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1. 发明申请

WO2011138331A2 PVD-HYBRIDVERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN VON MISCHKRISTALLSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译： PVD混合法分离混合晶体层
公开(公告)号：WO2011138331A2
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/EP2011/057064
申请日：2011-05-03
申请人： WALTER AG , ENGELHART, Wolfgang , SCHIER, Veit
发明人： ENGELHART, Wolfgang , SCHIER, Veit
CPC分类号： C23C14/325 , B32B15/01 , B32B15/012 , B32B15/013 , C23C14/08 , C23C14/22 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C30/005 , Y10T428/12493 , Y10T428/12972
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden von Mischkristallschichten mit wenigstens zwei verschiedenen Metallen (M1, M2) auf einem Substrat mittels PVD-Verfahren. Um ein Verfahren zum Abscheiden von Mischkristallschichten mit wenigstens zwei verschiedenen Metallen auf einem Substrat mittels PVD-Verfahren bereitzustellen, mit dem man Mischkristallschichten erhält, die möglichst frei sind von Makropartikeln (Droplets) und die einen möglichst hohen Anteil einer gewünschten kristallinen Phase aufweisen und hochkristallin sind, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Abscheiden der Mischkristallschicht unter gleichzeitiger Anwendung i) des Kathodenzerstäubungsverfahrens duales Magnetronsputtern oder High Power Impulse Magnetronsputtern (HIPIMS) und ii) Lichtbogenverdampfen (Arc-PVD) durchgeführt wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于沉积混合晶体层具有通过PVD法在基板上的至少两种不同的金属（M1，M2）的处理。到用于与至少两种不同的金属在基板上通过PVD法用其是尽可能不含宏观颗粒（液滴）的并且具有所希望的结晶相和高度结晶是高比例的所获得的混合晶体层沉积混合晶体层提供一种方法，本发明提出进行同时施加i）所述双阴极溅射磁控管或高功率脉冲磁控管溅射法，在混晶层（HIPIMS）和ii）电弧蒸发（电弧-PVD）的沉积。

2. 发明申请

WO2010106142A1 SCHNEIDWERKZEUG 审中-公开
标题翻译：切削刀具
公开(公告)号：WO2010106142A1
公开(公告)日：2010-09-23
申请号：PCT/EP2010/053551
申请日：2010-03-18
申请人： WALTER AG , EBERHARD KARLS UNIVERSITÄT TÜBINGEN , EIBL, Oliver , SCHIER, Veit , ENGELHART, Wolfgang
发明人： EIBL, Oliver , SCHIER, Veit , ENGELHART, Wolfgang
IPC分类号： C23C14/08 , C23C30/00
CPC分类号： C23C14/08 , B23B27/14 , B23B2228/08 , B23B2228/105 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C16/40 , C23C30/005 , Y10T428/257 , Y10T428/265
摘要： Schneidwerkzeug mit einem Substratgrundkörper und einer darauf aufgebrachten ein- oder mehrlagigen Beschichtung, wobei wenigstens eine Lage der Beschichtung eine im PVD-Verfahren oder im CVD- Verfahren hergestellte Metalloxidlage ist und die Metalloxidlage eine Kornstruktur aufweist, bei der innerhalb einer Mehrzahl der vorhandenen Körner strukturelle Unordnungen vorhanden sind, die dadurch charakterisiert sind, dass in den Elektronenbeugungsbildern der Körner bis zu einem maximalen Netzebenenabstand d GRENZ punktförmige Reflexe auftreten und für Netzebenenabstände grösser d GRENZ keine punktförmigen Reflexe auftreten, sondern eine für amorphe Strukturen typische diffuse Intensitätsverteilung.
摘要翻译：一种切削工具，其包括基体和涂覆在其上的一个或多层涂层，其中该涂层的层通过PVD法或CVD法，至少金属氧化物层中产生，并且该金属氧化物层具有的晶粒结构，其中，多个现有晶粒病症的内结构都存在，其特征在于发生在晶粒的电子衍射图像，最多面间距dGRENZ点状的反应和更大的对晶面间距dGRENZ没有点状的反射发生，但一个典型的无定形结构的漫强度分布。

