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1. 发明申请

WO2014050868A1 クラッチ审中-公开
标题翻译：离合器
公开(公告)号：WO2014050868A1
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：PCT/JP2013/075873
申请日：2013-09-25
申请人：トヨタ自動車株式会社 , 砂田洋尚 , 中山雅夫 , 筒井秀起 , 中野慎太郎 , 小林大輔
发明人：砂田　洋尚 , 中山　雅夫 , 筒井　秀起 , 中野　慎太郎 , 小林　大輔
IPC分类号： F16D41/08
CPC分类号： F16D23/12 , F16D13/76 , F16D15/00 , F16D27/108 , F16D41/088 , F16D2023/123
摘要：　クラッチは、駆動側回転体と、駆動側回転体と連結される第１の位置と駆動側回転体との連結が解除される第２の位置との間を駆動側回転体の軸方向に沿って移動可能な従動側回転体と、従動側回転体を第２の位置から第１の位置に向けて付勢する付勢部材と、を備える。従動側回転体は付勢部材の付勢方向に延びる螺旋溝を有する。クラッチはさらに、その螺旋溝に挿入可能なピンを備える。
摘要翻译：该离合器设有：驱动侧旋转体; 从动侧旋转体，其能够在与驱动侧旋转体连接的第一位置和驱动侧旋转体的与驱动侧旋转体的连接的第二位置之间沿驱动侧旋转体的轴向移动; 旋转体已被释放; 以及推动构件，其将从动侧旋转体从第二位置向第一位置推动。从动侧旋转体包括在推动构件推动的方向上延伸的螺旋槽。离合器还设置有可插入螺旋槽中的销。

2. 发明申请

WO2012043181A1 反射基材、バックライトユニット、および反射基材の製造方法审中-公开
标题翻译：反射基材，背光单元和制造反射基材的方法
公开(公告)号：WO2012043181A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/070446
申请日：2011-09-08
申请人：古河電気工業株式会社 , 西脇利光 , 森田修幸 , 石川明彦 , 山根基宏 , 林大輔 , 河井功一 , 佐藤祐輔
发明人：西脇　利光 , 森田　修幸 , 石川　明彦 , 山根　基宏 , 林　大輔 , 河井　功一 , 佐藤　祐輔
IPC分类号： G02B5/08 , B32B3/30 , B32B5/18 , B32B7/02 , F21V7/00 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B27/0977 , G02F1/133605 , G02F1/133611
摘要：　確実に輝度ムラの発生を防止可能な反射基材と、これを用いたバックライトユニット、および反射基材の製造方法を提供する。レーザ変位計３により反射基材の７の表面形状情報を取得する。次に、得られた凹凸情報をフーリエ変換し、反射基材の表面凹凸形状について、周波数と強度との関係を得る。次に、算出された周波数と強度との関係と、あらかじめ設定された基準データとを比較する。所定範囲の周波数領域において、強度が０．６を超える場合には不合格判定を行い、当該判断領域において０．６を超えるデータがなければ合格判定を行う。
摘要翻译：提供了可以可靠地消除亮度不均匀的产生的反射基材，使用反射基材的背光单元，以及反射基材的制造方法。通过激光位移计（3）获取反射基材（7）的表面形状信息。然后，获得的凹凸信息被傅里叶变换，并且相对于反射基材的凹凸表面形状获得频率和强度之间的关系。然后，将计算出的频率与强度的关系与先前设定的参考数据进行比较。当在预定范围内的频率区域中的强度超过0.6时，确定反射基材是不可接受的，并且当在确定区域中没有超过0.6的数据时，确定反射基材是可接受的。

