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1. 发明申请

WO2007055154A1 電子銃、電子ビーム露光装置及び露光方法审中-公开
标题翻译：电子枪，电子束曝光系统和曝光方法
公开(公告)号：WO2007055154A1
公开(公告)日：2007-05-18
申请号：PCT/JP2006/321991
申请日：2006-11-02
申请人：株式会社アドバンテスト , 電気化学工業株式会社 , 安田洋 , 原口岳士 , 大饗義久 , 佐藤高雅 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 大饗義久 , 佐藤高雅 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/073 , H01J2237/06316 , H01J2237/06341 , H01J2237/3175
摘要： [PROBLEMS] An electron gun capable of reducing a sublimation amount by the heat of an electron source emitting electrons, and being used constantly over a long period of time; an electron beam exposure system and an exposure method using the electron gun. [MEANS OF SOLVING PROBLEMS] An electron gun (101) comprising an electron source (20) emitting electrons, wherein the electron source (20) has an electron emitting area (20a) and an electron emission limiting area (30); the electron emission limiting area (30) is the side surface of the electron source (20) excluding an electron emission surface at the tip end of the electron source (20), is covered with a material different from that of the electron source (20), and applies an electric field to the tip end to emit thermal field radiating electrons while keeping temperature at a level low enough not to produce the sublimation of the material of the electron source (20). The material of the electron source (20) may be lanthanum hexaboride (LaB 6 ) or cerium hexaboride (CeB 6), and the electron emission limiting area (30) may be covered with carbon. The temperature may range from 1100°C to 1300°C.
摘要翻译：本发明提供一种能够通过发射电子的电子源的热量而降低升华量并且长时间不间断地使用的电子枪。电子束曝光系统和使用电子枪的曝光方法。解决问题的手段一种包含发射电子的电子源（20）的电子枪（101），其中电子源（20）具有电子发射区（20a）和电子发射限制区（30）。电子发射限制区域（30）是除电子源（20）的末端外的电子发射表面的电子源（20）的侧表面被不同于电子源（20）的材料覆盖），并且向顶端施加电场以发射热场辐射电子，同时将温度保持在足够低的水平，不会产生电子源（20）的材料的升华。电子源（20）的材料可以是六硼化镧（LaB 6 N 6）或六硼化铈（CeB 6），并且电子发射限制区域（30）可以是覆盖着碳。温度可以在1100℃至1300℃的范围内。

2. 发明申请

WO2009157054A1 マルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置审中-公开
标题翻译：多光子电子束曝光装置和磁场发生装置
公开(公告)号：WO2009157054A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/JP2008/061431
申请日：2008-06-24
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 大饗義久 , 原口岳士
发明人：安田洋 , 大饗義久 , 原口岳士
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/143
CPC分类号： H01J37/143 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3174 , H01J2237/0635 , H01J2237/14
摘要：【課題】狭い空間に強磁場を発生させて各コラムセルの間隔を小さくすることのできるマルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置を提供すること。【解決手段】複数のコラムセルを備えるマルチコラム電子ビーム露光装置は、光軸方向に着磁された光軸対称な２個の環状永久磁石ＰＡ，ＰＢと永久磁石の近傍に配置されて永久磁石による磁場を調整する電磁コイルＥＣ１，ＥＣ２とが強磁性体枠７１によって取り囲まれた電子ビーム収束部と、各コラムセルで使用される電子ビームが通過する円型開口部が設けられ各円型開口部の側部に電子ビーム収束部が配置された基板とを備える。環状永久磁石ＰＡ，ＰＢは極性を対向させて光軸方向に上下２個配置され、環状永久磁石ＰＡ，ＰＢの半径方向の内側または外側に電磁コイルＥＣ１，ＥＣ２を設けるようにしてもよい。
摘要翻译： [问题]提供一种多柱电子束曝光装置，其在小空间中产生强磁场并减小列单元之间的间隔，并提供磁场产生装置。解决问题的手段电子束曝光装置具有多个柱单元。该装置设置有电子束聚焦部分，其中铁磁性框架（71）围绕两个在光轴方向被磁化并且相对于光轴对称的环形永磁体（PA，PB）和电磁线圈 EC1，EC2），其设置在永久磁铁附近，以调整由永磁体产生的磁场; 以及基板，其中布置有圆形开口部分，用于穿过用于每个列单元的电子束，并且电子束聚焦部分布置在每个圆形开口部分的一侧。两个环形永磁体（PA，PB）可以通过相反的极性彼此相对地在光轴方向上垂直布置，并且电磁线圈（EC1，EC2）可以布置在环形永磁体的半径方向内侧或外侧 PA，PB）。