3. 发明申请

WO2003018862A2 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER NANOSTRUKTURIERTEN FUNKTIONSBESCHICHTUNG UND DAMIT HERSTELLBARE BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：产生纳米结构功能涂层的方法和可用的涂层
公开(公告)号：WO2003018862A2
公开(公告)日：2003-03-06
申请号：PCT/DE2002/003074
申请日：2002-08-22
申请人： ROBERT BOSCH GMBH , WALTER AG , BECK, Thomas , SCHATTKE, Alexander , HENKE, Sascha , SCHIER, Veit
发明人： BECK, Thomas , SCHATTKE, Alexander , HENKE, Sascha , SCHIER, Veit
IPC分类号： C23C14/06
CPC分类号： C23C14/354 , C23C14/06 , C23C14/352 , Y10T428/25 , Y10T428/252 , Y10T428/30
摘要： Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer nanostrukturierten, insbesondere keramikartigen Funktionsbeschichtung (17) auf einem Substrat (16) vorgeschlagen. Dazu wird mit wenigstens einer Plasmaquelle (11, 12) ein gepulstes Plasma (13, 14) erzeugt, mit dem auf dem Substrat (16) über einen Werkstoffeintrag eine Matrixphase (30) and mindestens eine, darin eingebettete nanoskalige Einlagerungsphase (31) abgeschieden wird. Bevorzugt wird eine Mehrzahl von zeitlich korreliert oder synchronisiert zueinander gepulsten Plasmaquellen (11, 12) verwendet. Weiter wird eine nanostrukturierte, insbesondere nach diesem Verfahren herstellbare Funktionsbeschichtung (17) vorgeschlagen, die frei von Chlor und/oder Schwefel ist, und die mindestens ein Metall und/oder mindestens ein Element ausgewählt aus der Gruppe Sauerstoff, Wasserstoff, Stickstoff, Kohlenstoff, Helium, Argon oder Neon enthält.
摘要翻译：
提议用于制造纳米结构，在基板（16）上的特定的类陶瓷功能性涂层（17）的方法。为此，与该基板（16）上通过材料条目生成的基质相（30）的至少一个等离子体源（11，12）的脉冲等离子体（13，14）和至少一个嵌入其中的纳米级掺入相（31）被存放。优选地，使用多个时间相关或同步脉冲等离子体源（11,12）。另外，纳米结构化的，特别是可产生的由该方法中，功能性涂层（17）的建议，这是不含氯和/或硫，并且AUML至少一种金属和/或至少一种元素＆的;从所述基氧HLT，氢，氮，碳，氦气，氩气或氖气。

4. 发明申请

WO2013034598A1 WERKZEUG MIT CHROMHALTIGER FUNKTIONSSCHICHT 审中-公开
标题翻译：用含有铬的故事片TOOL
公开(公告)号：WO2013034598A1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：PCT/EP2012/067328
申请日：2012-09-05
申请人： WALTER AG , SCHIER, Veit , ENGELHART, Wolfgang
发明人： SCHIER, Veit , ENGELHART, Wolfgang
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/32 , C23C14/35 , C23C30/00
CPC分类号： C23C30/00 , C23C14/06 , C23C14/0641 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/32 , C23C14/325 , C23C14/35 , C23C14/354 , C23C28/04 , C23C28/044 , C23C30/005 , Y10T428/265
摘要： Die Erfindung betrifft ein Schneidwerkzeug mit einem Substrat aus Hartmetall, Cermet, Stahl oder Schnellarbeitsstahl (HSS) und einer darauf im PVD-Verfahren abgeschiedenen mehrlagigen Beschichtung, welche eine Basislage aus einer oder mehreren übereinander angeordneten gleichen oder verschiedenen Schichten aus einem Nitrid oder Carbonitrid, welches wenigstens Aluminium (AI) und optional ein oder mehrere weitere Metalle, ausgewählt unter AI, Cr, Si, Y, Ru und Mo, enthält, und eine chromhaltige, oxidische Funktionslage umfasst. Um die Anbindung der chromhaltigen Funktionslage zu verbessern, ist erfindungsgemäß zwischen der Basislage und der Funktionslage eine Zwischenlage vorgesehen aus einem oder mehreren Oxiden oder Oxinitriden der Metalle AI, Cr, Si und/oder Zr, wobei die Zwischenlage eine kubische Struktur aufweist und wobei die chromhaltige Funktionslage ausgewählt ist unter Chromoxid (Cr 2 O 3 ), Chromoxinitrid, Aluminium-Chrom-Oxid (AICr) 2 O 3 , Aluminium-Chrom-Oxinitrid oder einem Mischoxid oder Mischoxinitrid aus Aluminium, Chrom und weiteren Metallen (AICrMe 1 , Me n ) 2 -Oxid oder (AICrMe- 1 , Me n ) 2 -Oxinitrid, wobei Me 1 ....Me n ein oder mehrere weitere Metalle bedeutet, ausgewählt unter Hf, Y, Zr und Ru, und wobei die Funktionslage rhomboedrische Struktur aufweist.
摘要翻译：本发明涉及具有硬质合金，金属陶瓷，钢或高速钢（HSS）的基板的切削工具，并通过PVD工艺多层涂层沉积在其上包括的氮化物或碳氮化物的一个或多个重叠的相同或不同的层的基础层，其至少铝（Al）和任选地含有一个或选自Al，Cr，硅，Y，Ru和Mo中的几个其它金属，并包括含铬，氧化功能层。为了根据基本层和功能层之间的本发明，以提高含铬功能层的结合，中间层是由金属铝，铬，Si和/或Zr，其中，所述中间层具有立方结构的一种或多种氧化物或氧氮化物提供，其中所述含铬功能层由氧化铬（的Cr2O3），Chromoxinitrid，铝 - 铬氧化物（ALCR）2O3，铝 - 铬氮氧化物，或铝，铬和其它金属的混合氧化物或Mischoxinitrid（AICrMe1，男性）2-氧化物或（AICrMe-选择 1男性）-2-氧氮化物，其特征在于，ME1 ....男性表示选自Hf，Y，Zr和Ru中的一种或多种其它金属，并且其中，所述功能层具有菱面体结构。

