专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2009000813A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM SCHLEUSEN EINES SUBSTRATS IN EINE UND AUS EINER VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法和设备锁基板至并从真空涂布设备
公开(公告)号：WO2009000813A1
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：PCT/EP2008/057969
申请日：2008-06-23
申请人： VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH , SCHULZE, Dietmar , HECHT, Hans-Christian , KRAUSE, Jochen , HOFMANN, Michael
发明人： SCHULZE, Dietmar , HECHT, Hans-Christian , KRAUSE, Jochen , HOFMANN, Michael
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/566
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Schleusen eines Substrats in eine oder aus einer Prozesskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage, bei welcher an einen Prozessbereich eine Schleusenkammer angrenzt, die durch zwei vakuumdicht schließbare Schleusentore von der umgebenden Atmosphäre und vom Prozessbereich trennbar ist und der Prozessbereich zumindest eine Prozesskammer sowie eine Transferkammer zur Änderung der Transportgeschwindigkeit des Substrats umfasst. Zum Schleusen eines Substrats wird ein eingangsseitiges vakuumdichtes Tor eines Schleusensystems geöffnet, das Substrat in das Schleusensystem transportiert und das Tor geschlossen, nachfolgend der Druck im Schleusensystem auf den Druck in dem in Transportrichtung folgenden Raum angepasst, darauf ein das Schleusensystem abschließendes ausgangsseitiges Tor geöffnet und das Substrats aus dem Schleusensystem transportiert. Das Schleusensystem wird durch eine Schleusenkammer und eine daran angrenzende Transferkammer gebildet, indem während der Schleusung des Substrats die Transferkammer mit der Schleusenkammer verbunden wird und das Schleusentor zwischen Transferkammer und Schleusenkammer geöffnet bleibt.
摘要翻译：本发明涉及的方法和用于在或离开真空镀膜设备的处理腔室，其中一个过程区，相邻的锁定室，其是可分离的基板的锁装置通过周围大气的两个真空密闭的闸门，并从处理区域和所述处理区域中，至少一个包括处理室和用于改变衬底的输送速度的传送室。的输入侧的锁定系统的真空密闭门被打开以用于基片的锁，在锁系统传送所述衬底和所述门关闭时，随后适于对在输送方向室下面的压力在锁定系统中的压力，打开它，一个锁定系统最终输出侧端口和基板输送出水闸系统。闸门系统是由一个锁定室和传送腔室的邻接传送腔室构成的基板的走私期间被连接到锁定室，并保持打开传送室之间的闸门和负载锁定室。

2. 发明申请

WO2008003792A3 VACUUM COATING SYSTEM COMPRISING A TRANSPORT UNIT FOR TRANSPORTING SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于输送基材的输送装置的真空涂布系统
公开(公告)号：WO2008003792A3
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：PCT/EP2007056990
申请日：2007-07-09
申请人： ARDENNE ANLAGENTECH GMBH , BAUER REINHARDT , HUPKA FRANK , HEISIG ANDREAS , STRUEMPFEL JOHANNES , HECHT HANS-CHRISTIAN , ERBKAMM WOLFGANG
发明人： BAUER REINHARDT , HUPKA FRANK , HEISIG ANDREAS , STRUEMPFEL JOHANNES , HECHT HANS-CHRISTIAN , ERBKAMM WOLFGANG
IPC分类号： B65G37/00 , B65G15/24
CPC分类号： B65G37/005 , B65G15/24 , C23C14/568
摘要： The invention relates to a vacuum coating system with a transport unit for transporting substrates in a transport direction. Said system comprises at least one first continuous conveyer running in the transport direction and having a delivery element that is guided around at least two deflection rollers and that is located at a distance from a guide unit extending in the transport direction parallel to the delivery element of the first continuous conveyer in such a way that the substrates can be introduced into the gap between the delivery element of the first continuous conveyer and the guide unit and can be moved in the transport direction by the displacement of the delivery element of the first continuous conveyer.
摘要翻译：一种真空涂覆设备包括传输设备，用于在输送方向上输送的基板包括至少一个延伸设置在第一环形输送带引导围绕至少两个导向辊的环形输送带，其在从一个平行于第一循环输送机的输送机延伸一段距离布置在传送方向导向装置的传送方向被布置成使得所述底物是通过在第一环形输送带和所述导向器的输送机之间的距离的传送方向上的第一环形输送机的输送机的移动插入和移动。