3. 发明申请

WO2010109647A1 マルチコラム電子線描画用マスク保持装置及びマルチコラム電子線描画装置审中-公开
标题翻译：多光子电子束光刻屏幕保护膜和多光子电子束光刻系统
公开(公告)号：WO2010109647A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：PCT/JP2009/056248
申请日：2009-03-27
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 大饗義久
发明人：安田洋 , 大饗義久
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/20
摘要：【課題】キャラクタープロジェクションマスク全体の熱変形を防止することが可能なマルチコラム電子線描画用ＣＰマスク及びマルチコラム電子線描画装置を提供すること。【解決手段】マルチコラム電子線描画用マスク保持装置は、マスクを保持するとともにマスクを冷却する保持装置本体部と、マスクの冷却用の気体を発生する気体発生部と、気体の温度及び流量を制御する制御部とを有する。マスク保持装置本体部は、気体発生部で発生された気体をマスクに供給する気体供給管と、気体を吸収する気体吸収管と、各コラムで使用される一群のキャラクタープロジェクションパターン（ＣＰパターン）が一つの基板の各コラムの領域に形成された一体基板が載置されたときに一群のＣＰパターンの周囲を二重に囲むように形成され気体吸収管と接続された気体吸収溝と、二重の気体吸収溝の間に形成され気体供給管と接続された気体供給溝とを備える。
摘要翻译：提供了多列电子束光刻字符投影掩模和多列电子束光刻系统，其中可以排除整个CP掩模的热变形。多列电子束光刻掩模保持器包括保持和冷却掩模的保持器主体部分; 气体发生部，其产生用于冷却所述掩模的气体; 以及控制气体的温度和流量的控制部。掩模保持器主体部分包括用于将由气体产生部分产生的气体供给到掩模的气体供给管; 气体吸入管吸入气体; 气体吸入槽，其各自连接到相应的气体吸入管，并且形成为当在其上形成有用于列中的CP图案组的整体板时双重包围一组字符突起图案（CP图案）安装板的各个列区域; 气体供给槽各自与各气体供给管连接并形成在双气体吸入槽之间。

4. 发明申请

WO2007034659A1 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光装置のクリーニング方法审中-公开
标题翻译：电子束曝光系统和清洁电子束曝光系统的方法
公开(公告)号：WO2007034659A1
公开(公告)日：2007-03-29
申请号：PCT/JP2006/316951
申请日：2006-08-29
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 大饗義久
发明人：安田洋 , 大饗義久
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31793
摘要： This invention provides an electron beam exposure system, which can suppress the occurrence of contamination within an electron beam exposure system and can suppress the occurrence of a beam drift, and a method for cleaning the same. In the electron beam exposure system, an electron beam emitted from an electron gun (101) is applied in a desired pattern onto a sample mounted on a wafer stage (124). The electron beam exposure system comprises means (129) for injecting a reducing gas into a column (100), in which the electron gun (101) and the wafer stage (124) are housed, and control means (209) for allowing the reducing gas to be continuously injected into the column (100) for a predetermined period of time. An organic contaminant is bonded to H generated from the reducing gas and is then evaporated by electron beam irradiation. A construction may be adopted in which means (128) for injecting ozone gas into the column (100) is provided and the control means (209) allows the reducing gas to be injected into the column (100) and further allows the injection of the ozone gas to be continued for a predetermined period of time.
摘要翻译：本发明提供一种电子束曝光系统，其可以抑制电子束曝光系统内的污染的发生，并且可以抑制光束偏移的发生，以及其清洁方法。在电子束曝光系统中，将从电子枪（101）发射的电子束以期望的图案施加到安装在晶片台（124）上的样品上。电子束曝光系统包括用于将还原气体注入到容纳电子枪（101）和晶片台（124）的列（100）中的装置（129），以及用于允许还原将气体连续注入柱（100）预定的时间。将有机污染物与由还原气体产生的H键合，然后通过电子束照射蒸发。可以采用将臭氧气体注入到塔（100）中的装置（128）的结构，并且控制装置（209）允许将还原气体注入塔（100），并且还允许注入臭氧气体持续预定的时间。