3. 发明申请

WO2007142282A1 サービス登録処理システム、カード画像提供装置、カード画像提供方法、及びカード画像提供プログラム审中-公开
标题翻译：服务注册处理系统，卡片图像提供设备，卡片图像提供方法和卡片图像提供程序
公开(公告)号：WO2007142282A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/JP2007/061512
申请日：2007-06-07
申请人：楽天株式会社 , 山田善久 , 和田俊弘 , 残田晋 , 有木祐二 , 中谷康宏 , 林大輔 , 谷岳 , 中村正梓
发明人：山田善久 , 和田俊弘 , 残田晋 , 有木祐二 , 中谷康宏 , 林大輔 , 谷岳 , 中村正梓
IPC分类号： G06Q30/00
CPC分类号： G06Q30/00
摘要： Provided are a service registration processing system, a card image providing device, a card image providing method and a card image providing program, which are enabled to allow a user browsing a card image to easily grasp a point to be given (or scheduled to be given) to the user and a point actually given to the user, by displaying first mark information indicating the point to be given (or scheduled to be given) to the user, and second mark information indicating an actually given point, in a display area formed in the card image, while considering a registration step for receiving services and a step of fixing the services.
摘要翻译：提供了一种服务注册处理系统，卡片图像提供装置，卡片图像提供方法和卡片图像提供程序，其能够允许用户浏览卡片图像以容易地掌握要给予的点（或被安排为给予用户和实际给予用户的点，通过在显示区域中显示指示要给予（或调度为给定）的点的第一标记信息和指示实际给定点的第二标记信息形成在卡片图像中，同时考虑接收服务的注册步骤和修复服务的步骤。

4. 发明申请

WO2004001831A1 マグネトロンプラズマ処理装置审中-公开
标题翻译： MAGNETRON等离子体加工设备
公开(公告)号：WO2004001831A1
公开(公告)日：2003-12-31
申请号：PCT/JP2003/007802
申请日：2003-06-19
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 佐東英範 , 林大輔
发明人：佐東英範 , 林大輔
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32834 , H01J37/3266
摘要：マグネトロンプラズマ処理装置は、処理室（１）内で処理空間（Ｓ）内にプラズマを閉じ込めるように、処理空間（Ｓ）と排気口（１１）との間に介在するバッフルプレート（１０）を有する。バッフルプレート（１０）は処理空間（Ｓ）と排気口（１１）とを連通させる複数の貫通孔（１０ｂ）を有する。バッフルプレート（１０）は、バッフルプレート（１０）の存在位置における磁界の磁力線に沿って配置される。
摘要翻译：磁控管等离子体处理装置具有介于处理空间（S）和排出口（11）之间的挡板（10），以便在处理室（1）中的处理空间（S）中封闭等离子体。挡板（10）具有在处理空间（S）和排出口（11）之间连通的通孔（10b）。挡板（10）沿着板所在的位置处的磁场的磁力线设置。

5. 发明申请

WO2003073489A1 プラズマ処理装置及び給電ユニット审中-公开
标题翻译：等离子体加工装置和进料装置
公开(公告)号：WO2003073489A1
公开(公告)日：2003-09-04
申请号：PCT/JP2003/002381
申请日：2003-02-28
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 林大輔 , 永関一也 , 檜森慎司 , 松浦淳 , 野中龍
发明人：林大輔 , 永関一也 , 檜森慎司 , 松浦淳 , 野中龍
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32009 , H01J37/32082 , H01J37/32532
摘要： A plasma processing device for introducing a processing gas into an air-tightly-formed processing container, applying a high-frequency power to generate plasma, and plasma-processing an element to be processed disposed in the container. The device comprises an electrode unit provided in the container and having an electrode for applying the high-frequency power, and a space provided in the electrode unit, for insulating the electrode from the container, the space communicating with the atmosphere outside the container.
摘要翻译：一种等离子体处理装置，用于将处理气体引入到气密形成的处理容器中，施加高频电力以产生等离子体，以及等离子体处理设置在容器中的待处理元件。该装置包括设置在容器中并具有用于施加高频电力的电极的电极单元和设置在电极单元中的用于使电极与容器绝缘的空间，与容器外部的大气连通的空间。