5. 发明申请

WO2009003755A2 TOOL WITH MULTILAYERED METAL OXIDE COATING 审中-公开
标题翻译： WITH多层金属氧化物WERZEUG
公开(公告)号：WO2009003755A2
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：PCT/EP2008056037
申请日：2008-05-16
申请人： WALTER AG , SCHIER VEIT
发明人： SCHIER VEIT
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/08 , C23C30/00
CPC分类号： C23C14/22 , C23C4/131 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C30/005 , Y10T428/24975
摘要： The present invention relates to a cutting tool with a base body and a multilayered coating applied to it, wherein at least two layers of the multilayered coating, arranged one on top of the other, contain or consist of metal oxide of the same metal or of different metals. To provide cutting tools that are improved over the prior art, it is proposed according to the invention that the at least two metal oxide layers arranged one on top of the other are produced one after the other by different PVD processes, selected from i) reactive magnetron sputtering RMS, ii) arc vapour deposition (arc-PVD), iii) ion plating, iv) electron-beam vapour deposition and v) laser ablation, wherein modifications of the respective processes i) to v) do not constitute different PVD processes.
摘要翻译：本发明涉及一种切削工具用基体和其上的多层涂层具有，其中至少有相同的金属的多层涂层的金属氧化物的或不同的金属两个叠加层或包含它。以提供改进的切削刀具相对于所述现有技术，本发明提出，至少有两个叠置的金属氧化物层被连续通过选自i各种PVD方法）反应磁控RMS，ⅱ）电弧蒸发（电弧-PVD），III）离子镀产生，ⅳ）电子束蒸发，以及v）激光烧蚀，其中，所述各工序的修饰i）至v）不是不同PVD过程。

