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1. 发明申请

WO2005081068A3 IMAGING SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHICAL PROJECTION LIGHT SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备的图解系统
公开(公告)号：WO2005081068A3
公开(公告)日：2005-11-10
申请号：PCT/EP2005000277
申请日：2005-01-13
申请人： ZEISS CARL SMT AG , GRUNER TORALF , EPPLE ALEXANDER , KNEER BERNHARD , WABRA NORBERT , BEDER SUSANNE , DORSEL ANDREAS
发明人： GRUNER TORALF , EPPLE ALEXANDER , KNEER BERNHARD , WABRA NORBERT , BEDER SUSANNE , DORSEL ANDREAS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an imaging system of a microlithographical projection light system, comprising a projection lens (200, 300, 500, 600) which is used to reproduce a mask which can be positioned on a lens plane on a light-sensitive layer which can be positioned on an image plane; and a fluid inlet (205) which is used to fill an intermediate chamber between the image plane and a final optical element (201, 309, 506) of the projection lens, with immersion liquid (202, 310, 507, 601), on the image plane. The final optical element of the projection lens on the image plane is arranged, in the direction of gravity, after the image plane and the projection lens is embodied in such a manner that the immersion fluid, in the immersion state, comprises a convex curve, in the direction oriented away from the image plane, at least in one area. According to the invention, the final optical element (201, 309, 506) of the projection lens on the image plane is arranged below the image plane in such a manner that the immersion fluid (202, 310, 507, 601) is at least partially arranged in an essentially dish-shaped area on the final optical element on the image plane. Said system can also comprises a rotator which is used to rotate a substrate comprising the light-sensitive layer (401) between a transport position, wherein the light-sensitive layer is arranged on a substrate surface disposed in the counter direction to the direction of gravity, and a position of exposure, wherein the light-sensitive layer (401) is arranged on a substrate surface disposed in the direction of gravity.
摘要翻译：具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中投影透镜的图像平面侧最后一个光学元件沿像平面在重力方向上布置; 并且其中所述投影透镜被设计成使得在浸没模式中，所述浸没液体在远离所述像平面的方向上至少部分地凸出地弯曲。还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地最后一个光学元件被安排。用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401）可以设置平躺的基板表面。

2. 发明申请

WO2006053751A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光设备的投影目标
公开(公告)号：WO2006053751A2
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012327
申请日：2005-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
发明人： BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20) auf, das ein Objekt (24) auf eine Bildebene (28) abbildet und eine Linse (L3) mit einer gekrümmten Fläche (S) hat. In dem Projektionsobjektiv (20) befindet sich ein flüssiges oder festes Medium (34), das unmittelbar an die gekrümmte Fläche (S) über einen Bereich hinweg angrenzt, der für die Abbildung des Objekts (24) nutzbar ist. Die Projektionsbelichtungsanlage weist außerdem einen verstellbaren Manipulator (M) zur Verringerung einer Bildfeldwölbung auf, die durch eine Erwärmung des Mediums (34) während des Projektionsbetriebs verursacht wird.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包括：一个投影透镜（20）到图像平面（28）的图像的对象（24）和具有一个冠导航中使用的透镜（L3）奈德FL＆AUML;枝（S）具有，在投影透镜20中，存在液体或固体介质34，其在与图像相邻的区域上紧邻曲面S 物体（24）的尺寸是可用的。投影曝光＆害羞;植物具有坳道除了可调节的操纵器（M），以减少一个Bildfeldw＆OUML; lbung，其通过EI＆害羞; NE广告＆AUML;所述介质（34）的变暖W＆AUML; Projektionsbe＆期间害羞;引起驱动。

3. 发明申请

WO2005081068A2 ABBILDUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： PICTURE SYSTEM FOR A微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2005081068A2
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2005/000277
申请日：2005-01-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
发明人： GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Abbildungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Projektionsobjektiv (200, 300, 500, 600) zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht; und einer Flüssigkeitszufuhr (205) zum Füllen eines Zwischenraums zwischen der Bildebene und einem bildebenenseitig letzten optischen Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs mit Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601); wobei das bildebenenseitig letzte optische Element des Projektionsobjektivs in Schwerkraftrichtung nachfolgend zur Bildebene angeordnet ist; und wobei das Projektionsobjektiv derart ausgelegt ist, dass im Immersionsbetrieb die Immersionsflüssigkeit in zur Bildebene abgewandter Richtung wenigstens bereichsweise konvex gekrümmt ist. Es wird auch vorgesehen, dass das bildebenenseitig letzte optische Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs unter der Bildebene derart angeordnet ist, dass die Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601) zumindest teilweise in einem im wesentlichen wannenförmigen Bereich auf dem bildebenenseitig letzten optischen Element angeordnet wird. Auch kann ein Rotator zum Drehen eines die lichtempfindliche Schicht (401) aufweisenden Substrats zwischen einer Transportorientierung, in der die lichtempfindliche Schicht auf einer entgegengesetzt zur Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, und einer Belichtungsorientierung, in welcher die lichtempfindliche Schicht (401) auf einer in Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, vorgesehen sein.
摘要翻译：具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中所述投射物镜的像面侧最后光学元件被布置在图像平面下方的重力方向; 并且其中，所述投射物镜被设计成使得在浸液操作中，浸没液体在背离图像面方向至少部分地凸形弯曲远离。还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地最后的光学元件被布置。用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401）布置，可以提供下面的基底表面。

