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1. 发明申请

WO2007116741A1 記録システム、記録装置及び記録制御信号生成装置审中-公开
标题翻译：记录系统，记录装置和记录控制信号发生装置
公开(公告)号：WO2007116741A1
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：PCT/JP2007/056411
申请日：2007-03-27
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 細田康雄
发明人：加園修 , 細田康雄
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/743 , G11B5/855 , G11B5/865 , G11B7/261 , G11B9/10
摘要：【課題】記録装置ごとに生じうる各種誤差を補正し、記録パターンの歪みを防止する。【解決手段】フォーマッタ１００の信号生成部３０は、各記録装置１０に固有のずれ量δと記録データＲＤとを記録信号補正器４７に入力し、記録信号補正器４７では、これらに応じてビーム部３３及び回転・送り駆動部３７Ａ，３７Ｂへの補正後のビーム偏向信号Ｖbeamm及び基板速度信号Ｖsubmを生成する。これにより、記録装置１０の各個体ごとにより異なりうる、各部品の組み付け寸法精度や各制御機器の制御精度に基づく誤差（機械的エラー）に対応し、各個体の当該誤差に合致した補正を施すことができる。
摘要翻译： [问题]为了纠正每个记录装置可能引起的各种错误，并防止记录图案的失真。格式化器（100）的信号生成单元（30）在记录信号校正装置（47）中输入每个记录装置（10）固有的偏差量（d）和记录数据（RD）。记录信号校正装置（47）根据它们校正光束单元（33）和旋转/进给驱动单元（37A，37B），并产生光束偏转信号（Vbeamm）和基板速度信号（Vsubm）。因此，可以根据各记录装置（10）中可能不同的各部分的组装尺寸精度和每个控制器控制精度，根据误差（机械误差）进行校正。

2. 发明申请

WO2005096101A1 露光装置审中-公开
标题翻译：曝光设备
公开(公告)号：WO2005096101A1
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：PCT/JP2005/006525
申请日：2005-03-28
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 熊坂治 , 細田康雄
发明人：加園修 , 熊坂治 , 細田康雄
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F16C37/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70875 , G11B7/261 , H01J37/3174
摘要：レジストが形成された基板を保持する基板保持部と、露光ビームの照射位置を基板に対して相対的に変化させる駆動部と、露光ビームの照射中において基板を冷却する冷却部と、を有する。
摘要翻译：曝光装置设置有用于保持形成抗蚀剂的基板的基板保持部，用于改变相对于基板的曝光光束的照射位置的驱动部，以及用于在曝光光束照射期间冷却基板的冷却部。

3. 发明申请

WO2008126316A1 パターンド媒体およびその製造方法审中-公开
标题翻译：图案化介质及其制造方法
公开(公告)号：WO2008126316A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/JP2007/057271
申请日：2007-03-30
申请人：パイオニア株式会社 , 細田康雄 , 加園修
发明人：細田康雄 , 加園修
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/65
CPC分类号： G11B5/855 , G11B5/82
摘要：　高記録密度および再生信号の高Ｓ／Ｎ比を実現し得るドットパターンが形成されたパターンド媒体を製造するための描画方法を提供する。この描画方法は、ベース基板をターンテーブル上に固定するステップと、ターンテーブルを中心軸周りに回転駆動しつつ、前記中心軸周りの方向に設けられた複数の描画用目標線の各々に沿って集束エネルギー線のスポットを前記レジスト膜に周期的に形成することにより前記各目標線に沿って周期的にスポット露光領域を形成するステップと、を備える。前記複数の目標線のうち２以上の所定数の目標線毎に、前記目標線を横断する所定方向に隣り合うスポット露光領域同士が重複して複合露光領域を形成する。
摘要翻译：用于制造图形化介质的绘图方法，其上形成用于实现高记录密度和高S / N比的再现信号的点图案。拉伸方法包括将基板固定到转盘上的步骤，以及通过沿着设置在所述转台上的多个牵引目标线中的每一个周期性地形成聚焦能量束的点，沿着每个目标线周期性地形成点曝光区域的步骤转盘的中心轴的圆周方向，同时围绕中心轴驱动转台。在多个目标线中的多于一个目标线的每个预定数量上，穿过目标线的预定方向相邻的点曝光区域重叠以形成复合曝光区域。