3. 发明申请

WO2008003724A2 GETTER PUMP AND VACUUM COATING INSTALLATION COMPRISING A GETTER PUMP 审中-公开
标题翻译：带吸尘器的吸尘器和真空涂层系统
公开(公告)号：WO2008003724A2
公开(公告)日：2008-01-10
申请号：PCT/EP2007056773
申请日：2007-07-04
申请人： ARDENNE ANLAGENTECH GMBH , MILDE FALK , HECHT HANS-CHRISTIAN , BRUECKNER JOERN
发明人： MILDE FALK , HECHT HANS-CHRISTIAN , BRUECKNER JOERN
IPC分类号： F04B37/02 , F04B37/08 , H01J7/18
CPC分类号： C23C14/56 , F04B37/02
摘要： The invention relates to a highly efficient getter pump with low maintenance requirements and to a vacuum coating installation, in the vacuum chamber of which an ultra-high vacuum can be generated, thus allowing the substrate to be coated to remain uncontaminated by a dusting of getter material. The getter pump according to the invention comprises a pump housing (5) with an exposure opening (7). Said pump housing (5) is provided with a getter body (8), which consists of getter material, essentially closes the exposure opening (7) and is located so that it can move in relation to the exposure opening (7). An inner sub-section of the surface of the getter body (8) points towards the interior of the pump housing (5) and an outer sub-section of the surface of the getter body (8) points towards the exterior of the pump housing (5) through the exposure opening (7), the positions of the inner and outer sub-section of the surface of the getter body (8) being interchangeable by the movement of the getter body (8). The getter pump is characterised in that it is equipped with a removal device (9) for removing getter material from the inner sub-section of the surface of the getter body (8). The vacuum coating installation according to the invention comprises at least one getter pump of this type.
摘要翻译：本发明涉及一种具有高效率的吸气剂泵和具有低的维护要求和一个真空镀膜设备，其中，所述真空腔室可产生超高真空，其特征在于，要涂覆的基板不通过abgestäubtes吸气材料污染。根据本发明的吸气泵包括Getterpumpengehäuse（5）具有开口的曝光（7）和在Getterpumpengehäuse（5）的曝光开口（7）基本上封闭，相对于所述曝光开口（7）可移动地布置的吸气剂体（8）的吸气剂材料的，内部吸气剂体（8）的在Getterpumpengehäuse表面的部分（5）向内面向，并通过曝光开口的吸气剂体（8）的表面的外部部分（7）从所述Getterpumpengehäuse（5）另外，和的内部和外部部分的位置通过移动吸气剂体的吸气剂体（8）的表面（8）是可互换的，并且其特征在于，用于从所述吸气剂体（8）的表面的内部部分除去吸气材料的移除装置（9）设置。根据本发明的真空涂布系统包括至少一个这样的吸气泵。

