , G01N21/94 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70925
摘要： Es wird vorgeschlagen, zum Reinigen von Komponenten (30) im Inneren einer EUV-Lithographievorrichtung für den extremen ultravioletten und weichen Röntgen-Wellenlangenbereich benachbart zu der zu reinigenden Komponente (30) ein Plasma mittels Elektroden (29) zu zünden, wobei die Elektroden (29) an die Form der zu reinigenden Komponente (30) angepasst sind. Anhand des Plasmas wird spektroskopisch die Restgasatmosphäre gemessen. Vorzugsweise wird ein Emissionsspektrum aufgenommen, um den Reinigungsgrad zu überwachen. Dazu wird vorteilhafterweise ein optisches Faserkabel (31 ) mit einer Einkoppeloptik (32) eingesetzt. Außerdem wird, um während des Betriebs einer EUV- Lithographievorrichtung die Kontamination in der Gasphase innerhalb der Vakuumkammern zu überwachen, vorgeschlagen, Module vorzusehen, die Mittel zum Auslösen einer Gasentladung und Mittel zur Detektion von aufgrund der Gasentladung emittierter Strahlung aufweisen. Aus der Analyse des gemessenen Spektrums kann auf die Kontamination in der Gasphase zurück geschlossen werden.
摘要翻译：它提出了一种用于在用于极紫外和邻近该部件的软X射线波长范围内的EUV光刻设备的内部的清洁部件（30）要被清洁（30）借助于电极点燃等离子体（29），其中，所述电极（29 ））适合于所述（组件的形式被清洁30。残余气体气氛光谱由血浆中测量。优选地，发射光谱被记录以便监测纯化程度。用于此目的的与耦合透镜中使用（32）是有利的光纤电缆（31）。另外，为了监测EUV光刻设备的操作期间在真空室内气相中的污染，提出了提供具有用于发起气体排出装置的模块，以及用于检测所发射的辐射的由于气体放电的辐射。从测得的光谱的分析可以在气相中的污染被关闭了。

4. 发明申请

WO2009121385A1 CLEANING MODULE AND EUV LITHOGRAPHY DEVICE WITH CLEANING MODULE 审中-公开
标题翻译：清洁模块和具有清洁模块的EUV光刻设备
公开(公告)号：WO2009121385A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/EP2008/009754
申请日：2008-11-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EHM, Dirk, Heinrich , KALLER, Julian , SCHMIDT, Stefan , KRAUS, Dieter , WIESNER, Stefan , CZAP, Almut , CHUNG, Hin-Yiu, Anthony , KÖHLER, Stefan
发明人： EHM, Dirk, Heinrich , KALLER, Julian , SCHMIDT, Stefan , KRAUS, Dieter , WIESNER, Stefan , CZAP, Almut , CHUNG, Hin-Yiu, Anthony , KÖHLER, Stefan
IPC分类号： G03F7/20 , B08B7/00
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B7/0035
摘要： In order to enable a more gentle cleaning of the optical elements of an EUV lithography device, a cleaning module for an EUV lithography device is suggested with a supply (206) for molecular hydrogen, a heating filament (210) and a line (212) for atomic and/or molecular hydrogen, in which cleaning module the line (212) has at least one bend with a bending angle of less than 120 degrees, the line (212) has a material on its inner surface which has a low recombination rate for atomic hydrogen and the supply (206) is of flared shape at its end which faces the heating filament (210). A gentler cleaning can also be achieved by exciting a cleaning gas by means of a cold cathode or a plasma as well as by filtering out charged particles by means of electrical and/or magnetic fields.
摘要翻译：为了能够对EUV光刻设备的光学元件进行更温和的清洁，建议用于分子氢的供应（206），加热灯丝（210）和线（212）的用于EUV光刻设备的清洁模块，对于原子和/或分子氢，其中线（212）的清洁模块具有弯曲角度小于120度的至少一个弯曲，线（212）在其内表面上具有低复合速率的材料对于原子氢，并且供应（206）在其面向加热丝（210）的端部处具有喇叭形形状。还可以通过借助于冷阴极或等离子体激发清洁气体以及通过电场和/或磁场过滤掉带电粒子来实现温和清洁。