4. 发明申请

WO2008072319A1 記録媒体作製用転写型审中-公开
标题翻译：用于记录中间制造的转印
公开(公告)号：WO2008072319A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：PCT/JP2006/324851
申请日：2006-12-13
申请人：パイオニア株式会社 , 富士通株式会社 , 細田康雄 , 加園修 , 馬田孝博
发明人：細田康雄 , 加園修 , 馬田孝博
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/82
CPC分类号： G11B5/855 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/865
摘要：　ディスク状記録媒体のデータトラックパターンを有するデータ領域と、そのデータ領域の外側及び内側の少なくとも一方にダミーパターンを有するダミー領域とを、転写面に有する記録媒体作製用転写型であり、ダミーパターンはデータトラックパターンのトラックピッチ以上の幅をディスク半径方向に有する複数のダミー凸部による少なくとも１つの列からなる。
摘要翻译：一种用于记录介质制造的转印模具，其具有在其转印表面上的具有盘记录介质的数据轨道图案的数据区域，并且至少在数据区域的外部或内部设置具有虚拟图案的虚拟区域，具有至少一排多个虚拟凸起部分，其具有在盘半径方向上不小于数据轨道图案的轨道间距的宽度。

5. 发明申请

WO2010100712A1 転写装置及び転写方法审中-公开
标题翻译：传送装置和传送方法
公开(公告)号：WO2010100712A1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：PCT/JP2009/053861
申请日：2009-03-02
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 今井哲也 , 橋本和信 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
发明人：加園修 , 今井哲也 , 橋本和信 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
IPC分类号： H01L21/027 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　本発明による転写装置は、被転写体へパターンを転写する転写装置であり、前記パターンが形成されたモールドを保持するモールド保持部と、前記被転写体を支持する支持手段と、前記支持手段が貫通する第１貫通孔を有する支持手段保持部と、前記支持手段保持部を介して光を照射させる光照射手段と、を備え、前記支持手段保持部のうち、前記光の照射経路と重なる少なくとも一部分が、前記光照射手段から照射される前記光を通過可能な光通過領域を有する。
摘要翻译：提供了用于将图案转印到要转印图案的对象的转印装置。转印装置设置有用于保持形成图案的模具的模具保持部分; 支持主体的支撑装置; 支撑装置保持部分，其具有支撑装置穿透的第一通孔; 以及用于通过支撑装置保持部照射光的光照射装置。与光的照射路径重叠的支撑装置保持部的至少一部分具有穿过从照射装置照射的光的光通过面积。

6. 发明申请

WO2010082341A1 転写装置审中-公开
标题翻译：传送装置
公开(公告)号：WO2010082341A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2009/050573
申请日：2009-01-16
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 橋本和信 , 藤縄正 , 小島良明
发明人：加園修 , 橋本和信 , 藤縄正 , 小島良明
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , G11B5/855
摘要：　転写基板を支持するセンターピンに、その中心を特定可能なマークが形成されている。
摘要翻译：可以指定中心销的中心的标记形成在支撑转印基板的中心销上。