4. 发明申请

WO2003046251A1 VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE ZUM BESCHICHTEN VON BANDFÖRMIGEN MATERIAL 审中-公开
标题翻译：真空镀膜生产线涂料带状材料
公开(公告)号：WO2003046251A1
公开(公告)日：2003-06-05
申请号：PCT/DE2002/004300
申请日：2002-11-22
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , ERBKAMM, Wolfgang , HECHT, Hans-Christian , STUDENT, Hans-Jochen , UNGÄNZ, Peter
发明人： ERBKAMM, Wolfgang , HECHT, Hans-Christian , STUDENT, Hans-Jochen , UNGÄNZ, Peter
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/562
摘要： Der Erfindung, die eine Vakuumbeschichtungsanlage zum Beschichten von bandförmigen Material (6) in Prozesskammern betrifft, bei der in einer ersten evakuierbaren Haspelkammer (2) eine Abwickeleinrichtung (4) mit einem ersten Walzenstuhl (11) angeordnet ist, und in einer zweiten evakuierbaren Haspelkammern (3) eine Aufwickeleinrichtung (5) mit einem zweiten Walzenstuhl (12) angeordnet ist, zwischen denen das zu beschichtende bandförmige Material mindestens eine evakuierbare Prozesskammer (1) durchläuft, wobei in der ein Prozesswalzenstuhl (14) mit Führungseinrichtungen für das bandförmige Material und eine Kühlwalze (15, 16) angeordnet ist, über deren Oberfläche sich mindestens eine Magnetronsputterquelle (17) befindet, liegt die Aufgabe zugrunde, die Präzision in der Parallelität aller, am Prozess beteiligter, Walzen zu erhöhen. Dies wird dadurch gelöst, dass der Abwickelwalzenstuhl, der Prozesswalzenstuhl und der Aufwickelwalzenstuhl in definierten Punkten (18, 19, 20, 21) befestigt werden und dass im Betriebszustand der Anlage eine Druckdifferenz, zwischen einer Haspelkammer und der Prozesskammer, maximal 50 Pa beträgt und/oder ein gemeinsamer Walzenstuhl für mehrere Kühlwalzen ausgeführt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种真空涂层植物在处理室的带状材料（6），中涂层，其中在第一可抽真空的卷轴室（2）的开卷装置（4）被布置成与第一辊磨机（11），并且在第二抽真空的卷轴室（ 3）的卷绕装置（5）向第二辊磨机（12）布置，在它们之间至少可抽空处理室（1）传递到待涂布的带状材料，在其中处理辊磨机（14），为带形材料引导装置，和一个冷却辊（15，16）布置，其中至少一个磁控管溅射源（17），该任务是基于所有的表面上，以增加在过程中涉及的辊的平行度的精度。这是在该Abwickelwalzenstuhl，处理辊磨机和Aufwickelwalzenstuhl在定义的点（18，19，20，21）来实现附接，并且是在系统中，一个卷轴室和处理腔室，最大为50Pa的之间的压力差的操作状态和/ 或一个共同的辊磨机对多个冷却辊进行。

5. 发明申请

WO2006034676A1 TEMPERFÄHIGES SCHICHTSYSTEM UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译： Annealable层系统及其制备方法
公开(公告)号：WO2006034676A1
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/DE2005/001660
申请日：2005-09-21
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , FIUKOWSKI, Joerg , LIST, Matthias , HECHT, Hans-Christian , MILDE, Falk
发明人： FIUKOWSKI, Joerg , LIST, Matthias , HECHT, Hans-Christian , MILDE, Falk
IPC分类号： C03C17/36 , C23C14/35 , C23C14/54
CPC分类号： C03C17/36 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C17/3694 , C23C14/027 , C23C14/08 , C23C14/352 , Y10T428/31504 , Y10T428/31663
摘要： Die Erfindung betrifft ein temperfähiges Schichtsystem mit einem transparenten Substrat, vorzugsweise mit einem Glassubstrat (1) und einer ersten Schichtenfolge, der auf dem Substrat direkt oder auf einer oder mehreren Unterschichten, die auf dem Substrat abgeschieden sind, aufgebracht ist. Die Schichtenfolge beinhaltet eine substratseitige Blockerschicht (3), eine selektive Schicht (5) und eine substratferne Blockerschicht (6). Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung eines temperfähigen Schichtsystems. Ihr liegt die Aufgabe zugrunde, bei anspruchsvollen klimatischen Bedingungen und/oder Undefinierten Zuständen bei dem Glassubstrat eine ausreichende Qualität zu sichern und eine Beschichtung eines Substrates mit einem wärmebehandelbaren Schichtsystem zu ermöglichen, wobei bei der Wärmebehandlung (Tempern, Biegen) der Farbort des Schichtsystems weitgehend stabil gehalten und bei einer niedrigen Emissivität des Schichtsystems der Farbort in einer grossen Vielfalt variiert werden kann. Gemäss der Erfindung wird dies dadurch gelöst, dass zwischen der substratseitigen Blockerschicht (3) und der selektiven Schicht (5) eine erste dielektrische Zwischenschicht (4) angeordnet ist, die als unterstöchiometrische Gradientenschicht ausgebildet ist.
摘要翻译：本发明涉及一种annealable层系统，具有透明基板，优选包括玻璃基板（1）和第一层序列，其直接涂布在基板上或在其上沉积在基底上的一个或更多个亚层。层的顺序包括基板侧阻挡层（3），选择性层（5）和基板远侧阻挡层（6）。本发明还涉及一种方法，用于生产层系统temperfähigen。它是在恶劣的气候条件和/或未定义的状态的对象，以确保玻璃基板的足够的质量，并允许用可热处理的层系统的底物，其中所述层系统在热处理基本上稳定的色点的涂层（回火，弯曲）可以保持，并在该层系统，在各种各样的颜色轨迹的低发射率而变化。根据该是这样实现的（5）（4）被布置在基板侧阻挡层（3）和所述选择性层之间的第一介电层的本发明，其被构造为亚化学计量的梯度。

