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1. 发明申请

WO2010100712A1 転写装置及び転写方法审中-公开
标题翻译：传送装置和传送方法
公开(公告)号：WO2010100712A1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：PCT/JP2009/053861
申请日：2009-03-02
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 今井哲也 , 橋本和信 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
发明人：加園修 , 今井哲也 , 橋本和信 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
IPC分类号： H01L21/027 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　本発明による転写装置は、被転写体へパターンを転写する転写装置であり、前記パターンが形成されたモールドを保持するモールド保持部と、前記被転写体を支持する支持手段と、前記支持手段が貫通する第１貫通孔を有する支持手段保持部と、前記支持手段保持部を介して光を照射させる光照射手段と、を備え、前記支持手段保持部のうち、前記光の照射経路と重なる少なくとも一部分が、前記光照射手段から照射される前記光を通過可能な光通過領域を有する。
摘要翻译：提供了用于将图案转印到要转印图案的对象的转印装置。转印装置设置有用于保持形成图案的模具的模具保持部分; 支持主体的支撑装置; 支撑装置保持部分，其具有支撑装置穿透的第一通孔; 以及用于通过支撑装置保持部照射光的光照射装置。与光的照射路径重叠的支撑装置保持部的至少一部分具有穿过从照射装置照射的光的光通过面积。

2. 发明申请

WO2010086983A1 転写装置审中-公开
标题翻译：传输设备
公开(公告)号：WO2010086983A1
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/JP2009/051473
申请日：2009-01-29
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
发明人：加園修 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/30 , G11B5/84 , H01L21/027 , B29L17/00
CPC分类号： G11B5/855 , B29C33/30
摘要：　転写層が両面に形成された基板を保持する基板保持手段と、基板の一方の転写層に転写させるべき第１パターンが形成された第１モールドを把持する第１モールド把持手段と、基板の他方の転写層に転写させるべき第２パターンが形成された第２モールドを把持する第２モールド把持手段と、第１モールドの第１パターンを基板の一方の転写層に転写させつつ、第２モールドの第２パターンを基板の他方の転写層に転写させる転写手段と、を備え、第１モールドの第１パターンを基板の一方の転写層に転写中、及び第２モールドの第２パターンを基板の他方の転写層に転写中に、第１モールド把持手段と第２モールド把持手段とが互いに干渉しない位置に第１モールド把持手段及び第２モールド把持手段が配置されている転写装置。
摘要翻译：转印装置设置有用于在形成有转印层的两个表面上保持基板的基板保持装置，用于夹持第一模具的第一模具夹持装置，待转印到基板的一个转印层上的第一图案是形成有第二模具夹持装置，用于夹持第二模具，在其上形成要转移到基板的另一转印层的第二图案;以及转印装置，用于将第一模具的第一图案转印到第一模具的一个转印层并且同时将第二模具的第二图案转移到基板的另一转印层。第一模具夹持装置和第二模具夹持装置设置在第一模具夹持装置和第二模具夹持装置彼此不干涉的位置，同时第一模具的第一图案被转移到一个转印层并且当第二模具的第二图案被转移到基板的另一转印层时。

3. 发明申请

WO2010082300A1 転写装置审中-公开
标题翻译：传输设备
公开(公告)号：WO2010082300A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2009/050315
申请日：2009-01-13
申请人：パイオニア株式会社 , 今井哲也 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
发明人：今井哲也 , 藤原睦巳 , 太田圭亮
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　被転写体を支持する支持機構を移動させる支持機構駆動手段と、被転写体の表面に向けてエネルギー線を照射する照射手段とが設置される装置において、パターン転写処理の進捗に応じて、光照射手段及び支持機構駆動手段のいずれか１つを使用位置に移動可能にする。　
摘要翻译：传送装置设置有用于移动用于支撑转印体的支撑机构的支撑机构驱动装置和用于向转印体的表面照射能量束的照射装置。在该装置中，光照射装置或支撑机构驱动装置中的一个可根据图案转印处理的进程朝向使用位置移动。

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