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    • 4. 发明申请
    • 中空構造体の製造方法
    • 生产中空结构的方法
    • WO2009017164A1
    • 2009-02-05
    • PCT/JP2008/063691
    • 2008-07-30
    • ステラケミファ株式会社山口 輝憲橋口 慎二上野 光保
    • 山口 輝憲橋口 慎二上野 光保
    • D01D5/24D01F6/00
    • D01F11/04B29C67/0014D01D5/24D06M11/09D06M11/11D06M11/17D06M11/22
    •  繊維やフィルム等の様々な形状、大きさを有し、耐薬品性を備えたフッ化炭化水素重合体、フッ化炭素重合体又は前記重合体に窒素含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、リン含有基若しくは硫黄含有基を有する重合体からなる中空構造体の製造方法、及び当該方法により得られる中空構造体を提供する。本発明に係る中空構造体の製造方法は、炭化水素重合体、又は前記重合体に窒素含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、リン含有基若しくは硫黄含有基を有する重合体からなる構造体にフッ素を含む処理ガスを所定条件下で接触させ、該構造体の外表面から内部に向かって該処理ガスを浸透させることにより、構造体の中心部分を除きフッ化処理するフッ化処理工程と、前記未フッ化処理状態にある中心部分を除去する除去工程を含むことを特徴とする。   
    • 本发明提供一种中空构造体的制造方法,该中空构造体可以是各种形状,例如纤维或膜,以及各种尺寸,并具有耐化学性,由氟化烃聚合物,氟化碳聚合物或 携带含氮基团的聚合物,含有导入到上述聚合物中的含氮基团,含氧基团,含磷基团或含硫基团; 和通过该方法获得的中空构造。 如上所述的制造中空构造体的方法的特征在于包括氟化步骤,其中由烃聚合物或携带含氮基团的聚合物,含硅基团,含氧基团, 导入上述聚合物的含氟基团或含硫基团在一定条件下与含氟处理气体接触,从而允许处理气体从构造体的外表面向其内部渗透 除去核心部分以外的构造物氟化,除去上述未被氟化的芯部的除去工序。