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1. 发明申请

WO2008120412A1 電子銃及び電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子枪和电子束曝光系统
公开(公告)号：WO2008120412A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/JP2007/069855
申请日：2007-10-11
申请人：株式会社アドバンテスト , 学校法人名城大学 , 安田洋 , 原口岳士 , 下山宏 , 村田英一
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 下山宏 , 村田英一
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/063 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/06316 , H01J2237/06375 , H01J2237/065
摘要：本発明は、電子源の昇華量を削減するとともに、ビームの放出角度を小さくして長期間安定に使用することのできる電子銃及び電子ビーム露光装置を提供することを課題とする。本発明の電子銃は、電子源（２０）と、加速電極（２５）と、引き出し電極（２１）と、サプレッサー電極（２４）と、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して放出させた熱電界放出電子による電子ビームを収束させる電子ビーム収束部とを有する。電子ビーム収束部は、引き出し電極と加速電極との間に配置され中央に開口部を備えた静電レンズ電極（２６）であり、加速電極側に拡がるテーパを有する。
摘要翻译：一种电子枪和电子束曝光系统，其可以通过减小光束的发射角而长期稳定地使用，同时减少电子源的升华量。电子枪包括电子源（20），加速电极（25），引出电极（21），抑制电极（24）和用于将通过施加电场而发射的电子束聚焦的部分电子发射侧，同时保持足够低的温度，不会引起电子源的材料的升华。电子束聚焦部是配置在引出电极和加速电极之间的静电透镜电极（26），在中心具有开口部，向加速电极侧扩展的锥形部。

2. 发明申请

WO2007055154A1 電子銃、電子ビーム露光装置及び露光方法审中-公开
标题翻译：电子枪，电子束曝光系统和曝光方法
公开(公告)号：WO2007055154A1
公开(公告)日：2007-05-18
申请号：PCT/JP2006/321991
申请日：2006-11-02
申请人：株式会社アドバンテスト , 電気化学工業株式会社 , 安田洋 , 原口岳士 , 大饗義久 , 佐藤高雅 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 大饗義久 , 佐藤高雅 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/073 , H01J2237/06316 , H01J2237/06341 , H01J2237/3175
摘要： [PROBLEMS] An electron gun capable of reducing a sublimation amount by the heat of an electron source emitting electrons, and being used constantly over a long period of time; an electron beam exposure system and an exposure method using the electron gun. [MEANS OF SOLVING PROBLEMS] An electron gun (101) comprising an electron source (20) emitting electrons, wherein the electron source (20) has an electron emitting area (20a) and an electron emission limiting area (30); the electron emission limiting area (30) is the side surface of the electron source (20) excluding an electron emission surface at the tip end of the electron source (20), is covered with a material different from that of the electron source (20), and applies an electric field to the tip end to emit thermal field radiating electrons while keeping temperature at a level low enough not to produce the sublimation of the material of the electron source (20). The material of the electron source (20) may be lanthanum hexaboride (LaB 6 ) or cerium hexaboride (CeB 6), and the electron emission limiting area (30) may be covered with carbon. The temperature may range from 1100°C to 1300°C.
摘要翻译：本发明提供一种能够通过发射电子的电子源的热量而降低升华量并且长时间不间断地使用的电子枪。电子束曝光系统和使用电子枪的曝光方法。解决问题的手段一种包含发射电子的电子源（20）的电子枪（101），其中电子源（20）具有电子发射区（20a）和电子发射限制区（30）。电子发射限制区域（30）是除电子源（20）的末端外的电子发射表面的电子源（20）的侧表面被不同于电子源（20）的材料覆盖），并且向顶端施加电场以发射热场辐射电子，同时将温度保持在足够低的水平，不会产生电子源（20）的材料的升华。电子源（20）的材料可以是六硼化镧（LaB 6 N 6）或六硼化铈（CeB 6），并且电子发射限制区域（30）可以是覆盖着碳。温度可以在1100℃至1300℃的范围内。

3. 发明申请

WO2009113169A1 マルチコラム電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：多列电子束光刻机系统
公开(公告)号：WO2009113169A1
公开(公告)日：2009-09-17
申请号：PCT/JP2008/054594
申请日：2008-03-13
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 原口岳士
发明人：安田洋 , 原口岳士
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/141 , H01J37/153 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/141 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/153 , H01J37/3177
摘要：【課題】各コラムセルの電磁レンズを均一かつ軸対称にすることのできるマルチコラム電子ビーム露光装置を提供すること。【解決手段】複数のコラムセルを備えるマルチコラム電子ビーム露光装置は、各コラムセルで使用される電子ビームが通過するための開口部が設けられた２枚の磁極板が各コラムセルを囲む共通のコイルを挟んで対向して配置された電磁レンズを有し、電磁レンズの一対の各開口部間に形成されるレンズ内部又は開口部の上部のレンズ外部に少なくとも６極の偏向収差補正器が配置される。偏向収差補正器は、６０度毎に逆巻きで略巻数の等しい電磁石で構成されているようにしてもよく、６極の偏向収差補正器は、３０度回転させて２対配置されるようにしてもよい。
摘要翻译： [问题]提供一种多柱电子束光刻系统，其能够将每个柱单元上的电磁透镜保持均匀和轴对称。解决问题的手段具有多个列单元的多列电子束光刻系统包括电磁透镜，在该透镜上设置有用于每列柱单元使用的电子束通过用开口的两个磁极板与围绕每个柱单元的公共线圈相对置。至少六极偏转像差补偿器设置在形成在透镜上的一对开口中的每一个之间的电磁透镜的内部，或者位于开口顶部的透镜的外部。偏转像差补偿器可以由电磁体组成，每60度反绕一次几乎相同的匝数。或者，六极偏转像差补偿器可以通过旋转30度而两对配置。

