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1. 发明申请

WO2010041392A1 走査荷電粒子顕微鏡审中-公开
标题翻译：扫描充电颗粒显微镜
公开(公告)号：WO2010041392A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/JP2009/005091
申请日：2009-10-02
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 石谷亨 , 長沖功
发明人：石谷亨 , 長沖功
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/28 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/09 , H01J37/222 , H01J2237/0216 , H01J2237/223 , H01J2237/2817
摘要：　走査荷電粒子顕微鏡の走査画像に外部擾乱により障害が現れた場合、外部擾乱を特定するためにその画像から擾乱周波数を簡単に精度よく解析することを目的とする。また、その解析可能な最大周波数を、走査荷電粒子顕微鏡の排気ポンプとしてよく使用するターボ分子ポンプなどの回転周波数である数ｋＨｚまで高めることを目的とする。　走査画像の像障害である縞パターンのＦＦＴ解析において、Ｙ方向（荷電粒子線の副偏向方向）の一次元ＦＦＴ（１Ｄ－ＦＦＴ）あるいはＸ方向（荷電粒子線の主偏向方向）の一次元ＤＦＴ（１Ｄ－ＤＦＴ）にて行う。また、解析可能な最大周波数を数ｋＨｚまで伸ばすには、荷電ビームの走査速度の速いＸ方向（荷電粒子線の主偏向方向）での１Ｄ－ＦＦＴ（あるいは１Ｄ－ＤＦＴ）解析を行う。
摘要翻译：当扫描带电粒子显微镜的扫描图像被外部干扰削弱时，可以从图像中简单且精确地分析干扰频率，以便指定外部干扰。通过扫描带电粒子显微镜可分析的最大频率也可以增加到几kHz，这是例如通常用作扫描带电粒子显微镜的排气泵的涡轮分子泵的旋转频率。在扫描图像中作为不需要的图像的条纹图案的FFT分析中，扫描带电粒子显微镜在Y方向（带电粒子束的亚偏转方向）上进行一维FFT（1D-FFT）或X方向（带电粒子束的主偏转方向）上的一维DFT（1D-DFT）。为了将可分析的最大频率扩展到几kHz，扫描带电粒子显微镜还在带电粒子具有的X方向（带电粒子束的主偏转方向）上进行1D-FFT（或1D-DFT）分析扫描速度快。

2. 发明申请

WO2011046116A1 ガス電解電離イオン源、イオンビーム装置审中-公开
标题翻译：气体离子源和离子束装置
公开(公告)号：WO2011046116A1
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：PCT/JP2010/067872
申请日：2010-10-12
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 川浪義実 , 石谷亨
发明人：川浪義実 , 石谷亨
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/26 , H01J37/3056 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/0807
摘要：　試料の加工に適した重たいイオンを高輝度で放出することができるガス電解電離イオン源を提供する。　本発明に係るガス電解電離イオン源は、エミッタ電極（１）の先端部の温度とガス供給部のガス放出口部分（３）の温度を個別に制御する温度制御部を備えている。
摘要翻译：公开了一种能够以高亮度发射适合于处理样品的重离子的气田电离离子源。气体电离离子源设置有分别控制发射极（1）的前端部的温度和气体供给部的气体导出部（3）的温度的温度控制部。

3. 发明申请

WO2010082466A1 イオンビーム装置审中-公开
标题翻译：离子束装置
公开(公告)号：WO2010082466A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2010/000086
申请日：2010-01-08
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 志知広康 , 松原信一 , 佐保典英 , 荒井紀明 , 石谷亨
发明人：志知広康 , 松原信一 , 佐保典英 , 荒井紀明 , 石谷亨
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/26 , H01J37/15 , H01J2237/0216 , H01J2237/0807 , H01J2237/28
摘要：　エミッタティップの振動を非接触で防止できるガス電界電離イオン源を備えたイオンビーム装置を提供する。　ガス電界電離イオン源は、イオンを生成するエミッタティップ（２１）と、該エミッタティップを支持するエミッタベースマウント（６４）と、前記エミッタティップに対向して設けられた引き出し電極（２４）を有し且つ前記エミッタティップ（２１）を囲むように構成されたイオン化室と、前記エミッタティップの近傍にガスを供給するガス供給管（２５）と、を有し、エミッタベースマウントと真空容器との間に磁気的相互作用が働く機構を有する。
摘要翻译：提供了一种具有气体电离电离离子源的离子束装置，其能够防止发射极尖端以非接触的方式振动。气体电场离子源由用于产生离子的发射极尖端（21）组成; 发射极底座（64），用于支撑发射器尖端; 电离室具有与发射极尖端相对的引出电极（24），其构造为围绕发射极尖端（21）; 以及用于将气体供给到发射极尖端附近的气体供给管（25）。发射极基座和真空容器彼此磁性相互作用。

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