专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2018041283A1 WELLNESS-PANTOLETTE MIT SKALIERBARER AKUPRESSURWIRKUNG 审中-公开
标题翻译：具有可扩展ACUPRESSING效果的健康PANTOLET
公开(公告)号：WO2018041283A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/DE2017/000184
申请日：2017-06-28
申请人： MONYER, Gerhard Michael
发明人： MONYER, Gerhard Michael
IPC分类号： A43B3/24 , A43B7/14 , A43B17/18 , A43B3/10
CPC分类号： A43B7/146 , A43B1/0009 , A43B3/108 , A43B3/246 , A43B7/141 , A43B17/00 , A43B17/18
摘要： Wellness-Pantolette mit skalierbarer Akupressurwirkung bestehend im Wesentlichen aus einer tragenden Pantolettengrundstruktur, die mindestens aus einer Laufsohle und einem Fussriemchen besteht, wobei auf der Laufsohle eine Einlegesohle eingebettet sein kann, aus der eine Anzahl von Massagenoppen herausragen, wobei jede einzelne Noppe aus der Lauf- oder Einlegesohle entspringt und in einer dem Enddurchmesser entsprechenden runden oder flachen Noppen-Spitze endet, so daß die Summe der Noppenend-Flächen, bzw. die Noppen-Rundungen, die physisch Reale-Stehfläche bildet, wobei sich die Reale-Stehfläche im Wesentlichen durch die Gesamtanzahl X der Noppen multipliziert mit den entsprechenden Noppen-Spitzen-Flächen definiert, wobei die Wellness-Pantolette eine demontable Verbundsohle aufweist, bestehend erstens aus der demontablen, flexiblen, und wendbaren Einlegesohle (2) in Form eines gelochten Netzes, die unten und oben in ihrer Distanz (D) flächig solitär zueinander stehende, vorzugsweise rigide und wenig flexible Noppen (Spikes) (6) aufweist, in deren unmittelbaren Umgebung bezogen auf den Basis-Radius und Höhe keine weiteren Spikes stehen, und bestehend zweitens aus der die Unterseite der Einlegesohle komplementär umfassenden Laufsohle (1), die auf ihrer zur Einlegesohle zugewandten Fläche ein Negativ-Profil aufweist, das mindestens zum Teil einen jeweiligen Abschnitt der Positiv-Patterns der oberen und unteren Einlegesohle bis zur gemeinsamen horizontalen Mittellinie zugleich abbildet, mindestens jedoch zum Teil die Spikes-Patterns der jeweiligen Seiten (oben und unten) abbildet, ohne daß zusätzlich körperlich distinkte Fixierungselemente an der Pantolette vorhanden sind.
摘要翻译：
使用基本上由支撑Pantolettengrundstruktur，其由至少一个外底和一个Fussriemchen的，其中，内底可被嵌入在所述鞋外底，其中多个按摩螺柱的突出的可伸缩的针压的影响健康滑动，其中每个单独的绒头产生于运行或鞋垫，并在圆形或平的端部的旋钮的相应的最终直径终止，从而ROAD 所述Noppenend-FL＆AUML的总和;陈，或旋钮曲线在物理上真实Stehfl BEAR形成表面，其中，所述实时Stehfl＆AUML;枝基本上由凸块乘以相应的凸块峰值FL＆AUML的总数X ;陈定义，其中，所述健康Pantolette具有一可拆卸的复合鞋底，在穿孔栅格形式由该可拆卸的，灵活的和可逆的内底（2）的首先其底部和顶部在其距离（d）FL＆AUML; chig solit BEAR 每个其他性质，优选为刚性的和不很灵活小块（尖峰）（6），设在所述基圆半径和H＆ouml紧邻;他没有额外的尖峰，并且包括，其次，从鞋垫互补BEAR全面鞋外底的下侧（1）在其面向鞋内底的表面上具有负轮廓，至少部分地具有上和下的正图案的相应部分同时显示内底直到共同的水平中心线，但是至少部分地显示了相应侧面（顶部和底部）的尖峰图案，另外，骡子身上有不同的固定元件。