4. 发明申请

WO2008102435A1 電子銃、電子ビーム露光装置及び露光方法审中-公开
标题翻译：电子枪，电子束曝光装置和电子束曝光方法
公开(公告)号：WO2008102435A1
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/JP2007/053101
申请日：2007-02-20
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 原口岳士
发明人：安田洋 , 原口岳士
IPC分类号： H01J37/065 , H01J3/02 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/02 , H01J29/48 , H01J37/063 , H01J37/075 , H01J2237/06316
摘要：本発明は、電子銃に関して、電子を放出する電子源の熱による昇華量を削減し、長期間安定に使用することを課題とする。本発明の電子銃は、電子源（２０）の電子放出面と対向して配置され電子を加速する加速電極（２５）と、電子放出面と加速電極との間に配置され電子放出面に向かって光軸上に中心を持つ球状の凹面を有し当該電子放出面から電子を引き出す引き出し電極（２１）と、電子放出面の引き出し電極と反対側に配置され電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極（２４）とを有し、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して熱電界放射電子を放出させる。
摘要翻译：在电子枪中减少由于用于发射电子的电子源的热引起的升华量，并且电子枪长时间稳定地使用。电子枪设置有与电子源（20）的电子发射表面相对的加速电极（25），以加速电子; 布置在电子发射表面和加速电极之间的引出电极（21），具有在光轴上朝向电子发射表面的中心的球形凹入表面，以从电子发射表面提取电极; 以及用于抑制从电子源的侧面发射电子的抑制电极（24）。将电场施加到电子发射表面，同时保持温度低至不具有电源材料的升华，并且发射热场发射电子。

5. 发明申请

WO2008084537A1 電子銃及び電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子枪和电子束曝光装置
公开(公告)号：WO2008084537A1
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：PCT/JP2007/050214
申请日：2007-01-11
申请人：株式会社アドバンテスト , 電気化学工業株式会社 , 安田洋 , 原口岳士 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
IPC分类号： H01J37/063 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/065 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375
摘要：本願は輝度を向上した電子銃とそれを用いることにより、スループットを向上した電子ビーム露光装置に関するものである。六ホウ化ランタン（ＬａＢ6）又は六ホウ化セリウム（ＣｅＢ6）からなる電子源（２０）と、サプレッサ電極（２４）と加速電極（２１）からなる電子銃において、前記電子源の先端部が前記サプレッサ電極と前記加速電極との間に配置され、前記電子源は、電子放出領域と電子放出制限領域を有し、前記電子放出制限領域は、前記電子源先端部の電子放出面以外の該電子源側面であって、カーボン（３０）で覆われている。前記電子源は、その先端部が直径１０μｍ～１００μｍの円柱形状からなるようにしても良く、前記電子源の先端部が前記サプレッサ電極上面から２．５ｍｍ以上突き出していて、電子源先端と加速電極との距離が５ｍｍ以下に配置されるようにしても良い。
摘要翻译：提高亮度的电子枪，以及通过使用这种电子枪提高生产量的电子束曝光装置。电子枪包括六硼化镧（LaB6）或六硼化铈（CeB6）的电子源（20），抑制电极（24）和加速电极（21）。电子源的前端配置在抑制电极和加速电极之间，电子源具有电子放电区域和电子放电限制区域，其中电子放电限制区域是除电子放电面外的电子源侧面电子源的末端并用碳（30）覆盖。电子源可以在距离抑制电极的上表面突出2.5mm以上的远端形成具有10〜100μm的直径的柱状，并且其可以被布置成使得远端的电子源和加速电极为5mm以下。