5. 发明申请

WO2009053476A1 CLEANING OF AN OPTICAL SYSTEM USING RADIATION ENERGY 审中-公开
标题翻译：使用辐射能量清洁光学系统
公开(公告)号：WO2009053476A1
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/EP2008/064479
申请日：2008-10-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML Netherlands B.V. , EHM, Dirk Heinrich , WIERINGA, Fokko Pieter , WOLSCHRIJN, Bastiaan Theodoor , MOORS, Johannes Hubertus Josephina , SCHMIDT, Stefan
发明人： EHM, Dirk Heinrich , WIERINGA, Fokko Pieter , WOLSCHRIJN, Bastiaan Theodoor , MOORS, Johannes Hubertus Josephina , SCHMIDT, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/7005 , G03F7/70925 , G03F7/70983
摘要： The present invention relates to a device and a method for cleaning at least one or more optical (Ml to M6) and/or non-optical elements, especially accommodated hermetically in a housing, of an optical arrangement, wherein at least one or more optical and/or non-optical elements is/are irradiated with radiation of a broadband light source (8), such that, as a result of the broad radiation spectrum, a plurality of possible contaminants on the optical and/or non-optical element(s) is excited.
摘要翻译：本发明涉及一种用于清洁光学装置的至少一个或多个光学（M1至M6）和/或非光学元件（特别是气密地容纳在外壳中）的装置和方法，其中至少一个或多个光学和/或非光学元件被宽带光源（8）的辐射照射，使得由于宽辐射光谱的结果，光学和/或非光学元件上的多个可能的污染物（ s）很兴奋。

6. 发明申请

WO2012136365A1 OPTISCHES KOPPLUNGSSYSTEM FÜR ZWEI LICHTWELLENLEITER 审中-公开
标题翻译：光学耦合系统两个光纤
公开(公告)号：WO2012136365A1
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/EP2012/001503
申请日：2012-04-04
申请人： Rosenberger-OSI GmbH & Co. OHG , AT&S AG , WURSTER, Clemens , SCHMIDT, Stefan , LANGER, Gregor , STAHR, Hannes
发明人： WURSTER, Clemens , SCHMIDT, Stefan , LANGER, Gregor , STAHR, Hannes
IPC分类号： G02B6/30
CPC分类号： G02B6/262 , G02B6/30 , G02B6/4228 , G02B6/423
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Kopplungssystem zum Koppeln eines ersten Lichtwellenleiters (14, 16, 18), welcher einen von einem ersten Mantel (14, 16) umgebenen ersten Kern (18) aufweist, mit einem zweiten Lichtwellenleiter (26), welcher einen von einem zweiten Mantel (30) umgebenen zweiten Kern (28) aufweist. Hierbei schlägt an einer Koppelstelle eine stirnseitige Endfläche (20) des ersten Kerns (18) des ersten Lichtwellenleiters (14, 16, 18) an eine stirnseitige Endfläche (34) des zweiten Kerns (28) des zweiten Lichtwellenleiters (28, 30) an und fluchtet der zweite Kern (28) mit dem ersten Kern (18) in axialer Richtung, wobei im Bereich der Koppelstelle über mindestens einen Teil (22) eines vorbestimmten axialen Abschnitts (23) sowohl der zweite Mantel (30) des zweiten Lichtwellenleiters (28, 30) als auch der erste Mantel (16) des ersten Lichtwellenleiters (14, 16, 18) gemeinsam ein Cladding des Lichtwellenleiters in dem vorbestimmten Abschnitt (22) bilden.
摘要翻译：本发明涉及一种光学耦合系统，用于耦合具有第一壳体中的一个（14，16）围绕所述第一芯（18），第二光学波导（26），其中一第一光学波导（14，16，18）具有围绕所述第二芯（28）第二包层（30）。在这种情况下，（28，30）抵接的连接点，所述第一光学波导（14，16，18）的所述第一芯（18）的前端面（20）到第二光学波导的第二芯（28）的前端面（34），和对齐，所述第二芯（28）在轴向方向上的第一芯（18），其中，在所述耦合点的区域通过两个所述第二光波导的第二包层（30）的一个预定轴向部分（23）的至少一个部分（22）（28， 30）与所述第一光波导（14，16，18的第一护套（16））一起形成了光纤中所述预定部分（22）的包层。

