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    • 3. 发明申请
    • WERKZEUG MIT CHROMHALTIGER FUNKTIONSSCHICHT
    • 用含有铬的故事片TOOL
    • WO2013034598A1
    • 2013-03-14
    • PCT/EP2012/067328
    • 2012-09-05
    • WALTER AGSCHIER, VeitENGELHART, Wolfgang
    • SCHIER, VeitENGELHART, Wolfgang
    • C23C14/06C23C14/08C23C14/32C23C14/35C23C30/00
    • C23C30/00C23C14/06C23C14/0641C23C14/08C23C14/081C23C14/32C23C14/325C23C14/35C23C14/354C23C28/04C23C28/044C23C30/005Y10T428/265
    • Die Erfindung betrifft ein Schneidwerkzeug mit einem Substrat aus Hartmetall, Cermet, Stahl oder Schnellarbeitsstahl (HSS) und einer darauf im PVD-Verfahren abgeschiedenen mehrlagigen Beschichtung, welche eine Basislage aus einer oder mehreren übereinander angeordneten gleichen oder verschiedenen Schichten aus einem Nitrid oder Carbonitrid, welches wenigstens Aluminium (AI) und optional ein oder mehrere weitere Metalle, ausgewählt unter AI, Cr, Si, Y, Ru und Mo, enthält, und eine chromhaltige, oxidische Funktionslage umfasst. Um die Anbindung der chromhaltigen Funktionslage zu verbessern, ist erfindungsgemäß zwischen der Basislage und der Funktionslage eine Zwischenlage vorgesehen aus einem oder mehreren Oxiden oder Oxinitriden der Metalle AI, Cr, Si und/oder Zr, wobei die Zwischenlage eine kubische Struktur aufweist und wobei die chromhaltige Funktionslage ausgewählt ist unter Chromoxid (Cr 2 O 3 ), Chromoxinitrid, Aluminium-Chrom-Oxid (AICr) 2 O 3 , Aluminium-Chrom-Oxinitrid oder einem Mischoxid oder Mischoxinitrid aus Aluminium, Chrom und weiteren Metallen (AICrMe 1 , Me n ) 2 -Oxid oder (AICrMe- 1 , Me n ) 2 -Oxinitrid, wobei Me 1 ....Me n ein oder mehrere weitere Metalle bedeutet, ausgewählt unter Hf, Y, Zr und Ru, und wobei die Funktionslage rhomboedrische Struktur aufweist.
    • 本发明涉及具有硬质合金,金属陶瓷,钢或高速钢(HSS)的基板的切削工具,并通过PVD工艺多层涂层沉积在其上包括的氮化物或碳氮化物的一个或多个重叠的相同或不同的层的基础层,其 至少铝(Al)和任选地含有一个或选自Al,Cr,硅,Y,Ru和Mo中的几个其它金属,并包括含铬,氧化功能层。 为了根据基本层和功能层之间的本发明,以提高含铬功能层的结合,中间层是由金属铝,铬,Si和/或Zr,其中,所述中间层具有立方结构的一种或多种氧化物或氧氮化物提供,其中所述含铬 功能层由氧化铬(的Cr2O3),Chromoxinitrid,铝 - 铬氧化物(ALCR)2O3,铝 - 铬氮氧化物,或铝,铬和其它金属的混合氧化物或Mischoxinitrid(AICrMe1,男性)2-氧化物或(AICrMe-选择 1男性)-2-氧氮化物,其特征在于,ME1 ....男性表示选自Hf,Y,Zr和Ru中的一种或多种其它金属,并且其中,所述功能层具有菱面体结构。
    • 7. 发明申请
    • WEAR RESISTANT PVD TOOL COATING CONTAINING TIALN NANOLAYER FILMS
    • WO2019043167A1
    • 2019-03-07
    • PCT/EP2018/073490
    • 2018-08-31
    • WALTER AG
    • SCHIER, VeitENGELHART, Wolfgang
    • C23C28/04C23C14/02C23C14/06C23C14/32C23C30/00
    • The invention relates to a coated cutting tool and a process for the production thereof, the coated cutting tool consisting of a substrate and a hard material coating, the substrate being selected from cemented carbide, cermet, ceramics, cubic boron nitride (cBN), polycrystalline diamond (PCD) or high-speed steel (HSS), wherein the hard material coating comprises a (Ti,Al)N layer stack (L) of alternately stacked (Ti,Al)N sub-layers, the layer stack (L) having the following characteristics: - the overall atomic ratio of Ti:Al within the (Ti,Al)N layer stack (L) is within the range from 0.33:0.67 to 0.67:0.33; - the total thickness of the (Ti,Al)N layer stack (L) is within the range from 1 µm to 20 µm; - each of the individual (Ti,Al)N sub-layers within the (Ti,Al)N layer stack (L) of alternately stacked (Ti,Al)N