6. 发明申请

WO03018862A3 METHOD FOR PRODUCING A NANOSTRUCTURED COATING 审中-公开
标题翻译：用于生产纳米结构涂层功能，因此生产的涂层
公开(公告)号：WO03018862A3
公开(公告)日：2003-06-26
申请号：PCT/DE0203074
申请日：2002-08-22
申请人： BOSCH GMBH ROBERT , WALTER AG , BECK THOMAS , SCHATTKE ALEXANDER , HENKE SASCHA , SCHIER VEIT
发明人： BECK THOMAS , SCHATTKE ALEXANDER , HENKE SASCHA , SCHIER VEIT
IPC分类号： B23B51/00 , B23B27/14 , B23P15/28 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/35 , C23C16/30
CPC分类号： C23C14/354 , C23C14/06 , C23C14/352 , Y10T428/25 , Y10T428/252 , Y10T428/30
摘要： The invention relates to a method for producing a nanostructured, in particular, ceramic-type functional coating (17) on a substrate (16). At least one plasma source (11, 12) generates a pulsed plasma (13, 14), by means of which a matrix phase (30) with at least one nanoscalar interstitial phase (31) embedded therein is deposited on the substrate (16), with the aid of the introduction of a material. Preferably, a plurality of temporally correlated or synchronised pulsed plasma sources (11, 12) is used. The invention also relates to a nanostructured functional coating (17), produced in particular according to said method, which is devoid of chlorine and/or sulphur and contains at least one metal and/or at least one element selected from the group comprising oxygen, hydrogen, nitrogen, carbon, helium, argon and neon.
摘要翻译：它提出了一种用于制造纳米结构，在基板（16）上的特定的类陶瓷功能性涂层（17）的方法。为此，用至少一个等离子体源（11，12）的脉冲等离子体（13，14）产生通过材料入口沉积与基底（16）上的基体相（30）和至少一个嵌入其中的纳米级掺入相（31），多个时间优选相关的或者被一个同步（11，12）使用另一种脉冲等离子体源。另外，纳米结构化的，特别是可以通过该方法生产的功能性涂层（17），提出了不含氯和/或硫的，和至少一种金属和/或选自氧，氢，氮，碳，氦中的至少一种元素，含有氩，氖。

7. 发明申请

WO2012052437A1 TARGET FÜR LICHTBOGENVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：目标电弧法
公开(公告)号：WO2012052437A1
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：PCT/EP2011/068189
申请日：2011-10-18
申请人： WALTER AG , SCHIER, Veit
发明人： SCHIER, Veit
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/08 , B22F7/008 , C23C14/081 , C23C14/325 , Y10T407/27
摘要： Target für das Abscheiden von Mischkristallschichten mit wenigstens zwei verschiedenen Metallen auf einem Substrat mittels Lichtbogenverdampfen (Arc-PVD), wobei das Target wenigstens zwei verschiedenen Metalle umfasst. Um Mischkristallschichten herzustellen, die möglichst frei sind von Makropartikeln (Droplets), liegt erfindungsgemäß wenigstens das Metall mit der niedrigsten Schmelztemperatur in dem Target in einer keramischen Verbindung vor, nämlich als ein Metalloxid, Metallcarbid, Metallnitrid, Metallcarbonitrid, Metalloxinitrid, Metalloxicarbid, Metalloxicarbonitrid, Metallborid, Metallboronitrid, Metallborocarbid, Metallborocarbonitrid, Metallborooxinitrid, Metallborooxocarbid, Metallborooxocarbonitrid, Metalloxoboronitrid, Metallsilicat oder Gemisch davon, und wenigstens ein von dem Metall mit der niedrigsten Schmelztemperatur verschiedenes Metall liegt in dem Target in elementarer (metallischer) Form vor.
摘要翻译：目标混合晶体层的与至少两个不同的金属沉积通过电弧蒸发（电弧-PVD），其中所述靶包含至少两种不同的金属在基板上。为了产生混晶层，其是尽可能不含宏观颗粒（液滴）是，根据本发明的至少具有最低熔化温度在目标中的陶瓷化合物，即作为金属氧化物，金属碳化物，金属氮化物，金属碳氮化物，金属氧氮化物，Metalloxicarbid，Metalloxicarbonitrid，金属硼化物，金属，Metallboronitrid，Metallborocarbid，Metallborocarbonitrid，Metallborooxinitrid，Metallborooxocarbid，Metallborooxocarbonitrid，Metalloxoboronitrid，金属硅酸盐或它们的混合物，以及从与所述最低熔融温度金属的金属的至少一种不同的是存在于靶中的元素（金属）形式。

