专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2010086127A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻
公开(公告)号：WO2010086127A1
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/EP2010/000411
申请日：2010-01-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHOLZ, Axel , SCHLESENER, Frank , HAVERKAMP, Nils , DAVYDENKO, Vladimir , GERHARD, Michael , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , KERN, Mirco , BISCHOFF, Thomas , STAMMLER, Thomas , KELLNER, Stephan , MAUL, Manfred , WALLDORF, Daniel , HUREVICH, Igor , DEGÜNTHER, Markus
发明人： SCHOLZ, Axel , SCHLESENER, Frank , HAVERKAMP, Nils , DAVYDENKO, Vladimir , GERHARD, Michael , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , KERN, Mirco , BISCHOFF, Thomas , STAMMLER, Thomas , KELLNER, Stephan , MAUL, Manfred , WALLDORF, Daniel , HUREVICH, Igor , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： Ein Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit Beleuchtungslicht einer primären Lichtquelle. Eine erste Rasteranordnung (12) hat bündelformende erste Rasterelemente (24), die in einer ersten Ebene des Beleuchtungssystems oder benachbart zu dieser angeordnet sind. Die erste Rasteranordnung (12) dient zur Erzeugung einer Rasteranordnung sekundärer Lichtquellen. Eine Übertragungsoptik dient zur überlagernden Übertragung des Beleuchtungslichts der sekundären Lichtquellen in das Beleuchtungsfeld. Die Übertragungsoptik hat eine zweite Rasteranordnung (15) mit bündelformenden zweiten Rasterelementen (26). Jeweils eines der Rasterelemente (24) der ersten Rasteranordnung (12) ist einem der Rasterelemente (26) der zweiten Rasteranordnung (15) zur Führung eines Teilbündels (25) eines gesamten Bündels des Beleuchtungslichts zugeordnet. Beispielsweise die erste Rasteranordnung (12) hat mindestens zwei Typen (I, II, III) der ersten Rasterelemente (24), die sich in ihrer bündelbeeinflussenden Wirkung unterscheiden. Die Rasterelemente (24, 26) der beiden Rasteranordnungen (12, 15) sind so zueinander angeordnet, dass jedem Rasterelement-Typ (I bis III) mindestens ein individueller Abstand (Δ I , Δ II , Δ III ) zwischen dem ersten Rasterelement (24) dieses Typs (I bis III) und dem zugeordneten zweiten Rasterelement (26) der zweiten Rasteranordnung (15) zugeordnet ist. Es resultiert ein Beleuchtungssystem, mit dem eine Beeinflussung bestimmter Beleuchtungsparameter möglichst ohne unerwünschte Beeinflussung anderer Beleuchtungsparameter möglich ist.
摘要翻译：用于微光刻的照明系统用于从主光源利用照明光照明的照明场。第一扫描组件（12）具有电子束形成第一个栅格元件（24），其在照明系统的第一面或该相邻布置。第一扫描组件（12）用于产生二次光源的光栅阵列。中继光学器件用于将重叠在照明场的次级光源的照明光的透射。中继光学器件具有电子束形成第二个光栅元件（26）的第二屏幕组件（15）。所述第一扫描组件（12）的栅格元件（24）中的每一个与用于引导副光束（25）的照明光的整个束在第二屏幕组件（15）的栅格元件（26）中的一个相关联。例如，第一格栅装置（12）具有至少两种类型的第一光栅元件（24），其在它们的影响束作用不同的（I，II，III）。两个栅格阵列的栅格元件（24，26）（12，15）被布置成彼此成使得每个格栅元素类型（I至III）的至少一个个体的距离（？我,? II ,? III）所述第一格栅元件（24之间）这种类型的分配（I至III）和（第二屏幕组件（15的相关联的第二格栅元件26））。其结果是一个照明系统，其允许以影响某些照明参数可以是可能的，而不对其它照明参数的不利影响。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式