2. 发明申请

WO2016082873A1 ÖLADSORPTIONSMITTEL, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SOLCHEN ÖLADSORPTIONSMITTEL UND VERFAHREN ZUR SELEKTIVEN ADSORPTION VON ÖLEN 审中-公开
标题翻译：油吸附剂，方法此类油吸附剂和方法用于油的选择性吸附的生产
公开(公告)号：WO2016082873A1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：PCT/EP2014/075679
申请日：2014-11-26
申请人： KREUDER, Gerhard Michael
发明人： KREUDER, Gerhard Michael , CORDES, Arno
IPC分类号： B01J20/24 , B01D17/02 , B01J20/30 , C02F1/28 , C09K3/32 , E02B15/04 , B01J20/28 , C02F101/32
CPC分类号： B01J20/24 , B01D17/0202 , B01J20/28016 , B01J20/3028 , B01J20/3085 , B01J2220/4825 , C02F1/286 , C02F1/288 , C02F1/681 , C02F2101/32 , E02B15/041 , E02B15/045 , Y02A20/204
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Öladsorptionsmittels aus nachwachsenden Rohstoffen, umfassend die Zerkleinerung von aus nachwachsenden Rohstoffen bestehendem Material mittels geeigneter Zerkleinerungsmaschinen in ein Granulat und eine Behandlung des Granulats mit einem Reaktionsgemisch enthaltend Enzyme zur enzymatischen Behandlung des Granulats. Weiterhin betrifft sie ein durch das Verfahren herstellbares Oladsorptionsmittel, ein Verfahren zur selektiven Adsorption von Altölen unter Verwendung des Öladsorptionsmittels und die Verwendung einer enzymatischen Behandlung von Granulaten aus nachwachsenden Rohstoffen zur Verbesserung bestimmter Eigenschaften.
摘要翻译：本发明涉及一种用于从可再生原料生产Öladsorptionsmittels，其包括由可再生原料现有通过适当的粉碎设备装置成颗粒的粉碎和用含有酶的颗粒的酶处理的反应混合物处理该颗粒的方法。此外，通过该方法Oladsorptionsmittel，对于使用Öladsorptionsmittels和使用由可再生原料颗粒的酶处理的，以改善某些性质废油的选择性吸附的方法涉及一种制造。

3. 发明申请

WO2007093433A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE MIKRO-LITHOGRAPHIE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM DERARTIGEN BELEUCHTUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻，这样的照明系统投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2007093433A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001362
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael , GERHARD, Michael , THOME, Bruno , SINGER, Wolfgang
发明人： DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael , GERHARD, Michael , THOME, Bruno , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70191
摘要： Ein Beleuchtungssystem (5) für die Mikro-Lithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (3). Eine vorzugsweise eingesetzte Lichtverteilungseinrichtung (9, 10) erzeugt eine zweidimensionale Intensitätsverteilung in einer ersten Beleuchtungsebene (11). Eine erste Rasteranordnung (12) aus optischen Rasterelementen erzeugt eine Rasteranordnung sekundärer Lichtquellen. Den beiden Rastanordnungen (12; 16) ist eine zusätzlich optisch wirkende Einrichtung räumlich benachbart zugeordnet, die als Beleuchtungswinkel- Variationseinrichtung (14) ausgebildet sein kann. Die zusätzlich optisch wirkende Einrichtung (14) beeinflusst die Intensität und/oder die Phase und/oder die Strahlrichtung des Beleuchtungslichts (8). Diese Beeinflussung ist derart, dass ein Intensitätsbeitrag von Rasterelementen (23, 28) zur Gesamt-Beleuchtungsintensität über das Beleuchtungsfeld (3) variiert. Hierdurch kann die Beleuchtungsintensität über das Beleuchtungsfeld gezielt hinsichtlich der Gesamt-Beleuchtungsintensität und/oder hinsichtlich der Intensitätsbeiträge aus unterschiedlichen Beleuchtungsrichtungen beeinflusst werden.
摘要翻译：一种照明系统（5）对用于照明场（3）的照明微光刻。其中，优选使用（9，10）一种光分布装置产生一个以第一照明平面（11）的二维强度分布。光学光栅元件的第一扫描组件（12）产生的二次光源的光栅阵列。两个锁定组件（12; 16）是一种光学作用的装置另外分配空间上相邻的，即可以考虑Beleuchtungswinkel-变化装置（14）。该附加的光学作用的装置（14）影响强度和/或相位和/或照明光的光束方向（8）。这种影响使得光栅元件（23，28）的强度的贡献的总照明强度跨过照明场（3）是变化的。由此，照明强度可以通过照明场选择性地相对于所述整体照明强度和/或相对于从不同的照明方向的强度的贡献的影响。