8. 发明申请

WO2009003755A3 WERKZEUG MIT MEHRLAGIGER METALLOXIDBESCHICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DES BESCHICHTETEN WERKZEUGS 审中-公开
公开(公告)号：WO2009003755A3
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：PCT/EP2008/056037
申请日：2008-05-16
申请人： WALTER AG , SCHIER, Veit
发明人： SCHIER, Veit
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/08
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Schneidwerkzeug mit einem Grundkörper und einer darauf aufgebrachten mehrlagigen Beschichtung, wobei wenigstens zwei übereinander angeordnete Lagen der mehrlagigen Beschichtung Metalloxid des gleichen Metalls oder von verschiedenen Metallen enthalten oder daraus bestehen. Um gegenüber dem Stand der Technik verbesserte Schneidwerkzeuge bereitzustellen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die wenigstens zwei übereinander angeordneten Metalloxidlagen nacheinander durch verschiedene PVD-Verfahren hergestellt sind, ausgewählt unter i) reaktives Magnetronsputtern rMS, ii) Lichtbogenverdampfen (Arc-PVD), iii) lonenplattierung, iv) Elektronenstrahlverdampfung und v) Laserablation, wobei Modifikationen der jeweiligen Verfahren i) bis v) keine verschiedenen PVD-Verfahren sind.

9. 发明申请

WO2005085499A1 BESCHICHTUNG FÜR EIN SCHNEIDWERKZEUG SOWIE HERSTELLUNGSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：涂层的切削工具和方法
公开(公告)号：WO2005085499A1
公开(公告)日：2005-09-15
申请号：PCT/EP2005/001584
申请日：2005-02-17
申请人： WALTER AG , SCHIER, Veit
发明人： SCHIER, Veit
IPC分类号： C23C28/00
CPC分类号： C23C30/005 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/046 , Y10T407/19 , Y10T407/27 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942
摘要： Vorliegend wird eine Beschichtung insbesondere für Schneidwerkzeuge angegeben, die sich in einem einzigen PVD-Beschichtungsvorgang erzeugen lässt und mit der sich auf einfache Weise zweifarbige Schneidwerkzeuge erzeugen lassen. Zwischen zwei metallischen Hartstoffschichten unterschiedlicher Farbe ist eine Trennschicht (11) angeordnet, die, wie die anderen Schichten, in dem gleichen PVD-Beschichtungsprozess erzeugt worden ist. Sie gestattet das Abtragen der Deckschicht durch Sandstrahlen, Bürsten oder dergleichen mit sehr kurzen Einwirkzeiten.
摘要翻译：在当前情况下，涂层是特别表示用于切削工具，它可以在一个单一的PVD涂层方法来生产和双色可以产生切割工具以简单的方式。两个不同颜色的金属硬质材料层之间，剥离层（11）布置，其中，像其他层，在相同的PVD涂层过程中产生。它允许通过喷砂，刷或具有非常短的曝光时间等除去顶层。

10. 发明申请

WO2011138331A3 PVD HYBRID METHOD FOR DEPOSITING MIXED CRYSTAL LAYERS 审中-公开
标题翻译： PVD混合法分离混合晶体层
公开(公告)号：WO2011138331A3
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/EP2011057064
申请日：2011-05-03
申请人： WALTER AG , ENGELHART WOLFGANG , SCHIER VEIT
发明人： ENGELHART WOLFGANG , SCHIER VEIT
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/32 , C23C14/35
CPC分类号： C23C14/325 , B32B15/01 , B32B15/012 , B32B15/013 , C23C14/08 , C23C14/22 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C30/005 , Y10T428/12493 , Y10T428/12972
摘要： The present invention relates to a method for depositing mixed crystal layers having at least two different metals (M1, M2) on a substrate by means of a PVD method. In order to provide a method for depositing mixed crystal layers having at least two different metals on a substrate by means of a PVD method, by means of which mixed crystal layers that are as free as possible from macroparticles (droplets) and that have as great a proportion as possible of a desired crystalline phase and that are highly crystalline are obtained, the deposition of the mixed crystal layer is performed while simultaneously applying I) the cathode sputtering method of dual magnetron sputtering or high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) and ii) arc vaporization (arc PVD).
摘要翻译：本发明涉及一种用于沉积混合晶体层具有通过PVD法在基板上的至少两种不同的金属（M1，M2）的处理。到用于与至少两种不同的金属在基板上通过PVD法用其是尽可能不含宏观颗粒（液滴）的并且具有所希望的结晶相和高度结晶是高比例的所获得的混合晶体层沉积混合晶体层提供一种方法，本发明提出进行同时施加i）所述双阴极溅射磁控管或高功率脉冲磁控管溅射法，在混晶层（HIPIMS）和ii）电弧蒸发（电弧-PVD）的沉积。

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