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1. 发明申请

WO2009046895A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009046895A1
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：PCT/EP2008/008251
申请日：2008-09-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , BLEIDISTEL, Sascha , CONRADI, Olaf , KAZI, Arif
发明人： DODOC, Aurelian , BLEIDISTEL, Sascha , CONRADI, Olaf , KAZI, Arif
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70308
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a primary illumination system (12) producing projection light, a projection objective (20; 120) and a correction optical system. The latter comprises a secondary illumination system (30; 130), which produces an intensity distribution of correction light in a reference surface (48; 148), and a correction element (32; 132) which includes a heating material and is arranged in a plane (38; 174) being at least substantially optically conjugate to the reference surface (48; 148) such that the correction light and the projection light pass through at least one lens contained in the projection objective (20; 120) before they impinge on the correction element (32; 132). All lenses (34; L1 to L5) through which both the correction light and the projection light pass are made of a lens material which has a lower coefficient of absorption for the correction light than the heating material contained in the correction element.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）包括产生投影光的一次照明系统（12），投影物镜（20; 120）和校正光学系统。后者包括二次照明系统（30; 130），其在参考表面（48; 148）中产生校正光的强度分布;以及校正元件（32; 132），其包括加热材料并且布置在平面（38; 174）至少基本上与参考表面（48; 148）光学共轭，使得校正光和投影光在它们撞击之前穿过包含在投影物镜（20; 120）中的至少一个透镜所述校正元件（32; 132）。校正光和投影光通过的所有透镜（34; L1至L5）由与校正元件中包含的加热材料相比具有较低的校正光吸收系数的透镜材料制成。

2. 发明申请

WO2008037496A3 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
公开(公告)号：WO2008037496A3
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/EP2007/008476
申请日：2007-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
发明人： BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
摘要： A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).

3. 发明申请

WO2011051069A1 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：包含反射光学元件和测量装置的目标投影目标
公开(公告)号：WO2011051069A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/064380
申请日：2010-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , ZACZEK, Christoph , MÜLLER, Ralf
发明人： BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , ZACZEK, Christoph , MÜLLER, Ralf
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B13/143 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G03F7/70225 , G03F7/706
摘要： The invention relates to a catadioptric projection objective for imaging an object field onto an image field by means of an imaging radiation. In this case, the projection objective comprises at least one reflective optical component and a measuring device, wherein the reflective optical component, during the operation of the projection objective, reflects a first part of the imaging radiation and transmits a second part of the imaging radiation. While the rεfleeted, first part of the imaging radiation at least partly contributes to the imaging of the object field, the transmitted, second part of the imaging radiation is at least partly fed to a measuring device. This allows a simultaneous exposure of the photosensitive layer at the location of the image field with the imaging radiation and a monitoring of said imaging radiation with the aid of the measuring
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过成像辐射将对象场成像到图像场上的反射折射投影物镜。在这种情况下，投影物镜包括至少一个反射光学部件和测量装置，其中反射光学部件在投影物镜的操作过程中反射成像辐射的第一部分并透射成像辐射的第二部分。虽然反射的，成像辐射的第一部分至少部分地有助于对象场的成像，但是成像辐射的透射的第二部分至少部分地被馈送到测量装置。这允许在图像场的位置处的感光层与成像辐射的同时曝光并且借助于测量来监测所述成像辐射

4. 发明申请

WO2010133231A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY COMPRISING AN OPTICAL CORRECTION ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：包含光学校正装置的半导体光栅投影曝光装置
公开(公告)号：WO2010133231A1
公开(公告)日：2010-11-25
申请号：PCT/EP2009/003504
申请日：2009-05-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BLEIDISTEL, Sascha , CONRADI, Olaf , KAZI, Arif
发明人： BLEIDISTEL, Sascha , CONRADI, Olaf , KAZI, Arif
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B7/008 , G02B27/0068 , G03F7/70308
摘要： The invention relates to an optical correction arrangement comprising at least one optical element (2), at least one irradiation means for the targeted local irradiation of the optical element (2) with electromagnetic heating radiation (7) for the targeted local heating of the optical element (2), wherein means for dissipating the thermal energy introduced into the optical element (2) by the at least one irradiation means are present. The invention furthermore relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising an optical correction arrangement according to the invention.
摘要翻译：本发明涉及一种光学校正装置，其包括至少一个光学元件（2），至少一个照射装置，用于利用电磁加热辐射（7）对光学元件（2）进行目标局部照射，用于光学目标局部加热元件（2），其中存在用于通过所述至少一个照射装置耗散引入到所述光学元件（2）中的热能的装置。本发明还涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，其包括根据本发明的光学校正装置。