7. 发明申请

WO2007105799A1 記録装置、記録制御信号生成装置、転写型の製造方法、転写型及び磁気ディスク审中-公开
标题翻译：记录装置，记录控制信号发生装置，传送类型制造方法和传送类型和磁盘
公开(公告)号：WO2007105799A1
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：PCT/JP2007/055245
申请日：2007-03-15
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修
发明人：加園修
IPC分类号： G11B7/26 , G03F7/20 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/30 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/855 , G11B7/261 , H01J37/3174 , H01J2237/30455 , H01J2237/30483
摘要：【課題】ブランキングを行う必要をなくすことでビーム電流のロスを無くし、スループットを向上する。【解決手段】描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。このとき、描画パターンを径方向に太い大きさで形成したい区間Ｒ６においては、描画速度設定手段４７で描画速度Ｖexpを区間Ｒ４，Ｒ５よりも遅く設定し、Ｖexpが略一定の場合よりもＶsubを相対的に遅くすることで、太い描画を実現できる。
摘要翻译： [问题]通过消除执行消隐的要求，消除光束电流的损失并提高吞吐量。解决问题的手段在绘图图形密度低的区域（R2）中，在基板的圆周方向上的移动速度（Vsub）和光束偏转速度（Vbeam）变得更快，并且在区域（R1，R3），其中图形密度高。由此消除了由消隐控制单元（31）执行的消隐。在直径方向形成有粗图案的区域（R6）中，拉拔速度设定单元（47）将拉拔速度（Vexp）设定为比区域（R4，R5）和移动速度（ Vsub）的制造速度比拉伸速度（Vexp）基本上恒定的情况相对较慢，得到厚的拉深。

8. 发明申请

WO2010082298A1 転写装置及び転写方法审中-公开
标题翻译：传输设备和传输方法
公开(公告)号：WO2010082298A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2009/050313
申请日：2009-01-13
申请人：パイオニア株式会社 , 今井哲也 , 加園修 , 橋本和信
发明人：今井哲也 , 加園修 , 橋本和信
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/30 , G11B5/84 , H01L21/027 , B29L17/00
CPC分类号： G11B5/8404 , B29C59/002 , B29C59/02 , G11B5/855
摘要：　凹凸パターンが形成されている第１及び第２モールドを用いて、前記凹凸パターンを被転写体の一方の面及び他方の面に転写する転写装置であって、前記第１モールド及び前記第２モールドの相対位置を調整する手段と、前記第１及び第２モールド各々に形成されている前記凹凸パターンの中心と前記被転写体の中心との相対位置を調整する手段を含む転写装置。　
摘要翻译：提供了一种用于通过使用其上形成有凹凸图案的第一和第二模具将粗糙图案转印到转印体的一个表面和另一个表面的转印装置。传送装置包括用于调节第一模具和第二模具的相对位置的装置和用于调节分别形成在第一模具和第二模具上的凹凸图案的中心与转印对象中心之间的相对位置的装置。

9. 发明申请

WO2010087021A1 転写装置审中-公开
标题翻译：传输设备
公开(公告)号：WO2010087021A1
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/JP2009/051719
申请日：2009-02-02
申请人：パイオニア株式会社 , 今井哲也 , 橋本和信 , 加園修 , 糟谷孝幸
发明人：今井哲也 , 橋本和信 , 加園修 , 糟谷孝幸
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　被転写体の転写層を硬化させるべく当該被転写体の上下からそれぞれ発せられた転写層硬化エネルギー線の一部を遮光する遮光部を含む転写装置。
摘要翻译：转印装置包括遮光单元，用于屏蔽从要转印的主体的上侧和下侧发射的转印层硬化能量射线的一部分，以便硬化被转印体的转印层。

10. 发明申请

WO2010082299A1 転写装置及びカメラ位置調整方法审中-公开
标题翻译：转移装置和摄像机位置调整方法
公开(公告)号：WO2010082299A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2009/050314
申请日：2009-01-13
申请人：パイオニア株式会社 , 橋本和信 , 加園修 , 今井哲也
发明人：橋本和信 , 加園修 , 今井哲也
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , G11B5/855
摘要：　転写基板に対向して設置されたユニットステージと、当該ユニットステージ上に設置された中心カメラ及び外周カメラと、当該ユニットステージの設置位置を移動させるユニットステージ位置調整手段と、当該外周カメラの設置位置を移動可能とする外周カメラ位置調整手段と、を含む。
摘要翻译：传送装置包括：设置成面对转印基板的单元级; 布置在单元台上的中心相机和外围相机; 单元级位置调整单元，用于移动单元级的排列位置; 以及能够使外周摄像机的配置位置偏移的外周摄像机位置调整单元。

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