6. 发明申请

WO2002065531A1 半導体処理用のフォーカスリング及びプラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：用于半导体处理和等离子体处理装置的聚焦环
公开(公告)号：WO2002065531A1
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/JP2002/001101
申请日：2002-02-08
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 根津崇明 , 堀口克己 , 林大輔 , 塚原利也
发明人：根津崇明 , 堀口克己 , 林大輔 , 塚原利也
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32642 , H01J37/32623
摘要： A focus ring for plasma treatment device, comprising an inside area (12a), an intermediate area (12b), and an outside area (12c) positioned in that order from the inside so as to surround a treated substrate (W), wherein the surfaces of the inside area (12a) and the outside area (12c) on the side exposed to plasma are substantially formed of a dielectric and the surface of the intermediate area (12b) is substantially formed of a conductor, and the intermediate area (12b) is disposed so as to move the specific peak of the density of the plasma formed substantially just above the outer peripheral edge of the treated substrate (W) when the intermediate area (12b) is absent from the outer peripheral edge of the treated substrate (W) to the outside.
摘要翻译：一种用于等离子体处理装置的聚焦环，包括内部区域（12a），中间区域（12b）和外部区域（12c），该外部区域（12c）以从内侧依次定位成围绕经处理的基板（W），其中暴露于等离子体的一侧的内部区域（12a）和外部区域（12c）的表面基本上由电介质形成，并且中间区域（12b）的表面基本上由导体形成，并且中间区域（12b ）被设置为当中间区域（12b）不存在于经处理的基板的外周边缘时，移动基本上刚好在处理的基板（W）的外周边缘的上方形成的等离子体的密度的特定峰值（ W）到外面

7. 发明申请

WO2014050870A1 クラッチ审中-公开
标题翻译：离合器
公开(公告)号：WO2014050870A1
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：PCT/JP2013/075875
申请日：2013-09-25
申请人：トヨタ自動車株式会社 , 砂田洋尚 , 中山雅夫 , 筒井秀起 , 中野慎太郎 , 小林大輔
发明人：砂田　洋尚 , 中山　雅夫 , 筒井　秀起 , 中野　慎太郎 , 小林　大輔
IPC分类号： F16D41/08
CPC分类号： F16D23/12 , F16D13/76 , F16D15/00 , F16D27/108 , F16D41/088 , F16D2023/123
摘要：　クラッチは、駆動側回転体と、駆動側回転体に連結される連結位置と連結が解除される解除位置との間を軸方向に移動可能な従動側回転体とを備えている。従動側回転体は、螺旋部と螺旋部よりも深い環状部とを有する溝を備えている。従動側回転体は付勢部材により連結位置に向けて付勢されている。螺旋部にピンが挿入されることによって、従動側回転体が付勢部材の付勢力に抗して解除位置まで移動させられる。ピンの先端部には凸部が設けられており、螺旋部の底面には、ピンが螺旋部に挿入されている状態において凸部を収容する凹溝が設けられている。
摘要翻译：该离合器设有：驱动侧旋转体; 以及可以在与驱动侧旋转体的连接的连接位置与释放位置之间沿轴向移动的从动侧旋转体。从动侧旋转体设置有具有比螺旋部更深的螺旋部和环状部的槽。从动侧旋转体通过推进构件朝向连接位置推动。由于销插入到螺旋部分中，从动侧旋转体抵抗推进构件的推力而移动到释放位置。在销的前端设置有突出部，在螺旋部的基面设置有用于在销插入螺旋部时容纳突出部的凹槽。

8. 发明申请

WO2012042974A1 情報提示装置、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ、プロジェクタ、情報提示方法、情報提示プログラム审中-公开
标题翻译：信息呈现装置，数码相机，头戴式显示器，投影机，信息介绍方法和信息呈现程序
公开(公告)号：WO2012042974A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/062275
申请日：2011-05-27
申请人：富士フイルム株式会社 , 林大輔
发明人：林　大輔
IPC分类号： G06T19/00 , H04N5/225
CPC分类号： G06T19/006 , G06T15/20 , G06T19/00
摘要：　利便性の高い情報提示装置を提供する。　情報提示装置としてのデジタルカメラは、撮像素子３で撮像された現実空間画像に仮想物体を重畳させて表示部２３に表示させる制御を行うＣＧ重畳部１７と、撮像素子３で撮像された現実空間画像に含まれる人物の視線を検出する視線検出部１２と、視線検出部１２で検出された視線に基づいて、仮想物体の重畳位置を決定する重畳位置決定部１１とを備える。
摘要翻译：公开了一种改进方便的信息呈现装置。用作信息呈现装置的数码相机设置有CG叠加单元（17），其用于使虚拟对象叠加在由图像拍摄元件（3）捕获的实际空间图像上，并且被显示在显示单元（23）; 视线检测单元，其检测由所述图像拍摄元件（3）捕获的所述实际空间图像中包含的人的视线; 以及重叠位置确定单元，其基于由视线检测单元检测到的视线确定虚拟对象的叠加位置。

