专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2007093433A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM DERARTIGEN BELEUCHTUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻，这样的照明系统投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2007093433A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001362
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael , GERHARD, Michael , THOME, Bruno , SINGER, Wolfgang
发明人： DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael , GERHARD, Michael , THOME, Bruno , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70191
摘要： Ein Beleuchtungssystem (5) für die Mikro-Lithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (3). Eine vorzugsweise eingesetzte Lichtverteilungseinrichtung (9, 10) erzeugt eine zweidimensionale Intensitätsverteilung in einer ersten Beleuchtungsebene (11). Eine erste Rasteranordnung (12) aus optischen Rasterelementen erzeugt eine Rasteranordnung sekundärer Lichtquellen. Den beiden Rastanordnungen (12; 16) ist eine zusätzlich optisch wirkende Einrichtung räumlich benachbart zugeordnet, die als Beleuchtungswinkel- Variationseinrichtung (14) ausgebildet sein kann. Die zusätzlich optisch wirkende Einrichtung (14) beeinflusst die Intensität und/oder die Phase und/oder die Strahlrichtung des Beleuchtungslichts (8). Diese Beeinflussung ist derart, dass ein Intensitätsbeitrag von Rasterelementen (23, 28) zur Gesamt-Beleuchtungsintensität über das Beleuchtungsfeld (3) variiert. Hierdurch kann die Beleuchtungsintensität über das Beleuchtungsfeld gezielt hinsichtlich der Gesamt-Beleuchtungsintensität und/oder hinsichtlich der Intensitätsbeiträge aus unterschiedlichen Beleuchtungsrichtungen beeinflusst werden.
摘要翻译：一种照明系统（5）对用于照明场（3）的照明微光刻。其中，优选使用（9，10）一种光分布装置产生一个以第一照明平面（11）的二维强度分布。光学光栅元件的第一扫描组件（12）产生的二次光源的光栅阵列。两个锁定组件（12; 16）是一种光学作用的装置另外分配空间上相邻的，即可以考虑Beleuchtungswinkel-变化装置（14）。该附加的光学作用的装置（14）影响强度和/或相位和/或照明光的光束方向（8）。这种影响使得光栅元件（23，28）的强度的贡献的总照明强度跨过照明场（3）是变化的。由此，照明强度可以通过照明场选择性地相对于所述整体照明强度和/或相对于从不同的照明方向的强度的贡献的影响。

2. 发明申请

WO2010086127A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻
公开(公告)号：WO2010086127A1
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/EP2010/000411
申请日：2010-01-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHOLZ, Axel , SCHLESENER, Frank , HAVERKAMP, Nils , DAVYDENKO, Vladimir , GERHARD, Michael , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , KERN, Mirco , BISCHOFF, Thomas , STAMMLER, Thomas , KELLNER, Stephan , MAUL, Manfred , WALLDORF, Daniel , HUREVICH, Igor , DEGÜNTHER, Markus
发明人： SCHOLZ, Axel , SCHLESENER, Frank , HAVERKAMP, Nils , DAVYDENKO, Vladimir , GERHARD, Michael , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , KERN, Mirco , BISCHOFF, Thomas , STAMMLER, Thomas , KELLNER, Stephan , MAUL, Manfred , WALLDORF, Daniel , HUREVICH, Igor , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： Ein Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit Beleuchtungslicht einer primären Lichtquelle. Eine erste Rasteranordnung (12) hat bündelformende erste Rasterelemente (24), die in einer ersten Ebene des Beleuchtungssystems oder benachbart zu dieser angeordnet sind. Die erste Rasteranordnung (12) dient zur Erzeugung einer Rasteranordnung sekundärer Lichtquellen. Eine Übertragungsoptik dient zur überlagernden Übertragung des Beleuchtungslichts der sekundären Lichtquellen in das Beleuchtungsfeld. Die Übertragungsoptik hat eine zweite Rasteranordnung (15) mit bündelformenden zweiten Rasterelementen (26). Jeweils eines der Rasterelemente (24) der ersten Rasteranordnung (12) ist einem der Rasterelemente (26) der zweiten Rasteranordnung (15) zur Führung eines Teilbündels (25) eines gesamten Bündels des Beleuchtungslichts zugeordnet. Beispielsweise die erste Rasteranordnung (12) hat mindestens zwei Typen (I, II, III) der ersten Rasterelemente (24), die sich in ihrer bündelbeeinflussenden Wirkung unterscheiden. Die Rasterelemente (24, 26) der beiden Rasteranordnungen (12, 15) sind so zueinander angeordnet, dass jedem Rasterelement-Typ (I bis III) mindestens ein individueller Abstand (Δ I , Δ II , Δ III ) zwischen dem ersten Rasterelement (24) dieses Typs (I bis III) und dem zugeordneten zweiten Rasterelement (26) der zweiten Rasteranordnung (15) zugeordnet ist. Es resultiert ein Beleuchtungssystem, mit dem eine Beeinflussung bestimmter Beleuchtungsparameter möglichst ohne unerwünschte Beeinflussung anderer Beleuchtungsparameter möglich ist.
摘要翻译：用于微光刻的照明系统用于从主光源利用照明光照明的照明场。第一扫描组件（12）具有电子束形成第一个栅格元件（24），其在照明系统的第一面或该相邻布置。第一扫描组件（12）用于产生二次光源的光栅阵列。中继光学器件用于将重叠在照明场的次级光源的照明光的透射。中继光学器件具有电子束形成第二个光栅元件（26）的第二屏幕组件（15）。所述第一扫描组件（12）的栅格元件（24）中的每一个与用于引导副光束（25）的照明光的整个束在第二屏幕组件（15）的栅格元件（26）中的一个相关联。例如，第一格栅装置（12）具有至少两种类型的第一光栅元件（24），其在它们的影响束作用不同的（I，II，III）。两个栅格阵列的栅格元件（24，26）（12，15）被布置成彼此成使得每个格栅元素类型（I至III）的至少一个个体的距离（？我,? II ,? III）所述第一格栅元件（24之间）这种类型的分配（I至III）和（第二屏幕组件（15的相关联的第二格栅元件26））。其结果是一个照明系统，其允许以影响某些照明参数可以是可能的，而不对其它照明参数的不利影响。