7. 发明申请

WO2011131292A1 ROHRWAFFE MIT VERSCHLUSSKEILSCHLIESSMECHANISMUS 审中-公开
标题翻译：搭配支招VERSCHLUSSKEILSCHLIESSMECHANISMUS PIPE
公开(公告)号：WO2011131292A1
公开(公告)日：2011-10-27
申请号：PCT/EP2011/001718
申请日：2011-04-07
申请人： RHEINMETALL WAFFE MUNITION GMBH , SCHMIDT, Stefan
发明人： SCHMIDT, Stefan
IPC分类号： F41A3/10
CPC分类号： F41A3/10
摘要： Die Erfindung betrifft eine Rohrwaffe (1) mit einem in einem Wiegenrohr (2) von einer Ruheposition in eine Rücklaufposition verschiebbar gelagerten Waffenrohr (3) mit Bodenstück (4), wobei das Bodenstück (4) einen Keilverschluss (5) mit einem quer zur Seelenrohrachse (6) des Waffenrohres (3) von einer geschlossenen in eine geöffnete Stellung mittels eines Öffnerhebels (10) verschiebbaren Verschlusskeiles (7) umfasst, und wobei an dem Wiegenrohr (2) auf der dem Waffenrohr (3) zugewandten Seite eine Führungseinrichtung (22) zur Führung eines Mitnehmers (21) vorgesehen ist, der sich beim Vorlaufen des Waffenrohres (3) kurz vor Erreichen der Ruheposition an einer Steuerkurve (23) der Führungseinrichtung (22) abstützt und ein Öffnen des Verschlusskeiles (7) bewirkt. Um weit ausladende Haltearme für die Führungseinrichtung (22) des Mitnehmers (21) zu vermeiden, schlägt die Erfindung vor, zur Steuerung der Verschlussbewegung an dem Bodenstück (4) eine von einer Ausgangs- in eine Betätigungsstellung axial verschiebbare Schubstange (8) vorzusehen, welche auf ihrer dem Wiegenrohr (2) abgewandten Seite auf den mit dem Verschlusskeil (7) verbundenen Öffnerhebel (10) wirkt, und die auf ihrer dem Wiegenrohr (2) zugewandten Seite über ein Hebelgetriebe mit dem Mitnehmer (21) verbunden ist, der sich beim Rücklauf des Waffenrohres (3) an der Steuerkurve (23) der an dem Wiegenrohr befestigten Führungseinrichtung (22) abstützt.
摘要翻译：本发明涉及一种桶武器（1）与在称量管（2）从静止位置到返回位置移动地安装武器发射筒（3）与底部件（4），其中，所述底部部分（4）包括楔形锁（5）配有一个横向于管的轴芯（6）式武器发射筒（3）从关闭到打开位置时，由开启器控制杆的装置（10），可动臀位楔（7），并且其中对所述武器枪管（3）侧朝向的引导装置称重管（2）（22）提供了一种用于引导的驱动器（21），其在武器筒（3）的预期支撑，即将到达静止位置到引导装置（22）的控制凸轮（23）之前，并且使后膛楔块（7）的开口。为了避免对驱动器（21）的引导装置（22）宽的悬臂保持臂，本发明提出，以提供用于控制所述尾环的关闭运动的致动位置轴向移动推杆源的（4）一种（8），其在其一侧上的闭合楔远程称重管（2）（7）连接至所述开启杆（10）作用，并在其面向称重管（2）侧，通过与所述驱动器的杠杆齿轮（21）连接，这本身支承在武器枪管（3）在固定于称重管导向装置（22）控制凸轮（23）的回报。

