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    • 2. 发明申请
    • INTEGRATED NON-VOLATILE MEMORY ELEMENTS, DESIGN AND USE
    • 集成非易失性存储器元件,安装和使用
    • WO2013017131A3
    • 2013-04-25
    • PCT/DE2012200047
    • 2012-07-12
    • HELMHOLTZ ZENTRUM DRESDENSCHMIDT HEIDEMARIESHUAI YAOZHOU SHENGQIANGSKORUPA ILONAOU XINDU NANMAYR CHRISTIANLUO WENBO
    • SCHMIDT HEIDEMARIESHUAI YAOZHOU SHENGQIANGSKORUPA ILONAOU XINDU NANMAYR CHRISTIANLUO WENBO
    • H01G4/005H01L31/0224H01L45/00
    • H01L27/228G06N3/0635H01G7/06H01L27/2472H01L29/43H01L31/022408H01L31/032H01L31/0368H01L31/09H01L45/065H01L45/1206H01L45/1226H01L45/1233H01L45/147Y02E10/50
    • The invention describes the production and the design of an integrated memory component, comprising at least one surface contact (C) and a mating contact (O) from which at least one rectifying contact is embodied, and a ferroelectric or piezoelectric layer (11) as a conductive channel between the contacts. The design of the memory component with an additional drain connection and an additional source connection for non-volatile control of the conductivity between the source and the drain connection via the rectifying bottom contact or top contact is also described. The principle and the design are then extended to non-volatile analog memories, wherein the conductivity of the piezo- or ferroelectric layer between the contacts and/or beneath the surface contact and/or beneath the associated mating contact is modified, so that a voltage which is applied from the outside to opposite contacts is not dropped uniformly in the piezo- or ferroelectric layer and the electric field is locally large/small and a large electric field can induce a phase conversion of the piezo- or ferroelectric layer. The integration and use of the non-volatile analog memory in an array structure for neuromorphic applications and as a calibration element with an underlying CMOS analog circuit is also described. The principle of the design of the memory component according to the invention can also be extended as an electrode which can be integrated and has a boundary layer which can be positioned in a non-volatile manner and is statically charged. The use of the electrode, which can be integrated, in photo components, particle detectors, in capacitive energy storage means and in logic components is also described.
    • 描述了制备和集成存储装置的结构,包括接触(S)和其上形成接触的至少整流反接触(O)和一个ferrroelektrische或触点之间的导电通道的压电层(11)的至少一个表面上。 另外,存储器设备具有一附加漏极的结构和用于源极之间的导电性的非易失性控制的附加源极端子和漏极经由整流底接触,或顶接触端子进行说明。 然后,原理和结构被扩展到非易失性的模拟存储器,其特征在于,所述触点之间的压电或铁电体层的导电性和/或和/或根据通过表面接触改性相关的相对接触是,使得施加到外部电压的相对触头的电压 不是均匀的滴在压电或铁电体层和所述电场局部大/小和大的电场可诱导压电或铁电体层的相变。 此外,在用于神经形态的应用程序和与底层CMOS模拟电路的校准元件的阵列结构的集成和使用非易失性模拟存储的进行说明。 根据本发明的存储器装置的结构的原理是进一步扩大综合电极定位非易失性,静态边界的带电层。 为了这个目的,使用该电极的可集成在照片组件,粒子探测器,在电容能量存储和逻辑器件进行说明。
    • 3. 发明申请
    • INTEGRIERTE NICHTFLÜCHTIGE SPEICHERELEMENTE, AUFBAU UND VERWENDUNG
    • 集成非易失性存储器元件,安装和使用
    • WO2013017131A2
    • 2013-02-07
    • PCT/DE2012/200047
    • 2012-07-12
    • HELMHOLTZ-ZENTRUM DRESDEN - ROSSENDORF E.V.SCHMIDT, HeidemarieSHUAI, YaoZHOU, ShengqiangSKORUPA, IlonaOU, XinDU, NanMAYR, ChristianLUO, Wenbo
    • SCHMIDT, HeidemarieSHUAI, YaoZHOU, ShengqiangSKORUPA, IlonaOU, XinDU, NanMAYR, ChristianLUO, Wenbo
    • H01L49/00
    • H01L27/228G06N3/0635H01G7/06H01L27/2472H01L29/43H01L31/022408H01L31/032H01L31/0368H01L31/09H01L45/065H01L45/1206H01L45/1226H01L45/1233H01L45/147Y02E10/50
    • Die Erfindung beschreibt die Herstellung und den Aufbau eines integrierten Speicherbauelementes, umfassend mindestens einen gleichrichtenden Bottom-Kontakt und einen Top-Kontakt und eine ferrroelektrische oder piezoelektrische Schicht als leitfähigen Kanal zwischen den Kontakten. Weiterhin wird der Aufbau des Speicherbauelementes mit einem zusätzlichen Drain-Anschluss und einem zusätzlichen Source-Anschluss zur nichtflüchtigen Steuerung der Leitfähigkeit zwischen dem Source- und Drain-Anschluss über den gleichrichtenden Bottom-Kontakt oder Top-Kontakt beschrieben. Das Prinzip und der Aufbau wird anschließend auf nichtflüchtige Analogspeicher erweitert, wobei die Leitfähigkeit der piezo- oder ferroelektrischen Schicht zwischen den Kontakten und/oder unter dem Oberflächenkontakt und/oder unter dem zugehörigen Gegenkontakt modifiziert ist, so dass eine an gegenüberliegenden Kontakten von außen angelegte Spannung nicht gleichmäßig in der piezo- oder ferroelektrischen Schicht abfällt und das elektrische Feld lokal groß/klein ist und ein großes elektrisches Feld eine Phasenumwandlung der piezo- oder ferroelektrischen Schicht induzieren kann. Weiterhin wird die Integration und Verwendung des nichtflüchtigen Analogspeichers in einer Arraystruktur für neuromorphe Anwendungen und als Kalibrierelement mit darunterliegender CMOS-Analogschaltung beschrieben. Das Prinzip des Aufbaus des erfindungsgemäßen Speicherbauelements ist weiterhin als integrierbare Elektrode mit nichtflüchtig positionierbarer, statisch geladener Grenzschicht erweiterbar. Dazu wird die Verwendung der integrierbaren Elektrode in Photobauelementen, Teilchendetektoren, in kapazitiven Energiespeichern und in Logikbauelementen beschrieben
    • 本发明描述了制造和集成的存储器装置的结构,其包括至少一个整流底接触和顶部接触和ferrroelektrische或压电层作为触点之间的导电沟道。 另外,存储器设备具有一附加漏极的结构和用于源极之间的导电性的非易失性控制的附加源极端子和漏极经由整流底接触,或顶接触端子进行说明。 然后,原理和结构被扩展到非易失性的模拟存储器,其特征在于,所述触点之间的压电或铁电体层的导电性和/或和/或根据通过表面接触改性相关的相对接触是,使得施加到外部电压的相对触头的电压 不是均匀的滴在压电或铁电体层和所述电场局部大/小和大的电场可诱导压电或铁电体层的相变。 此外,在用于神经形态的应用程序和与底层CMOS模拟电路的校准元件的阵列结构的集成和使用非易失性模拟存储的进行说明。 根据本发明的存储器装置的结构的原理是进一步扩大综合电极定位非易失性,静态边界的带电层。 为了这个目的,使用该电极的可集成在照片组件,粒子探测器,在电容能量存储和逻辑器件被描述