3. 发明申请

WO2007093436A1 OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微电子投影曝光装置照明系统的光学积分器
公开(公告)号：WO2007093436A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001370
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
发明人： WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , G03F7/70075 , Y10T83/0304 , Y10T83/04
摘要： An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V 1 to V 4 ). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.
摘要翻译：一种用于在微光刻投影曝光装置的照明系统中制造多个次级光源的光学积分器，包括在第一平面中并排设置并具有第一顶点线的第一阵列的细长的凸形弯曲的第一微透镜（112X） V）。光学积分器还包括细长的凸形弯曲的第二微透镜（114X; 214X）的第二阵列，所述第二阵列在第二平面中并排布置，并且具有第二顶点线（V SUB 1至V 4））。在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶点线或其一部分与第一顶点线（V）中的任何一个或其部分不一致。

4. 发明申请

WO2004111690A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV SOWIE VERFAHREN ZUM AUSWÄHLEN VON OPTISCHEN MATERIALIEN IN EINEM DERARTIGEN OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：投影镜头和方法，这样的镜头选择光材料
公开(公告)号：WO2004111690A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/EP2003/006402
申请日：2003-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
发明人： GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B1/02
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Ein Projektionsobjektiv (10) für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst mehrere Gruppen aufeinanderfolgender optischer Elemente. In wenigstens einer Gruppe sind wenigstens ein erstes optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall und wenigstens ein zweites optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall, das wenigstens zwei verschiedene Erdalkalimetalle enthält, angeordnet. Alle optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall und vorzugsweise keines der optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall erfüllen dabei die Bedingung m i = GPL i * DB (θ i ) ≥ S. Die Grösse m i ist ein jedem optischen Element L i zugeordneter Verzögerungsparameter, GPL i die geometrische Weglänge eines unter maximalem Öffnungswinkel auf das optische Element L i auftreffenden Aperturstrahls (28), θ i der Öffnungswinkel zwischen dem Aperturstrahl (28) und der optischen Achse (26) des optischen Elements L i , DB(θ i ) ein Mass für die Doppelbrechung des optischen Elements L i , das von dem Material und der Kristallorientierung des optischen Elements L i unabhängig ist, und S ein für alle optischen Elemente L i einheitlicher Schwellenwert. Das Projektionsobjektiv weist eine geringe Doppelbrechung auf und ist kostengünstiger, als wenn alle optischen Elemente aus teuren Mischkristallen beständen.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光设备的投影透镜（10）包括多个连续的光学元件的组。在至少一个基团是至少一种碱土金属氟化物结晶的第一光学元件和至少由含有至少两种不同的碱土金属碱土氟化物固溶体布置的第二光学元件。的碱土氟化物固体溶液和优选没有碱土金属氟化物晶体的光学元件的所有光学元件满足该条件MI = GPLi * DB（thetai）> = S的大小MI是每个光学元件栗相关联的延迟参数，GPLi入射在最大打开角度的光学构件栗孔径射线（28）的几何路径，thetai孔射线（28）和光学构件的光轴（26）之间的打开角度栗，DB（thetai）的双折射的测量光学部件的Li，是独立于所述光学部件Li的材料和晶体取向的，和S，一个，通用于所有光学元件李阈值。投影透镜具有低的双折射，是便宜比如果昂贵混晶种群的所有光学元件。