8. 发明申请

WO2008043816A1 SCHEINWERFER ZUR BELEUCHTUNG IN FILM-, STUDIO-, EVENT- ODER THEATERUMGEBUNGEN 审中-公开
标题翻译：聚光灯照明电影，工作室，事件或影院环境
公开(公告)号：WO2008043816A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/EP2007/060837
申请日：2007-10-11
申请人： ARNOLD & RICHTER CINE TECHNIK GMBH & CO. BETRIEBS KG , STEGMAIER, Klaus , JONISCHKEIT, Michael , FRIEDINGER, Christian , SCHMIDT, Stefan
发明人： STEGMAIER, Klaus , JONISCHKEIT, Michael , FRIEDINGER, Christian , SCHMIDT, Stefan
IPC分类号： F21S8/00 , H01R35/02
CPC分类号： H01R35/02 , F21V23/06 , F21W2131/406
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf einen Scheinwerfer zur Beleuchtung in Film-, Studio-, Event- oder Theaterumgebungen, mit einem elektrischen Anschluss zur Verbindung des Scheinwerfers mit einer Versorgungsleitung für die elektrische Versorgung des Scheinwerfers. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass der elektrische Anschluss (4) drehbar am Scheinwerfer (1) angeordnet und zur Verbindung des Scheinwerfers (1) mit der Versorgungsleitung (403) in seiner Ausrichtung anpassbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在电影，工作室，事件或影院环境照明的前照灯，具有用于聚光灯连接到供应管线用于聚光灯的电供应的电连接。根据本发明，（1）布置，所述电连接（4）可转动地安装在所述聚光灯和用于连接所述头灯（1）处于其取向到电源线（403）可调节的。

9. 发明申请

WO2006136214A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON ABGASFÜHRENDEN VORRICHTUNGEN, INSBESONDERE ABGASREINIGUNGSVORRICHTUNGEN 审中-公开
标题翻译：方法生成排放领先的器件，特别是发射装置的
公开(公告)号：WO2006136214A1
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/EP2006/002332
申请日：2006-03-14
申请人： ARVINMERITOR EMISSIONS TECHNOLOGIES GMBH , KRONER, Peter , SCHMIDT, Stefan , MERSCHKOETTER, Stefan
发明人： KRONER, Peter , SCHMIDT, Stefan , MERSCHKOETTER, Stefan
IPC分类号： F01N7/18 , F01N3/28 , B01D53/88 , F01N3/021
CPC分类号： F01N13/18 , F01N3/0211 , F01N3/2828 , F01N3/2842 , F01N3/2853 , F01N2350/04 , F01N2450/02 , Y02T10/20 , Y10T29/49345
摘要： Ein Verfahren zum Herstellen von abgasführenden Vorrichtungen, insbe sondere Abgasreinigungsvorrichtungen, sieht vor, daß die Außengeometrie jede Substrats (10) ermittelt wird und in Abhängigkeit von dieser Außengeometrie ei Außengehäuse (14) mit abgestimmter Geometrie gefertigt wird, in welchem da Substrat (10) gemeinsam mit einem Ausgleichselement (12) untergebracht un geklemmt wird.
摘要翻译：制造承载装置，特别是sondere排气净化装置的排气的方法，提供了每个衬底（10）的外部几何形状是具有匹配的几何形状，来确定并且由该外部几何形状EI外壳（14）的功能，其中作为底物（10）一起未收纳具有补偿元件（12）被夹紧。

10. 发明申请

WO2008031573A1 LADUNGSTRÄGER ZUR AUFNAHME UND DEM TRANSPORT VON OBJEKTEN 审中-公开
标题翻译：货运航空公司进行存储和运输物体
公开(公告)号：WO2008031573A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/EP2007/007926
申请日：2007-09-12
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , UNIVERSITÄT DORTMUND , SCHMIDT, Thorsten , WAHLERS, Gerd , SCHMIDT, Stefan , TEN HOMPEL, Michael
发明人： SCHMIDT, Thorsten , WAHLERS, Gerd , SCHMIDT, Stefan , TEN HOMPEL, Michael
IPC分类号： B65D19/38 , G06K17/00
CPC分类号： B65D19/38 , B65D2203/10 , B65D2519/00273 , B65D2519/00288 , B65D2519/00318 , B65D2519/00343 , B65D2519/00373
摘要： Ein Ladungsträger (1) zur Aufnahme und dem Transport von Objekten (3) sowie ein Verfahren zur Verarbeitung von auf einem Ladungsträger (1) befindlichen Objekten (3) soll zur Verfügung gestellt werden und insbesondere eine einfache und präzise Lösung bieten, um die schnelle Identifizierung und Objektlokalisation für das automatische Greifen, insbesondere für Zwecke der Palettierung und Depalettierung, auf einem Ladungsträger zu ermöglichen.
摘要翻译：用于负载载波上接收和传送用于处理的对象（3）和方法的电荷载体（1）（1）定位的物体（3）将被提供，特别是提供一种简单和精确的解决方案，以快速识别和对象定位为自动抓取，尤其是对码垛和去码垛的目的，为允许在负载载体上。

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