5. 发明申请

WO2010109574A1 ステージ装置及びステージクリーニング方法审中-公开
标题翻译：阶段装置和清洁阶段的方法
公开(公告)号：WO2010109574A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：PCT/JP2009/055630
申请日：2009-03-23
申请人：株式会社アドバンテスト , 大饗義久 , 清水陽一
发明人：大饗義久 , 清水陽一
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70816 , G03F7/70916 , H01J37/3174 , H01J37/32862 , H01L21/67028
摘要：【課題】真空内でエアベアリングを使用したステージの軌道上のパーティクルを効率よく除去することが可能なステージ装置及びステージクリーニング方法を提供すること。【解決手段】真空内で使用されるステージ装置は、試料を載置する面を有した枠状の移動ステージと、移動ステージに囲まれる固定された固定ステージと、固定ステージと移動ステージとの間隙部に気体を供給して移動ステージを浮上させるエアベアリングと、気体の圧力を調整する圧力調整部と、間隙部から外部への気体の流出を阻止する差動排気部と、制御部と、を備える。制御部は、移動ステージの浮上量を移動ステージの使用時より低くしたときは差動排気部の圧力を移動ステージの使用時と同じ圧力にした状態にし、移動ステージの浮上量を移動ステージの使用時と同じ浮上量にしたときは差動排気部の圧力を移動ステージの使用時より高くした状態にして、移動ステージを所定の範囲で移動させる。
摘要翻译：使用空气轴承有效地除去在舞台轨道上的真空粒子的舞台装置; 以及清洗台的方法。在真空中使用的平台装置包括：框架状移动台，其具有用于安装样品的表面，由移动台包围的固定台，用于通过向固定台和固定台之间的间隙供应气体来浮动移动台的空气轴承移动台，用于调节气体压力的压力调节部分，用于防止气体从间隙流出到外部的差动排气部分和控制部分。当使用移动台时，当移动台的浮子的高度设定得小于浮子的高度时，控制部分控制使用移动平台时差压排气部分的压力等于压力。当使用移动台的浮动高度设定为等于使用移动台时浮子的高度时，控制部分将差动排气部分的压力控制为高于使用移动级时的压力，使得移动阶段可以在预定范围内移动。

6. 发明申请

WO2002084696A1 電子ビーム生成装置、及び電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子束发生器和电子束对准器
公开(公告)号：WO2002084696A1
公开(公告)日：2002-10-24
申请号：PCT/JP2002/003656
申请日：2002-04-12
申请人：株式会社アドバンテスト , 佐藤高雅 , 大饗義久
发明人：佐藤高雅 , 大饗義久
IPC分类号： H01J37/06
CPC分类号： H01J37/243
摘要： An electron beam generator and an electron beam aligner comprise a current sensing section (16), a voltage source (24), and a control section (18) for sensing an emission current flowing through a cathode (10) and varying a voltage to be impressed on a grid (20) on the basis of a change in the emission current and a self-bias resistor (22) for varying the potential of the grid (20) to the potential of the cathode (10) by a voltage drop due to the emission current. The control section (18) controls the voltage source (24) so as to suppress the variation of the emission current. Thus, it is possible to stabilize the emission current by the self-bias resistor (22) and the voltage source (24) and to suppress and precisely control a variation in the current quantity of an electron beam.
摘要翻译：电子束发生器和电子束对准器包括电流检测部分（16），电压源（24）和控制部分（18），用于感测流过阴极（10）的发射电流并改变电压基于发射电流的变化在电网（20）上施加压力，以及用于将电网（20）的电位相对于阴极（10）的电位变化的自偏置电阻器（22）施加电压降到发射电流。控制部（18）控制电压源（24），以抑制发射电流的变化。因此，可以通过自偏置电阻器（22）和电压源（24）稳定发射电流，并且抑制和精确地控制电子束的电流量的变化。

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