sub-layers has a thickness within the range from 0.5 nm to 50 nm; - each of the individual (Ti,Al)N sub-layers within the (Ti,Al)N layer stack (L) of alternately stacked (Ti,Al)N sub-layers being different in respect of the atomic ratio Ti:Al than an immediately adjacent (Ti,Al)N sub-layer; - over the thickness of the (Ti,Al)N layer stack (L) perpendicular to the substrate surface the content of Al increases and the content of Ti decreases from the interface of the (Ti,Al)N layer stack (L) arranged in the direction towards the substrate to the interface of the (Ti,Al)N layer (L) stack arranged in the direction towards the outer surface of the coating; - over the thickness of the (Ti,Al)N layer stack (L) perpendicular to the substrate surface the residual stress σ decreases from the interface of the (Ti,Al)N layer stack (L) arranged in the direction towards the substrate to the interface of the (Ti,Al)N layer stack (L) arranged in the direction towards the outer surface of the coating by an amount of at least 150 MPa to at most 900 MPa, whereby the residual stress σ is measured by X-ray diffraction applying the sin 2 Ψ method based on the (2 0 0) reflection; - the residual stress σ within a portion of a thickness of at least 100 nm to at most 1 µm within the (Ti,Al)N layer stack (L) from the interface of the (Ti,Al)N layer stack (L) arranged in the direction towards the substrate is within the range of from 0 MPa to +450 MPa.
    • 10. 发明申请
    • VHM-SCHAFTFRÄSER MIT TiAlN-ZrN-BESCHICHTUNG
    • 整体硬质合金立铣刀的TiAlN涂层的ZrN
    • WO2016128504A1
    • 2016-08-18
    • PCT/EP2016/052891
    • 2016-02-11
    • WALTER AG
    • SCHIER, VeitENGELHART, Wolfgang
    • C23C14/34C23C14/35C23C14/06C23C28/04H01J37/34C23C30/00C23C28/00
    • C23C14/3485B23C5/16B23C2222/14B23C2222/84B23C2228/08B23C2228/10C23C14/0641C23C14/35C23C28/042C23C28/044C23C30/005H01J37/3426H01J37/3467
    • Vollhartmetallfräser (VHM-Fräser) mit einem Substrat aus Hartmetall und einer wenigstens auf den beim Fräsvorgang mit einem Werkstück in Kontakt tretenden Oberflächenbereichen im PVD-Verfahren aufgebrachten mehrlagigen Beschichtung, wobei die mehrlagige Beschichtung eine unmittelbar auf der Substratoberfläche abgeschiedene ein- oder mehrlagige Funktionsschicht und eine darüber abgeschiedene ein- oder mehrlagige Deckschicht umfasst, wobei die Funktionsschicht aus einer oder mehreren Lagen von Ti x Al 1-x N mit 0,3 ≤ x ≤ 0,55 besteht und eine Gesamtdicke von 1 µm bis 15 µm aufweist, die Deckschicht aus einer oder mehreren Lagen von ZrN besteht und eine Gesamtdicke von 50 nm bis 1 µm aufweist und die Funktionsschicht und die Deckschicht mittels High Power Impulse Magnetronsputtern (HI-PIMS) abgeschieden sind, wobei bei der Abscheidung der Funktionsschicht jedes Sputtertarget aus abzuscheidendem Material in der Beschichtungskammer mit Leistungspulsen beaufschlagt wird, welche eine Energiemenge auf das Sputtertarget übertragen, die eine maximale Leistungsdichte im Puls von ≤ 500 W/cm 2 übersteigt.
    • 整体硬质合金端铣刀(整体硬质合金端铣刀)用硬金属基材和至少施加的涂层,以与PVD工艺多层涂层的工件表面区域中的研磨操作过程中接触,所述多层涂覆直接在基板表面上沉积单层或多层功能层和一个 它包括沉积单层或多层涂层,其中所述功能层由具有0.3≤X≤0.55 TixAl1-Xn中的一个或多个层,并且具有1微米至15微米的总厚度,一个或多个层的顶层 由氮化锆,并且具有由高功率脉冲磁控管(HI-PIMS)被沉积的装置的50纳米至1微米的总厚度,并且所述功能层和覆盖层,各溅射靶是由材料中的功能层的沉积过程中施加在与功率脉冲涂覆室将被沉积 含 È发送能量的量至超过在≤500 W / cm 2的脉冲的最大功率密度的溅射靶。