4. 发明申请

WO2007045103A2 FUEL CELL FLUID MANAGEMENT SYSTEM 审中-公开
标题翻译：燃料电池流体管理系统
公开(公告)号：WO2007045103A2
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/CA2006001820
申请日：2006-10-17
申请人： GEN HYDROGEN CORP , MULVENNA ALAN JOHN , YNTEMA THEODORE DOUGLAS , ROBIN CURTIS MICHAEL , SCHMIDT GERHARD MICHAEL , KO JAMES GAH-MING , MACFARLANE SONJA ELISABETH
发明人： MULVENNA ALAN JOHN , YNTEMA THEODORE DOUGLAS , ROBIN CURTIS MICHAEL , SCHMIDT GERHARD MICHAEL , KO JAMES GAH-MING , MACFARLANE SONJA ELISABETH
IPC分类号： H01M8/04
CPC分类号： H01M8/04149 , F28D7/10 , H01M8/04029 , H01M8/04164 , H01M8/04179 , H01M8/04201 , H01M8/04216 , H01M2008/1095
摘要： A fuel cell fluid management system that transfers water vapor from a fuel cell stack's oxidant exhaust to the fuel cell stack's fluid supplies through membrane tubes; that coalesces and separates liquid water from the fuel cell's fluid exhaust streams for removal to the environment; that transfers heat from the fuel cell stack to the fluid supplies, and that disposes of purged fuel cell fuel. The fluid management system is shaped to close couple to the fluid ports of a corresponding fuel cell stack.
摘要翻译：一种燃料电池流体管理系统，其将来自燃料电池堆的氧化剂排气的水蒸汽传送到燃料电池堆的流体供应通过膜管; 将液态水与燃料电池的流体排放流聚结并分离，以便去除环境; 其将热量从燃料电池堆传递到流体供应源，并且配置清除的燃料电池燃料。流体管理系统的形状是与相应的燃料电池堆的流体端口相连接。