6. 发明申请

WO2007095876A1 HOCHREFLEKTIERENDES SCHICHTSYSTEM, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES SCHICHTSYSTEMS UND EINRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS 审中-公开
标题翻译：高反射层系统，其制造方法层系统和设备实现的过程
公开(公告)号：WO2007095876A1
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：PCT/DE2006/001561
申请日：2006-09-06
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , FABER, Joerg , REINHOLD, Ekkehart , DEUS, Carsten , HECHT, Hans-Christian , SCHUBERT, David , KRALAPP, Uwe , HUMMEL, Hendrik
发明人： FABER, Joerg , REINHOLD, Ekkehart , DEUS, Carsten , HECHT, Hans-Christian , SCHUBERT, David , KRALAPP, Uwe , HUMMEL, Hendrik
IPC分类号： C23C28/02 , C23C28/04 , C23C14/02 , C23C14/14 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/14 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/345 , C23C28/3455 , G02B5/0875 , Y10T428/31678
摘要： Die Erfindung betrifft ein hochreflektierendes Schichtsystem zur Beschichtung von Substraten mit reflexionserhöhenden Schichten, ein Verfahren zur Herstellung des Schichtsystems sowie eine Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens. Auf der Oberfläche des Substrats (S0) ist eine erste funktionelle Reflexionsschicht (S3) aufgetragen. Die erste funktionellen Reflexionsschicht (S3) kann reflektierend oder teilreflektierend sein und aus Metall oder einer Metalllegierung bestehen, die einen oder mehrere Bestandteile aus der Gruppe Kupfer, Nickel, Aluminium, Titan, Molybdän, Zinn enthält. Darüber ist eine zweite funktionelle Reflexionsschicht (S5) vorgesehen. Die zweite funktionelle Reflexionsschicht (S5) kann aus Metall oder einer Metalllegierung, beispielsweise Silber oder einer Silberlegierung, bestehen. Über der zweiten funktionellen Reflexionsschicht (S5) folgt eine erste transparente dielektrische Schicht (S7). Die erste transparente dielektrische Schicht (S7) kann beispielsweise aus Siliziumoxid bestehen. Über der ersten transparenten dielektrischen Schicht (S7) ist eine zweite transparente dielektrische Schicht (S8) angeordnet. Diese kann beispielsweise aus Titanoxid bestehen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于与反射增强层，用于制造该层系统和用于实施该方法的装置的方法涂布的基材的高反射涂层系统。在该基板的表面（S0）是（S3）施加的第一功能的反射层。第一功能反射层（S3）可以是反射性的或部分反射且由金属制成或包含选自铜，镍，铝，钛，钼，锡的一种或多种成分的金属合金制成。在第二功能的反射层（S5）提供。第二功能反射层（S5）可以由金属或金属合金，例如银或银合金。关于第二功能反射层（S5）的第一透明电介质层（S7）如下。所述第一透明电介质层（S7）可包括例如氧化硅构成。在第一透明电介质层（S7）一第二透明电介质层（S8）被布置。这可以例如由钛氧化物构成。