5. 发明申请

WO2006125538A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的光学系统
公开(公告)号：WO2006125538A1
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/EP2006/004520
申请日：2006-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , EHRMANN, Albrecht , BLEIDISTEL, Sascha
发明人： DODOC, Aurelian , EHRMANN, Albrecht , BLEIDISTEL, Sascha
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B3/12 , G03F7/70341
摘要： An optical system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) contains a module (50; 150), which can be fitted in the optical system and removed from it as a unit. The module contains a cavity (42; 142) which can be completely filled with a liquid (34; 134) and hermetically sealed, and a concavely curved optical surface (S) which bounds the cavity at the top during operation of the projection exposure apparatus (10) . This makes it possible to fill the module outside the optical system, The module can be tilted there so that no air bubble, which prevents complete filling, can form below the concavely curved optical surface.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的光学系统包含可以安装在光学系统中并作为一个单元从其中移除的模块（50; 150）。该模块包括可完全充满液体（34; 134）并气密密封的空腔（42; 142）和在投影曝光设备的操作期间界定顶部空腔的凹曲面光学表面（S）（10）。这使得可以将模块填充到光学系统外部。该模块可以在那里倾斜，使得不会在凹曲面光学表面下方形成防止完全填充的气泡。

6. 发明申请

WO2016131758A1 BAUGRUPPE EINES OPTISCHEN SYSTEMS, INSBESONDERE EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：组件中的光学系统的，尤其是微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2016131758A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/EP2016/053139
申请日：2016-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
发明人： HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
IPC分类号： G03F7/20 , H04B5/00
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70116 , H04B5/0081
摘要： Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung (1 10, 210, 310, 410), welche eine Mehrzahl unabhängig voneinander verstellbarer Spiegelelemente (1 10a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) aufweist, und einer Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420), welche Ansteuerungsdaten sowie eine Versorgungsspannung zur Ansteuerung einer Verstellung der jeweiligen Spiegelelemente erzeugt, wobei die Baugruppe zur galvanisch getrennten Übertragung der Ansteuerungsdaten und/oder der Versorgungsspannung von der Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420) an die Spiegelelemente (110a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) ausgelegt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统的组件，尤其是微光刻投射曝光系统的，具有包括多个独立地可调节的反射镜元件（1 110A，110B，210A，210B，310A，310B的反射镜组件（110，210，310，410）， 410A，410B），并且其产生驱动数据的数据和电压生成部（120，220，320，420），以及用于驱动各个反射镜元件的调整的电源电压，用于驱动数据的电隔离发送和/或电源电压的组件数据和电压生成部（120，220，320，420）到反射镜元件（110A，1 10B，210A，210B，310A，310B，410A，410B）的适于。

7. 发明申请

WO2012041461A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻曝光法
公开(公告)号：WO2012041461A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004750
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).
摘要翻译：用于微曝光曝光衬底（20）的投影曝光工具（10）包括投影物镜（18）和用于确定衬底（20）的表面形貌的光学测量装置（40）在后者暴露之前。测量设备（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量设备，该波前测量设备被配置为同时在基板表面上的多个点处确定地形测量值 21）。

8. 发明申请

WO2006125617A3 METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF A PROJECTION OBJECTIVE, AND SUCH A PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：改进投影目标成像特性的方法及其投影目标
公开(公告)号：WO2006125617A3
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/EP2006004929
申请日：2006-05-24
申请人： ZEISS CARL SMT AG , CONRADI OLAF , FELDMANN HEIKO , RICHTER GERALD , BLEIDISTEL SASCHA , FROMMEYER ANDREAS , GRUNER TORALF , HUMMEL WOLFGANG
发明人： CONRADI OLAF , FELDMANN HEIKO , RICHTER GERALD , BLEIDISTEL SASCHA , FROMMEYER ANDREAS , GRUNER TORALF , HUMMEL WOLFGANG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0068 , G02B3/0081 , G02B26/0825 , G03F7/7015 , G03F7/70266 , G03F7/70558 , Y10S359/90
摘要： The invention relates to a method -for improving the imaging properties of a micro lithography projection objective (50) , wherein the projection objective has a plurality of lenses (Ll, L2, L3 , L4 , L5 , L6, L7, L8) between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator (ml, Mn) for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.
摘要翻译：本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜（50）的成像特性的方法，其中投影物镜具有多个透镜（L1，L2，L3，L4，L5，L6，L7，L8）物镜平面和图像平面，多个透镜中的第一透镜被分配用于主动变形透镜的第一操纵器（ml，Mn），第一透镜被变形以至少部分地校正像差，至少一个第二透镜所述多个透镜还被分配至少一个第二操纵器，并且所述第二透镜除了所述第一透镜之外也变形。此外，描述了用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。