5. 发明申请

WO2004111690A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV SOWIE VERFAHREN ZUM AUSWÄHLEN VON OPTISCHEN MATERIALIEN IN EINEM DERARTIGEN OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：投影镜头和方法，这样的镜头选择光材料
公开(公告)号：WO2004111690A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/EP2003/006402
申请日：2003-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
发明人： GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B1/02
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Ein Projektionsobjektiv (10) für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst mehrere Gruppen aufeinanderfolgender optischer Elemente. In wenigstens einer Gruppe sind wenigstens ein erstes optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall und wenigstens ein zweites optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall, das wenigstens zwei verschiedene Erdalkalimetalle enthält, angeordnet. Alle optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall und vorzugsweise keines der optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall erfüllen dabei die Bedingung m i = GPL i * DB (θ i ) ≥ S. Die Grösse m i ist ein jedem optischen Element L i zugeordneter Verzögerungsparameter, GPL i die geometrische Weglänge eines unter maximalem Öffnungswinkel auf das optische Element L i auftreffenden Aperturstrahls (28), θ i der Öffnungswinkel zwischen dem Aperturstrahl (28) und der optischen Achse (26) des optischen Elements L i , DB(θ i ) ein Mass für die Doppelbrechung des optischen Elements L i , das von dem Material und der Kristallorientierung des optischen Elements L i unabhängig ist, und S ein für alle optischen Elemente L i einheitlicher Schwellenwert. Das Projektionsobjektiv weist eine geringe Doppelbrechung auf und ist kostengünstiger, als wenn alle optischen Elemente aus teuren Mischkristallen beständen.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光设备的投影透镜（10）包括多个连续的光学元件的组。在至少一个基团是至少一种碱土金属氟化物结晶的第一光学元件和至少由含有至少两种不同的碱土金属碱土氟化物固溶体布置的第二光学元件。的碱土氟化物固体溶液和优选没有碱土金属氟化物晶体的光学元件的所有光学元件满足该条件MI = GPLi * DB（thetai）> = S的大小MI是每个光学元件栗相关联的延迟参数，GPLi入射在最大打开角度的光学构件栗孔径射线（28）的几何路径，thetai孔射线（28）和光学构件的光轴（26）之间的打开角度栗，DB（thetai）的双折射的测量光学部件的Li，是独立于所述光学部件Li的材料和晶体取向的，和S，一个，通用于所有光学元件李阈值。投影透镜具有低的双折射，是便宜比如果昂贵混晶种群的所有光学元件。

6. 发明申请

WO2011138340A2 SUBSTRATES FOR MIRRORS FOR EUV LITHOGRAPHY AND THEIR PRODUCTION 审中-公开
标题翻译：用于EUV光刻及其生产的镜子的基底
公开(公告)号：WO2011138340A2
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/EP2011/057074
申请日：2011-05-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KALLER, Julian , CLAUSS, Wilfried , GERHARD, Michael
发明人： KALLER, Julian , CLAUSS, Wilfried , GERHARD, Michael
IPC分类号： C03C3/06
CPC分类号： G02B5/08 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03C3/06 , C03C10/00 , C03C14/00 , C03C2201/42 , G03F7/70891
摘要： For the production of mirrors for EUV lithography, substrates are suggested having a mean relative thermal longitudinal expansion of no more than 10 ppb across a temperature difference ΔΤ of 15°C and a zero-crossing temperature in the range between 20°C and 40°C. For this purpose, at least one first and one second material having low thermal expansion coefficients and opposite gradients of the relative thermal expansion as a function of temperature are selected and a substrate is produced by mixing and bonding these materials.
摘要翻译：为了生产用于EUV光刻的反射镜，建议基板的温度差Δθ平均相对热纵向膨胀不超过10ppb 为15°C，过零温度为20°C至40°C。为此，选择具有低热膨胀系数和相对热膨胀作为温度的函数的相反梯度的至少一种第一和第二材料，并通过混合和粘合这些材料来生产基底。