7. 发明申请

WO2003081634A2 ROHRMAGNETRON 审中-公开
标题翻译：管状磁控管
公开(公告)号：WO2003081634A2
公开(公告)日：2003-10-02
申请号：PCT/DE2003/000962
申请日：2003-03-24
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , ERBKAMM, Wolfgang , HECHT, Hans-Christian
发明人： ERBKAMM, Wolfgang , HECHT, Hans-Christian
IPC分类号： H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3405
摘要： Der Erfindung, die Rohrmagnetron einer Vakuumbeschichtungsanlage betrifft, das mit einer hohlen, drehbar gelagerten Rohrtargetanordnung, und mit einem Magnetsystem versehen ist, das im Querschnitt zwei Magnetfeldmaxima aufweist und das in der axialen Längserstreckung der Rohrtargetanordnung und in deren Inneren angeordnet ist, wobei das Magnetfeld die Rohrtargetanordnung durchdringt und die Rohrtargetanordnung längserstreckte Targetplatten aufweist, die auf einem Targetträger befestigt sind, liegt der Aufgabe zugrunde, insbesondere bei der Verwendung von Targetplatten aus Keramiken z.B. aus ITO, Zinkoxid, Silizium und aus anderen keramischen, keramikähnlichen und/oder hochschmelzenden Material, eine verbesserte Prozessgleichmäßigkeit als wesentliche Voraussetzung für eine hohe Schichtqualität auf dem Substrat zu erzielen. Dies wird dadurch gelöst, dass die Targetplatten im Querschnitt ein Polygon bildend aneinander grenzend angeordnet sind.
摘要翻译：本发明的，一真空涂层系统的管状磁控管而言，其设置有一个中空的，可转动地安装管靶组件和磁体系统，其包括在横截面中两个磁场的最大值，并且被布置在其管靶组件的轴向纵向延伸并进入内部，磁场，由此，在渗透管靶组件和具有纵向延伸，其被连接至靶支撑靶板管靶组件，该任务是基于，尤其是在使用陶瓷如的目标板的 ITO，氧化锌，硅等陶瓷，陶瓷类和/或高熔点的材料制成，以获得改善的处理均匀性，作为在基板上形成高品质的层的基本先决条件。这是这样实现的，在横截面中的目标板的多边形排列，形成连续的。

8. 发明申请

WO9904412A3 TARGET CATHODE ASSEMBLY 审中-公开
标题翻译： TARGET阴极布置
公开(公告)号：WO9904412A3
公开(公告)日：1999-04-08
申请号：PCT/DE9802024
申请日：1998-07-20
申请人： ARDENNE ANLAGENTECH GMBH , ERBKAMM WOLFGANG , STRUEMPFEL JOHANNES , HECHT HANS CHRISTIAN , DIMER MARTIN , GEHM KLAUS , SCHULZE DIETMAR
发明人： ERBKAMM WOLFGANG , STRUEMPFEL JOHANNES , HECHT HANS-CHRISTIAN , DIMER MARTIN , GEHM KLAUS , SCHULZE DIETMAR
IPC分类号： C23C14/35 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3414 , H01J37/3405
摘要： The invention concerns a target cathode assembly with a target which produces an erosion trench during operation. Under the target support elements, are a cooling system and a magnetic system comprised of a return locking plate which is located on the side of the target cathode assembly opposite the target. The function of the invention is to avoid arc discharge on the target cathode assembly or between a neighboring assembly and target cathode assemblies. This is achieved by fitting the target cathode assembly with a soft magnetic material. Said material partially covers the exterior surface of the target cathode assembly during the exposure of the active target surface and is electrically connected to the target cathode assembly.
摘要翻译：本发明涉及一种靶阴极组件，其具有一个目标，其形成侵蚀坑在当前操作中，被布置在目标支撑元件，冷却系统和磁体系统，其包括在目标阴极组件的目标侧的相反侧布置垫板下，任务是发明，以避免在靶阴极组件或在其间的两个目标阴极组件相邻排列形成电弧。这是这样实现的靶阴极组件设有软磁材料的覆盖，这是靶阴极组件的外表面，留下至少部分地覆盖并电连接到靶阴极组件中的活性目标表面上。