5. 发明申请

WO2008080563A1 OPTICAL ELEMENT AND ILLUMINATION OPTICS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学元件和微光学照明光学
公开(公告)号：WO2008080563A1
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：PCT/EP2007/011227
申请日：2007-12-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GERHARD, Michael
发明人： GERHARD, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： An optical element serves to influence a nominal beam angle, preset over a beam cross-section, of a radiation beam (26) hitting the optical element. The optical element has a spatial optical structure (16) which generates a first part of the influence exerted on the nominal beam angle when exposed to the radiation beam (26). An optical coating (24) applied on the spatial optical structure or on a carrier layer carrying the spatial optical structure (16) causes a defined attenuation of parts of the radiation beam (26) when exposed to the latter, thus resulting in a second part of the influence exerted on the nominal beam angle. The optical effects of the structure (16) and the coating (24) are such that they complement each other in influencing the nominal beam angle. The manufacturing effort required to obtain this effect is quite low. Moreover, this leads to new possibilities in terms of influencing the nominal beam angle.
摘要翻译：光学元件用于影响击中光学元件的辐射束（26）的在横截面上预设的标称光束角。光学元件具有空间光学结构（16），其在暴露于辐射束（26）时产生施加在标称光束角上的影响的第一部分。施加在空间光学结构上或承载空间光学结构（16）的载体层上的光学涂层（24）当暴露于辐射束（26）的部分时，导致辐射束（26）的限定的衰减，从而导致第二部分对标称光束角的影响。结构（16）和涂层（24）的光学效应使得它们在影响标称光束角度时相互补充。获得这种效果所需的制造工作相当低。此外，这导致了影响标称光束角度的新的可能性。

6. 发明申请

WO2002093209A3 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2002093209A3
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B1/02
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.

7. 发明申请

WO2012031765A2 METHOD FOR OPERATING A PROJECTION EXPOSURE TOOL AND CONTROL APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影曝光工具和控制装置的操作方法
公开(公告)号：WO2012031765A2
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/EP2011/004535
申请日：2011-09-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GERHARD, Michael , DÖRBRAND, Bernd , GRUNER, Toralf
发明人： GERHARD, Michael , DÖRBRAND, Bernd , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/706 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： A method for operating a projection exposure tool (10) for microlithography is provided. The projection exposure tool (10) comprises an optical system (24; 18) which comprises a number of optical elements (26) which, during an imaging process, convey electromagnetic radiation (16, 16a, 16b, 16c), all of the surfaces of the optical elements (26) interacting with the electromagnetic radiation (16) during the imaging process forming an overall optical surface of the optical system (24; 18). The method comprises the steps: determining respective individual thermal expansion coefficients (52) at at least two different locations of the overall optical surface, calculating a change to an optical property of the optical system (24; 18) brought about by heat emission of the electromagnetic radiation (16, 16a, 16b, 16c) during the imaging process upon the basis of the thermal expansion coefficients (52), and imaging mask structures into an image plane (34) by means of the projection exposure tool (10) with adaptation of the imaging characteristics of the projection exposure tool (10) such that the calculated change to the optical property is at least partially compensated.
摘要翻译：提供了一种用于操作用于微光刻的投影曝光工具（10）的方法。投影曝光工具（10）包括光学系统（24; 18），该光学系统包括多个光学元件（26），其在成像过程期间传送电磁辐射（16,16a，16b，16c），所有表面的光学元件（26）在成像过程中与电磁辐射（16）相互作用，形成光学系统（24; 18）的整个光学表面。该方法包括以下步骤：确定在整个光学表面的至少两个不同位置处的各自的热膨胀系数（52），计算由所述光学系统的热发射引起的光学系统（24; 18）的光学特性的变化基于热膨胀系数（52）在成像过程期间的电磁辐射（16,16a，16b，16c），以及借助于具有适应性的投影曝光工具（10）将掩模结构成像到图像平面（34）的投影曝光工具（10）的成像特性，使得计算出的对光学特性的改变至少部分地被补偿。