7. 发明申请

WO2008080563A1 OPTICAL ELEMENT AND ILLUMINATION OPTICS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学元件和微光学照明光学
公开(公告)号：WO2008080563A1
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：PCT/EP2007/011227
申请日：2007-12-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GERHARD, Michael
发明人： GERHARD, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： An optical element serves to influence a nominal beam angle, preset over a beam cross-section, of a radiation beam (26) hitting the optical element. The optical element has a spatial optical structure (16) which generates a first part of the influence exerted on the nominal beam angle when exposed to the radiation beam (26). An optical coating (24) applied on the spatial optical structure or on a carrier layer carrying the spatial optical structure (16) causes a defined attenuation of parts of the radiation beam (26) when exposed to the latter, thus resulting in a second part of the influence exerted on the nominal beam angle. The optical effects of the structure (16) and the coating (24) are such that they complement each other in influencing the nominal beam angle. The manufacturing effort required to obtain this effect is quite low. Moreover, this leads to new possibilities in terms of influencing the nominal beam angle.
摘要翻译：光学元件用于影响击中光学元件的辐射束（26）的在横截面上预设的标称光束角。光学元件具有空间光学结构（16），其在暴露于辐射束（26）时产生施加在标称光束角上的影响的第一部分。施加在空间光学结构上或承载空间光学结构（16）的载体层上的光学涂层（24）当暴露于辐射束（26）的部分时，导致辐射束（26）的限定的衰减，从而导致第二部分对标称光束角的影响。结构（16）和涂层（24）的光学效应使得它们在影响标称光束角度时相互补充。获得这种效果所需的制造工作相当低。此外，这导致了影响标称光束角度的新的可能性。

8. 发明申请

WO2007093436A1 OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微电子投影曝光装置照明系统的光学积分器
公开(公告)号：WO2007093436A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001370
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
发明人： WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , G03F7/70075 , Y10T83/0304 , Y10T83/04
摘要： An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V 1 to V 4 ). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.
摘要翻译：一种用于在微光刻投影曝光装置的照明系统中制造多个次级光源的光学积分器，包括在第一平面中并排设置并具有第一顶点线的第一阵列的细长的凸形弯曲的第一微透镜（112X） V）。光学积分器还包括细长的凸形弯曲的第二微透镜（114X; 214X）的第二阵列，所述第二阵列在第二平面中并排布置，并且具有第二顶点线（V SUB 1至V 4））。在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶点线或其一部分与第一顶点线（V）中的任何一个或其部分不一致。

9. 发明申请

WO2002093209A3 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2002093209A3
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B1/02
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.

10. 发明申请

WO9967683A3 OPTICAL SYSTEM, ESPECIALLY A PROJECTION LIGHT FACILITY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是微型摄影术的投影曝光系统
公开(公告)号：WO9967683A3
公开(公告)日：2000-04-20
申请号：PCT/EP9904246
申请日：1999-06-18
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , GABER ERWIN , WAGNER CHRISTIAN , HOLDERER HUBERT , GERHARD MICHAEL , MERZ ERICH , BECKER JOCHEN , SCHEIBERLICH ARIE CORMELIS
发明人： GABER ERWIN , WAGNER CHRISTIAN , HOLDERER HUBERT , GERHARD MICHAEL , MERZ ERICH , BECKER JOCHEN , SCHEIBERLICH ARIE CORMELIS
IPC分类号： G03F7/22 , G02B7/02 , G02B13/14 , G02B27/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , G02B26/06
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B7/028 , G02B27/0068 , G03F7/70241 , G03F7/70358 , G03F7/70783
摘要： The invention relates to an optical system, especially a projection light facility for microlithography, especially with an image field shaped as a slit or with non rotational symmetry illumination, comprising an optical element (1), especially a lens or a mirror, which is arranged in a mount (2) and actuators (3) which engage with the optical element (1) at least nearly perpendicular to the optical axis. The actuators (3) effect non rotational symmetric forces and/or moments deviating from the radial lines in the optical element (1) to generate deformations with substantially no changes in thickness. Image errors arising as a result of asymmetric heating of the optical system are compensated for by deformation of the optical element.
摘要翻译：的光学系统，特别是用于微光刻的投射曝光系统，特别是与狭缝状的图像场或非旋转对称的照明，光学元件（1），特别是透镜或反射镜，其在固定件（2）布置，和致动器（3 ），其至少近似垂直于光轴地接合在光学元件（1）上。致动器（3）引起非旋转对称并偏离光学元件（1）上的径向力和/或力矩，从而基本上没有产生弯曲的厚度变化。由光学元件的不对称加热引起的图像误差通过光学元件的弯曲进行补偿。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式