9. 发明申请

WO2011020924A1 FLÄCHENHEIZEINRICHTUNG FÜR EINE SUSTRATBEHANDLUNGSEINRICHTUNG, UND SUBSTRATBEHANDLUNGSEINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译： FOR SUSTRATBEHANDLUNGSEINRICHTUNG面板加热，及基板处理装置
公开(公告)号：WO2011020924A1
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：PCT/EP2010/062264
申请日：2010-08-23
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , HENTSCHEL, Michael , MEYER, Thomas , VON DER WAYDBRINK, Hubertus , KENNE, Marco , STANGE, Daniel , HECHT, Hans-Christian
发明人： HENTSCHEL, Michael , MEYER, Thomas , VON DER WAYDBRINK, Hubertus , KENNE, Marco , STANGE, Daniel , HECHT, Hans-Christian
IPC分类号： F27D11/02 , F27D99/00 , C23C16/48 , H05B3/48
CPC分类号： F27D11/02 , C03B29/025 , C03B29/08 , F27D99/0006 , F27D2099/0011 , H01L21/67109 , H05B3/48
摘要： Die Erfindung betrifft eine Flächenheizeinrichtung für eine Sustratbehandlungseinrichtung mit erhöhter Leistungsdichte und verbesserter Homogenität der Wärmeabstrahlung. Vorgeschlagen wird bei einer Flächenheizeinrichtung für eine Substratbehandlungseinrichtung, die einen Mantelrohrheizer mit geraden Rohrabschnitten und gebogenen Rohrabschnitten umfasst, wobei gerade Rohrabschnitte parallel zueinander in einer Hauptebene angeordnet und gerade Rohrabschnitte durch gebogene Rohrabschnitte miteinander verbunden sind, dass zumindest ein Teil der gebogenen Rohrabschnitte relativ zur Hauptebene geneigt ausgerichtet ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于Sustratbehandlungseinrichtung面板加热装置具有增加的功率密度和改进的热辐射的均匀性。，它在用于在基板处理装置，其包括与直管段和弯曲管段的所述直管段彼此在主平面和直管段布置在平行通过弯曲管段相互连接的套管加热器的面板加热提议，至少所述弯曲管段的一部分相对于所述主平面倾斜对齐。

10. 发明申请

WO2010146151A1 EINRICHTUNG ZUR TEMPERATURFÜHRUNG VON SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译：设备用于温度处理底层
公开(公告)号：WO2010146151A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：PCT/EP2010/058627
申请日：2010-06-18
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , VON DER WAYDBRINK, Hubertus , MEYER, Thomas , HENTSCHEL, Michael , BAUER, Reinhardt , WOLF, Andrej , HECHT, Hans-Christian
发明人： VON DER WAYDBRINK, Hubertus , MEYER, Thomas , HENTSCHEL, Michael , BAUER, Reinhardt , WOLF, Andrej , HECHT, Hans-Christian
IPC分类号： B05B13/00 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/541 , C23C14/56
摘要： Der Erfindung, die eine Einrichtung zur Temperaturführung von Substraten in einer Substratbehandlungsanlage betrifft, in der ein Substrat (1) in Längserstreckung (2) der Substratbehandlungsanlage in einer Substrattransportebene (3) innerhalb einer Vakuumkammer an einer Behandlungseinrichtung (7) vorbeiführbar ist, liegt die Aufgabe zugrunde, in eine dynamische Änderung der thermischen Isolation zur Steuerung des Wärmedurchgangs im Substrat (1) dynamisch zu gestalten und dabei insbesondere thermische Trägheiten zu verringern. Dies wird dadurch gelöst, dass auf einer Seite der Substrattransportebene (3) ein wärmeabsorbierendes Kühlmittel (9) vorgesehen ist, dass in einer Ausgestaltung mit einem Isolationsmittel (10) gegenüber der Substrattransportebene (3) zumindest partiell abschirmbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于控制基片的温度在一基板处理系统，其中，在所述纵向延伸的基板（1）（2）在基板运输机（3）在真空室中在处理装置的基板处理系统（7）被引导经过任务是基于努力，使在热绝缘的动态变化，以控制在基板（1）的热传递，并由此特别是降低热惯性。这是这样实现的一个吸热冷却剂（9）被设置在衬底运输机（3）的一侧上，即在一个设计用绝缘装置（10）相对于所述基片输送面（3）至少部分地屏蔽。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式