9. 发明申请

WO2007123177A1 データ記憶装置审中-公开
标题翻译：数据存储器件
公开(公告)号：WO2007123177A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/JP2007/058525
申请日：2007-04-19
申请人：パイオニア株式会社 , 平林大輔
发明人：平林大輔
IPC分类号： G06F12/00
CPC分类号： G11B27/32 , G11B2220/2516
摘要：　書込部（１０１）によって第１管理領域に書き込まれた特別管理情報が定義する連続領域をフォーマット部（１０２）によってフォーマットする。作成部（１０３）によって、フォーマットされた連続領域に、所定の単位に分割されたデータファイルを記憶する第２データ領域と、第２データ領域に記憶されたデータファイルごとの管理情報を格納する第２管理領域とを持つ第２のファイルシステムを作成する。そして、連続領域への記憶要求を受け付けた場合、記憶部（１０４）によって第２データ領域に任意の規則的処理によるデータ順序でデータファイルを記憶し、第２管理領域に記憶されたデータファイルごとの管理情報を格納する。また、再生要求を受け付けた場合、格納された管理情報に基づいて、読取部（１０５）によって先頭位置から順にデータファイルを読み取る。
摘要翻译：格式单元（102）通过写入单元（101）格式化由写在第一管理区域中的特殊管理信息所拒绝的连续区域。制造单元（103）使第二文件系统具有用于存储划分为规定单位的数据文件的第二数据区域和用于存储存储在第二数据区域中的每个数据文件的管理信息的第二管理区域。在接收对连续区域的存储请求的情况下，存储单元（104）根据任意的常规处理以数据顺序存储第二数据区域中的数据文件，并存储每个数据文件的管理信息第二管理区。此外，在接收再现请求的情况下，读出单元（105）根据管理信息顺序从头读取数据文件。

10. 发明申请

WO2003067636A1 表面処理装置及び表面処理方法审中-公开
标题翻译：表面处理器件和表面处理方法
公开(公告)号：WO2003067636A1
公开(公告)日：2003-08-14
申请号：PCT/JP2003/000457
申请日：2003-01-21
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 永関一也 , 大西正 , 村上幸一 , 林大輔 , 上郡明子 , 本多稔
发明人：永関一也 , 大西正 , 村上幸一 , 林大輔 , 上郡明子 , 本多稔
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67161 , G03F7/40 , H01J2237/31 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H01L21/68742 , H01L21/68785
摘要： Installed in a vacuum chamber (1) is a table (2) for supporting semiconductor wafer (W), which is a treatment subject substrate, with an electron beam irradiation mechanism (6) mounted on the ceiling of the vacuum chamber (1) for generating electron beams (EB). The table (2) is adapted to be vertically moved by a lifting/lowering device (3), allowing the distance between the electron beam irradiating mechanism (6) and the semiconductor wafer (W) to be set at a desired value. This makes it possible to effect a uniform satisfactory treatment over the entire surface of the treatment subject substrate.
摘要翻译：安装在真空室（1）中的是用于支撑作为处理对象衬底的半导体晶片（W）的工作台（2），其中安装有真空室（1）的顶板上的电子束照射机构（6）产生电子束（EB）。工作台（2）适于通过提升/降低装置（3）垂直移动，允许将电子束照射机构（6）和半导体晶片（W）之间的距离设定为期望值。这使得可以对处理对象基板的整个表面实现均匀令人满意的处理。

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