4. 发明申请

WO2013072388A1 PROJECTION LENS OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影镜头
公开(公告)号：WO2013072388A1
公开(公告)日：2013-05-23
申请号：PCT/EP2012/072653
申请日：2012-11-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SCHNEIDER, Sonja , WABRA, Norbert , HODENBERG VON, Martin , BITTNER, Boris , SCHNEIDER, Ricarda
发明人： SCHNEIDER, Sonja , WABRA, Norbert , HODENBERG VON, Martin , BITTNER, Boris , SCHNEIDER, Ricarda
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/08 , G02B26/00 , G02B27/58
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B7/1815 , G02B17/0657 , G02B17/0892 , G02B27/0025 , G03F7/70233 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection lens of a microlithographic projection exposure apparatus, for imaging an object plane illuminated during the operation of the projection exposure apparatus into an image plane, wherein the projection lens comprises at least one mirror segment arrangement (100, 200, 400) composed of a plurality of separate mirror segments (111, 112, 113, 211, 311, 411, 412, 413,...), and wherein the optically usable area of at least one individual mirror segment (111, 112, 113, 211, 311, 411, 412, 413,...) in said mirror segment arrangement amounts to at most 10% of the maximum subaperture on the mirror segment arrangement that occurs during the operation of the projection exposure apparatus.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的投影透镜，用于将在投影曝光装置的操作期间照亮的物体成像成像面，其中投影透镜包括至少一个镜片段装置（100,200,400 ），其由多个分离的镜片段（111,112,113,211,311,411,412,413，...）组成，并且其中至少一个单独镜片段（111,112,113）的光学可用区域，211,311,411,412,413，...）相等于投影曝光装置的操作期间发生的镜片布置上的最大子孔径的至多10％。

5. 发明申请

WO2013050199A1 REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, METHOD FOR PRODUCING AND FOR CORRECTING SUCH AN ELEMENT, PROJECTION LENS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH AN ELEMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的反射光学元件，用于校正这种元件的微型计算机的生产和校正方法，以及包含这样一个投影镜头的微型计算机的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2013050199A1
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：PCT/EP2012/065838
申请日：2012-08-14
申请人： CARL ZEISS SMT GmbH , WEISS, Markus , KERWIEN, Norbert , WEISER, Martin , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHLICHENMAIER, Christoph , CLAUSS, Wilfried
发明人： WEISS, Markus , KERWIEN, Norbert , WEISER, Martin , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHLICHENMAIER, Christoph , CLAUSS, Wilfried
IPC分类号： G03F1/60 , G03F1/00 , G21K1/06 , G06F1/24 , G03F1/72 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/0891 , B29D11/00009 , B29D11/00865 , B82Y10/00 , G02B13/143 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F1/72 , G03F7/70316 , G03F7/70591 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a reflective optical element 39 for the EUV wavelength range comprising a layer arrangement applied on the surface of a substrate, wherein the layer arrangement comprises at least one layer subsystem 37 consisting of a periodic sequence of at least one period of individual layers, wherein the period comprises two individual layers having different refractive indices in the EUV wavelength range, wherein the substrate has a variation of the density of more than 1% by volume at least along an imaginary surface 30 at a fixed distance of between 0 μm and 100 μm from the surface, and wherein the substrate is protected against long-term ageing or densification by EUV radiation either by means of a protective layer or by means of a protective layer subsystem of the layer arrangement or by means of a correspondingly densified surface region 35 of the substrate. Furthermore, the invention relates to a method for producing such a reflective optical element. Furthermore, the invention relates to a method for correcting such a reflective optical element, and to a projection lens comprising such an optical element, and to a projection exposure apparatus comprising such a projection lens.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射光学元件39，其包括施加在衬底的表面上的层布置，其中该层布置包括至少一个层子系统37，其由至少一个单独层的周期序列组成，其中所述周期包括在EUV波长范围内具有不同折射率的两个单独的层，其中所述衬底至少沿着假想表面30具有大于1体积％的密度的变化，所述假想表面30在0和0之间的固定距离处 100毫米表面，并且其中通过EUV辐射保护衬底免受长期老化或致密化，或者借助于保护层或通过层布置的保护层子系统或通过相应致密化的表面区域 35的基板。此外，本发明涉及一种制造这种反射型光学元件的方法。此外，本发明涉及一种用于校正这种反射型光学元件的方法以及包括这种光学元件的投影透镜以及包括这种投影透镜的投影曝光设备。