9. 发明申请

WO2008116886A1 KORREKTUR OPTISCHER ELEMENTE MITTELS FLACH EINGESTRAHLTEM KORREKTURLICHT 审中-公开
标题翻译：光学元件采用平EINGESTRAHLTEM修正光修正
公开(公告)号：WO2008116886A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/EP2008/053577
申请日：2008-03-26
申请人： Carl Zeiss SMT AG , BLEIDISTEL, Sascha , MAUL, Manfred
发明人： BLEIDISTEL, Sascha , MAUL, Manfred
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B7/028 , G02B27/0068 , G02F1/293 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70891
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Korrekturlicht-Vorrichtung zur Bestrahlung von optischen Elementen einer optischen Anordnung, insbesondere eines Objektivs, vorzugsweise Mikrolithographieobjektives mit Korrekturlicht, bei welcher mindestens eine Korrekturlichtquelle und mindestens eine Spiegelanordnung (22) vorgesehen sind, welche das Licht von der Korrekturlichtquelle im Strahlengang zum optischen Element (6) ablenkt, so dass örtlich und/oder zeitlich variabel zumindest Teile mindestens einer Oberfläche (9) mindestens eines optischen Elements der optischen Anordnung bestrahlt werden, wobei das Korrekturlicht unter einem flachen Winkel auf die Oberfläche des optischen Elements auftrifft, so dass der stumpfe Winkel zwischen der optischen Achse der optischen Anordnung am Ort des optischen Elements und dem Korrekturlichtstrahl kleiner gleich 105°, insbesondere kleiner gleich 100°, vorzugsweise kleiner gleich 95° ist.
摘要翻译：本发明涉及一种校正光装置照射的光学装置的光学元件，特别是透镜，优选为微光刻透镜校正光，其中提供至少一个校正光源和至少一个反射镜组件（22），它从在光束路径中的校正光源用于将光光学元件（6）偏转，以便在本地和/或在（9）的光学装置中的至少一个光学元件的被照射的至少一个表面的至少一部分，其中，所述校正光入射以浅角度到光学元件的表面上，以便在时间上可变在光学元件和校正光束的位置的光学组件的光学轴之间的钝角小于或等于105°，特别是小于或等于100°，优选小于或等于95°。

10. 发明申请

WO2007017089A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2007017089A1
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：PCT/EP2006/007273
申请日：2006-07-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CONRADI, Olaf , BITTNER, Boris , BLEIDISTEL, Sascha , HAUF, Markus , HUMMEL, Wolfgang , KAZI, Arif , TROSSBACH, Bärbel , WEBER, Jochen , HOLDERER, Hubert , TAYEBATI, Payam
发明人： CONRADI, Olaf , BITTNER, Boris , BLEIDISTEL, Sascha , HAUF, Markus , HUMMEL, Wolfgang , KAZI, Arif , TROSSBACH, Bärbel , WEBER, Jochen , HOLDERER, Hubert , TAYEBATI, Payam
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00
CPC分类号： G02B27/0068 , G02B3/14 , G03F7/70266 , G03F7/70825
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a manipulator (M; M') for reducing rotationally asymmetric image errors. The manipulator in turn contains a lens (52; 52') , an optical element (50; 50') and an interspace (54; 54') formed between the lens (52; 52') and the optical element (50; 50'), which can be filled with a liquid (62). At least one actuator (711 to 718) acting exclusively on the lens (52; 52') is furthermore provided, which can generate a rotationally asymmetric deformation of the lens.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜包括用于减小旋转非对称图像误差的操纵器（M; M'）。操纵器又包含透镜（52; 52'），光学元件（50; 50'）和形成在透镜（52; 52'）和光学元件（50; 50'）之间的间隙（54; 54'） '），其可以用液体（62）填充。还提供至少一个仅对透镜（52; 52'）起作用的致动器（711至718），其可以产生透镜的旋转不对称变形。

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