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热词
    • 1. 发明申请
    • MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    • 微波投影曝光装置
    • WO2009046895A1
    • 2009-04-16
    • PCT/EP2008/008251
    • 2008-09-29
    • CARL ZEISS SMT AGDODOC, AurelianBLEIDISTEL, SaschaCONRADI, OlafKAZI, Arif
    • DODOC, AurelianBLEIDISTEL, SaschaCONRADI, OlafKAZI, Arif
    • G03F7/20
    • G03F7/70891G03F7/70308
    • A microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a primary illumination system (12) producing projection light, a projection objective (20; 120) and a correction optical system. The latter comprises a secondary illumination system (30; 130), which produces an intensity distribution of correction light in a reference surface (48; 148), and a correction element (32; 132) which includes a heating material and is arranged in a plane (38; 174) being at least substantially optically conjugate to the reference surface (48; 148) such that the correction light and the projection light pass through at least one lens contained in the projection objective (20; 120) before they impinge on the correction element (32; 132). All lenses (34; L1 to L5) through which both the correction light and the projection light pass are made of a lens material which has a lower coefficient of absorption for the correction light than the heating material contained in the correction element.
    • 微光刻投影曝光装置(10)包括产生投影光的一次照明系统(12),投影物镜(20; 120)和校正光学系统。 后者包括二次照明系统(30; 130),其在参考表面(48; 148)中产生校正光的强度分布;以及校正元件(32; 132),其包括加热材料并且布置在 平面(38; 174)至少基本上与参考表面(48; 148)光学共轭,使得校正光和投影光在它们撞击之前穿过包含在投影物镜(20; 120)中的至少一个透镜 所述校正元件(32; 132)。 校正光和投影光通过的所有透镜(34; L1至L5)由与校正元件中包含的加热材料相比具有较低的校正光吸收系数的透镜材料制成。
    • 9. 发明申请
    • KORREKTUR OPTISCHER ELEMENTE MITTELS FLACH EINGESTRAHLTEM KORREKTURLICHT
    • 光学元件采用平EINGESTRAHLTEM修正光修正
    • WO2008116886A1
    • 2008-10-02
    • PCT/EP2008/053577
    • 2008-03-26
    • Carl Zeiss SMT AGBLEIDISTEL, SaschaMAUL, Manfred
    • BLEIDISTEL, SaschaMAUL, Manfred
    • G03F7/20
    • G02B26/0816G02B7/028G02B27/0068G02F1/293G03F7/70258G03F7/70308G03F7/70891
    • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Korrekturlicht-Vorrichtung zur Bestrahlung von optischen Elementen einer optischen Anordnung, insbesondere eines Objektivs, vorzugsweise Mikrolithographieobjektives mit Korrekturlicht, bei welcher mindestens eine Korrekturlichtquelle und mindestens eine Spiegelanordnung (22) vorgesehen sind, welche das Licht von der Korrekturlichtquelle im Strahlengang zum optischen Element (6) ablenkt, so dass örtlich und/oder zeitlich variabel zumindest Teile mindestens einer Oberfläche (9) mindestens eines optischen Elements der optischen Anordnung bestrahlt werden, wobei das Korrekturlicht unter einem flachen Winkel auf die Oberfläche des optischen Elements auftrifft, so dass der stumpfe Winkel zwischen der optischen Achse der optischen Anordnung am Ort des optischen Elements und dem Korrekturlichtstrahl kleiner gleich 105°, insbesondere kleiner gleich 100°, vorzugsweise kleiner gleich 95° ist.
    • 本发明涉及一种校正光装置照射的光学装置的光学元件,特别是透镜,优选为微光刻透镜校正光,其中提供至少一个校正光源和至少一个反射镜组件(22),它从在光束路径中的校正光源用于将光 光学元件(6)偏转,以便在本地和/或在(9)的光学装置中的至少一个光学元件的被照射的至少一个表面的至少一部分,其中,所述校正光入射以浅角度到光学元件的表面上,以便在时间上可变 在光学元件和校正光束的位置的光学组件的光学轴之间的钝角小于或等于105°,特别是小于或等于100°,优选小于或等于95°。