6. 发明申请

WO2006053751A3 PROJECTION LENS SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION 审中-公开
标题翻译：投影镜头的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2006053751A3
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：PCT/EP2005012327
申请日：2005-11-17
申请人： ZEISS CARL SMT AG , BEIERL HELMUT , BLEIDISTEL SASCHA , SINGER WOLFGANG , GRUNER TORALF , EPPLE ALEXANDER , WABRA NORBERT , BEDER SUSANNE , WEBER JOCHEN , FELDMANN HEIKO , SCHWAER BAERBEL , ROGALSKY OLAF , KAZI ARI
发明人： BEIERL HELMUT , BLEIDISTEL SASCHA , SINGER WOLFGANG , GRUNER TORALF , EPPLE ALEXANDER , WABRA NORBERT , BEDER SUSANNE , WEBER JOCHEN , FELDMANN HEIKO , SCHWAER BAERBEL , ROGALSKY OLAF , KAZI ARIF
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： A microlithographic projection exposure installation comprises a projection lens system (20), which projects an object (24) onto a focal plane (28) and which has a lens (L3) with a curved surface (S). A liquid or solid medium (34) is located in the projection lens system (20) and directly abuts against the curved surface (S) over an area that can be used for the projection of the object (24). The projection exposure installation also comprises an adjustable manipulator (M) for reducing a curvature of field that is caused by a heating of the medium (34) during the projection operation.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备包括：一个投影透镜（20），该图像的对象（24）到图像平面（28）和具有弯曲表面（S）的透镜（L3）。在投影透镜（20）是液体或固体培养基（34），紧邻所述弯曲表面（S）在一定范围内作为用于所述对象（24）的成像。的投影曝光装置还包括一个可调节的操纵器（M），以减少的场曲，这是由投影操作期间介质（34）的加热而引起的。

7. 发明申请

WO2005081067A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置投影目标
公开(公告)号：WO2005081067A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2004/014727
申请日：2004-12-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus (110) is designed for immersion operation in which an immersion liquid (134) adjoins a photosensitive layer (126). The refractive index of the immersion liquid is greater than the refractive index of a medium (L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9). that adjoins the immersion liquid on the object side of the projection objective (120; 120'; 120"). The projection objective is designed such that the immersion liquid (134) is convexly curved towards the object plane (122) during immersion operation.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（110）的投影物镜被设计用于浸没操作，其中浸没液体（134）邻接感光层（126）。浸没液的折射率大于介质的折射率（L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9）。在所述投影物镜（120; 120'; 120“）的物体侧邻接所述浸没液体，所述投影物镜被设计为使得所述浸没液体（134）在浸入操作期间朝向所述物体平面（122）凸形弯曲。

8. 发明申请

WO2014207014A1 SPIEGEL FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUR BEARBEITUNG EINES SPIEGELS 审中-公开
标题翻译：镜，用于微光刻投射曝光装置和方法，用于处理的反射镜的
公开(公告)号：WO2014207014A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/EP2014/063337
申请日：2014-06-25
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SCHUSTER, Karl-Heinz , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , WAGNER, Hendrik , WALD, Christian , PAULS, Walter , SCHMIDT, Holger
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , WAGNER, Hendrik , WALD, Christian , PAULS, Walter , SCHMIDT, Holger
IPC分类号： G02B5/08 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/085 , G02B5/0891 , G02B27/0006 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zur Bearbeitung eines Spiegels. Ein erfindungsgemäßer Spiegel weist eine optische Wirkfläche, ein Spiegelsubstrat und ein Vielfachschichtsystem zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche auftreffender elektromagnetischer Strahlung einer Arbeitswellenlänge der Projektionsbelichtungsanlage auf, wobei das Vielfachschichtsystem eine Mehrzahl von Reflexionsschichtstapeln (16a, 16b, 16c, 26a, 26b) aufweist, zwischen denen jeweils eine Trennschicht (15a, 15b, 15c, 25a, 25b) angeordnet ist, und wobei diese Trennschicht aus einem Material hergestellt ist, welches eine Schmelztemperatur besitzt, die wenigstens 80°C beträgt und kleiner als 300°C ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投射曝光设备中的反射镜和用于加工镜的方法。根据本发明的反射镜具有一个光学有效区域，反射镜衬底，以及用于反射入射到投影曝光装置，的工作波长的电磁辐射的光学有效区域的多层系统，其中所述多个层系统（，26b的16A，16B，16C，26A），具有多个反射层堆叠的，之间其每一个的分离层的（15A，25B 15B，15C，25A）被布置，并且其中所述剥离层由具有的熔融温度为至少80℃且低于300℃的材料的