8. 发明申请

WO2002093209A2 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：用氟晶镜头镜头
公开(公告)号：WO2002093209A2
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70966 , G02B1/02 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70958 , Y10S359/90
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.
摘要翻译：透镜，在用于具有至少一种氟化物晶体透镜的微光刻投射曝光系统尤其投影透镜。获得减少的双折射的干扰影响，如果该透镜是（100）透镜与透镜轴线大致垂直于与其等效的{100}晶面或上的氟化物晶体的晶面。与具有至少两个氟晶透镜的透镜，如果氟化物晶体透镜的排列相对于彼此旋转时，它是有利的。氟化物晶体透镜的透镜轴可以由此除（100）晶具有在（111）在（110）晶向-or。通过同时使用基团的实现双折射的干扰影响进一步减小与相互旋转（100）-lenses并用相互旋转（111）透镜或（110）的透镜组。通过用补偿涂层的光学元件的可用性实现双折射的干扰影响进一步降低。

9. 发明申请

WO2011138340A2 SUBSTRATES FOR MIRRORS FOR EUV LITHOGRAPHY AND THEIR PRODUCTION 审中-公开
标题翻译：用于EUV光刻及其生产的镜子的基底
公开(公告)号：WO2011138340A2
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/EP2011/057074
申请日：2011-05-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KALLER, Julian , CLAUSS, Wilfried , GERHARD, Michael
发明人： KALLER, Julian , CLAUSS, Wilfried , GERHARD, Michael
IPC分类号： C03C3/06
CPC分类号： G02B5/08 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03C3/06 , C03C10/00 , C03C14/00 , C03C2201/42 , G03F7/70891
摘要： For the production of mirrors for EUV lithography, substrates are suggested having a mean relative thermal longitudinal expansion of no more than 10 ppb across a temperature difference ΔΤ of 15°C and a zero-crossing temperature in the range between 20°C and 40°C. For this purpose, at least one first and one second material having low thermal expansion coefficients and opposite gradients of the relative thermal expansion as a function of temperature are selected and a substrate is produced by mixing and bonding these materials.
摘要翻译：为了生产用于EUV光刻的反射镜，建议基板的温度差Δθ平均相对热纵向膨胀不超过10ppb 为15°C，过零温度为20°C至40°C。为此，选择具有低热膨胀系数和相对热膨胀作为温度的函数的相反梯度的至少一种第一和第二材料，并通过混合和粘合这些材料来生产基底。

10. 发明申请

WO2011012148A1 OPTICAL BEAM DEFLECTING ELEMENT AND METHOD OF ADJUSTMENT 审中-公开
标题翻译：光束偏移元件和调整方法
公开(公告)号：WO2011012148A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2009/005555
申请日：2009-07-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
发明人： RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70108 , G03F7/70158
摘要： An optical beam deflecting element (BDE) for generating a radiation beam having rays according to a predefined angular distribution by changing an angular distribution of rays in a radiation beam incident on the beam deflecting arrangement comprises first deflecting structures arranged in a first deflecting region (DR1) generating a first bundle of first rays, each of the first rays having a propagation direction corresponding to a ray angle within a predefined distribution of ray angles, the first rays having first intensities according to a first intensity distribution; and second deflecting structures arranged in a second deflecting region (DR2), laterally offset relative to the first deflecting region, generating a second bundle of second rays, each second ray having a propagation direction corresponding to a ray angle within the predefined distribution of ray angles, the second rays having second intensities according to a second intensity distribution, which differs from the first intensity distribution. The beam deflecting element may be used effectively as an energy distribution manipulator in an illumination system to vary the energy distribution within a given spatial intensity distribution in a pupil plane (PILL) of the illumination system substantially without changing the shape and size and position of illuminated areas in the pupil plane.
摘要翻译：一种光束偏转元件（BDE），用于通过改变入射在光束偏转装置上的辐射束中的光线的角度分布来产生具有根据预定角度分布的射线的辐射束，包括布置在第一偏转区域（DR1）中的第一偏转结构）产生第一束第一射线，所述第一射线中的每一个具有对应于预定射线角度分布内的射线角度的传播方向，所述第一射线具有根据第一强度分布的第一强度; 和布置在第二偏转区域（DR2）中的第二偏转结构，相对于第一偏转区域横向偏移，产生第二束第二射线，每个第二射线具有对应于预定分布的射线角度内的射线角度的传播方向所述第二光线具有与第一强度分布不同的第二强度分布的第二强度。光束偏转元件可以有效地用作照明系统中的能量分配操纵器，以在照明系统的光瞳平面（PILL）内的给定空间强度分布内改变能量分布，基本上不改变照明的形状，尺寸和位置瞳孔中的区域。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式