6. 发明申请

WO2009157054A1 マルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置审中-公开
标题翻译：多光子电子束曝光装置和磁场发生装置
公开(公告)号：WO2009157054A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/JP2008/061431
申请日：2008-06-24
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 大饗義久 , 原口岳士
发明人：安田洋 , 大饗義久 , 原口岳士
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/143
CPC分类号： H01J37/143 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3174 , H01J2237/0635 , H01J2237/14
摘要：【課題】狭い空間に強磁場を発生させて各コラムセルの間隔を小さくすることのできるマルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置を提供すること。【解決手段】複数のコラムセルを備えるマルチコラム電子ビーム露光装置は、光軸方向に着磁された光軸対称な２個の環状永久磁石ＰＡ，ＰＢと永久磁石の近傍に配置されて永久磁石による磁場を調整する電磁コイルＥＣ１，ＥＣ２とが強磁性体枠７１によって取り囲まれた電子ビーム収束部と、各コラムセルで使用される電子ビームが通過する円型開口部が設けられ各円型開口部の側部に電子ビーム収束部が配置された基板とを備える。環状永久磁石ＰＡ，ＰＢは極性を対向させて光軸方向に上下２個配置され、環状永久磁石ＰＡ，ＰＢの半径方向の内側または外側に電磁コイルＥＣ１，ＥＣ２を設けるようにしてもよい。
摘要翻译： [问题]提供一种多柱电子束曝光装置，其在小空间中产生强磁场并减小列单元之间的间隔，并提供磁场产生装置。解决问题的手段电子束曝光装置具有多个柱单元。该装置设置有电子束聚焦部分，其中铁磁性框架（71）围绕两个在光轴方向被磁化并且相对于光轴对称的环形永磁体（PA，PB）和电磁线圈 EC1，EC2），其设置在永久磁铁附近，以调整由永磁体产生的磁场; 以及基板，其中布置有圆形开口部分，用于穿过用于每个列单元的电子束，并且电子束聚焦部分布置在每个圆形开口部分的一侧。两个环形永磁体（PA，PB）可以通过相反的极性彼此相对地在光轴方向上垂直布置，并且电磁线圈（EC1，EC2）可以布置在环形永磁体的半径方向内侧或外侧 PA，PB）。

7. 发明申请

WO2008120341A1 電子銃及び電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子枪和电子束曝光系统
公开(公告)号：WO2008120341A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/JP2007/056800
申请日：2007-03-29
申请人：株式会社アドバンテスト , 学校法人名城大学 , 安田洋 , 原口岳士 , 下山宏 , 村田英一
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 下山宏 , 村田英一
IPC分类号： H01J37/065 , H01J3/02 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/063 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/06316 , H01J2237/06375 , H01J2237/065
摘要：本発明は、電子源の昇華量を削減するとともに、ビームの放出角度を小さくして長期間安定に使用することのできる電子銃及び電子ビーム露光装置を提供することを目的とする。本発明の電子銃は、電子源（２０）の電子放出面と対向して配置され、電子を加速する加速電極（２５）と磁界発生部（４１）とを備える電子加速部（４０）と、電子放出面と加速電極との間に配置され、当該電子放出面から電子を引き出す引き出し電極（２１）と、電子放出面の引き出し電極と反対側に配置され、電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極（２４）とを有し、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して熱電界放出電子を放出させる
摘要翻译：电子枪和电子束曝光系统，其可以通过减少电子源的升华量和减小光束的发射角度而长期稳定地使用。电子枪包括电子加速部分（40），其被设置为面对电子源（20）的电子发射表面并具有用于加速电子的加速电极（25）和磁场产生部分（41）; 布置在电子发射表面和加速电极之间的提取电极（21），以从电子发射表面提取电子; 以及设置在与引出电极相反的电子发射表面侧的抑制电极（24），以抑制从电子源的侧面发射电子。通过向电子发射表面施加电场来发射热场发射电子，同时将温度维持在足够低的温度以不引起电子源的材料的升华。

8. 发明申请

WO2008044479A1 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法审中-公开
标题翻译：电子束光刻系统和电子束光刻
公开(公告)号：WO2008044479A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/JP2007/068807
申请日：2007-09-27
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 原口岳士 , 田中仁 , 山田章夫
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 田中仁 , 山田章夫
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/12 , H01J37/305
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J2237/1534
摘要：【課題】リフォーカス時間を短縮し、スループットの向上を図ることのできる電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法を提供すること。【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームを整形するための開口を有する整形手段と、電子ビームを試料面上へ結像させる投影レンズと、投影レンズの上方に設置され、電子ビームの焦点を補正する静電多重極レンズからなるリフォーカスレンズと、整形手段により整形された電子ビームの断面の面積に応じた電圧をリフォーカスレンズに印加する制御手段とを備える。リフォーカスレンズは、４重極静電電極を前記電子ビームのビーム軸方向に３段有するようにしても良く、３段の４重極静電電極のうち、１段目と３段目の電極の長さが同じで、２段目の電極の長さが１段目の電極の長さの２倍にしても良い。
摘要翻译： [问题]提供一种电子束光刻系统和电子束光刻技术，其中缩短了再聚焦时间并提高了生产量。解决问题的手段电子束光刻系统包括用于发射电子束的电子枪，具有形成电子束的孔的成形装置，用于将电子束聚焦到样品表面上的投影透镜，再聚焦透镜安装在投影透镜上方，由用于校正电子束焦点的静电多极透镜组成;以及控制装置，用于将对应于由成形装置成形的电子束横截面积的电压施加到重新对焦镜片。再聚焦透镜可以沿着电子束的光束轴线方向具有三级四极静电电极。第一级和第三级电极的长度可以彼此相等，并且第二级电极的长度可以是第一级电极的长度的两倍。

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