9. 发明申请

WO2014086905A1 REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：反射光学元件的反射光学元件和制造反射光学元件的方法
公开(公告)号：WO2014086905A1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：PCT/EP2013/075620
申请日：2013-12-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WABRA, Norbert , BITTNER, Boris , VON HODENBERG, Martin , ENKISCH, Hartmut , MÜLLENDER, Stephan , CONRADI, Olaf
发明人： WABRA, Norbert , BITTNER, Boris , VON HODENBERG, Martin , ENKISCH, Hartmut , MÜLLENDER, Stephan , CONRADI, Olaf
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08 , G21K1/06 , G03F1/22
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B17/0663 , G02B27/1033 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a reflective optical element of an optical system for EUV lithography as well as to a method of manufacturing a reflective optical element of an optical system for EUV lithography, said reflective optical element (20) comprising a multilayer system (23, 83) for reflecting an incident electromagnetic wave having an operating wavelength in the EUV range, the reflected wave having a phase φ, and a capping layer (25, 85) made from a capping layer material, wherein the method comprises the following steps: determining, for said capping layer material, a dependency according to which the phase of the reflected wave varies with the thickness of the capping layer, determining a linearity-region in said dependency in which the phase of the reflected wave varies substantially linearly with the thickness of the capping layer (25, 85), and creating a thickness profile in said capping layer (25, 85) such that both the maximum thickness and the minimum thickness in said thickness profile are in said linearity-region.
摘要翻译：本发明涉及用于EUV光刻的光学系统的反射光学元件以及制造用于EUV光刻的光学系统的反射光学元件的方法，所述反射光学元件（20）包括多层系统（23,83 ），用于反射具有在EUV范围内的工作波长的入射电磁波，所述反射波具有相位和由覆盖层材料制成的覆盖层（25,85），其中所述方法包括以下步骤：确定对于所述覆盖层材料，依赖于反射波的相位随着覆盖层的厚度而变化的依赖性，确定所述依赖性中的线性区域，其中反射波的相位基本上以封盖层（25,85），并且在所述封盖层（25,85）中产生厚度分布，使得所述封盖层（25,85）中的最大厚度和最小厚度厚度分布在所述线性区域中。

10. 发明申请

WO2013044936A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2013044936A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2011/004859
申请日：2011-09-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ZELLNER, Johannes , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , HODENBERG, Martin von , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , SCHOB, Arne , RUDOLPH, Günter , GRATZKE, Alexander , MOFFAT, Bryce, Anton
发明人： ZELLNER, Johannes , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , HODENBERG, Martin von , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , SCHOB, Arne , RUDOLPH, Günter , GRATZKE, Alexander , MOFFAT, Bryce, Anton
IPC分类号： G03F7/20 , H01S5/00
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70891 , H01S5/005 , H01S5/0064 , H01S5/4025
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a wavefront correction device (42) comprising a refractive optical element (44; 44a, 44b) that has two opposite optical surfaces (46, 48), through which projection light passes, and a circumferential rim surface (50) extending between the two optical surfaces (46, 48). A first and a second optical system (OS1, OS2) are configured to direct first and second heating light (HL1, HL2) to different portions of the rim surface (50) such that at least a portion of the first and second heating light enters the refractive optical element (44; 44a, 44b). A temperature distribution caused by a partial absorption of the heating light (HL1, HL2) results in a refractive index distribution inside the refractive optical element (44; 44a, 44b) that corrects a wavefront error. At least the first optical system (OS1) comprises a focusing optical element (55) that focuses the first heating light in a focal area (56) such that the first heating light emerging from the focal area (56) impinges on the rim surface (50).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜包括波阵面校正装置（42），其包括折射光学元件（44; 44a，44b），该折射光学元件具有两个相对的光学表面（46,48），投射光通过该光学表面轮缘表面（50）在两个光学表面（46,48）之间延伸。第一和第二光学系统（OS1，OS2）被配置为将第一和第二加热光（HL1，HL2）引导到边缘表面（50）的不同部分，使得第一和第二加热光的至少一部分进入折射光学元件（44; 44a，44b）。由加热光（HL1，HL2）的部分吸收引起的温度分布导致折射光学元件（44; 44a，44b）内的折射率分布，其校正波前误差。至少第一光学系统（OS1）包括聚焦光学元件（55），其将第一加热光聚焦在聚焦区域（56）中，使得从聚焦区域（56）出射的第一加热光照射在边缘表面上 50）。

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