专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2010057671A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG EINES ZERSÄGTEN WAFERBLOCKS 审中-公开
标题翻译：方法和设备用于处理啥样威化饼块
公开(公告)号：WO2010057671A2
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：PCT/EP2009/008344
申请日：2009-11-24
申请人： GEBR. SCHMID GMBH & CO. , HUBER, Reinhard
发明人： HUBER, Reinhard
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67706 , B28D5/0082 , H01L21/67718
摘要： Bei einem Verfahren zur Handhabung eines in einzelne Wafer zersägten Waferblocks, der noch von der Trägereinrichtung gehalten wird, werden von beiden Seiten werden an den zersägten Waferblock in horizontaler Position Bürsten mit Borsten als Andrückmittel heran bewegt, die seitlich an die Seitenkanten der Wafer heran und in Zwischenräume zwischen die Wafer reichen um diese auf Abstand zu halten. Die Bürsten verlaufen längs des zersägten Waferblocks und sind entlang dieser Längserstreckung bewegbar. Der zersägte Waferblock wird mit gleichzeitig angedrückten Bürsten aus der horizontalen Position in eine vertikale Position gebracht. Dann werden die Bürsten von oben nach unten entlang des zersägten Waferblocks weg bewegt und ziehen dabei ihre Borsten aus den Zwischenräumen zwischen den einzelnen Wafern heraus zum Absenken der einzelnen Wafer direkt aufeinander ohne Zwischenraum zu einem Waferstapel.
摘要翻译：在用于处理锯成这仍然是由载体装置保持单独的晶片的晶片块的方法，将是从刷子的两侧与所述刷毛被移动作为加压装置，以在水平位置与锯晶片块连接，所述侧向接近在晶片和侧缘丰富的，让他们在海湾晶圆之间的空间。电刷沿着锯晶片块延伸且可沿所述纵向延伸。锯开晶片块与从水平位置向垂直位置的按压电刷同时带来的。然后，将电刷同时从空隙拉动其刷毛之间的各个晶片进行直接降低各个晶片彼此无间隙地成晶片堆叠沿锯晶片块移动从上到下程。

2. 发明申请

WO2010058009A3 VERFAHREN ZUM DREHEN EINES ZERSÄGTEN WAFERBLOCKS UND VORRICHTUNG DAFÜR 审中-公开
公开(公告)号：WO2010058009A3
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：PCT/EP2009/065650
申请日：2009-11-23
申请人： GEBR. SCHMID GMBH & CO. , MÜLLER, Patrik
发明人： MÜLLER, Patrik
IPC分类号： B28D5/00 , H01L21/673
摘要： Bei einem Verfahren zum Drehen eines in einzelne Wafer zersägten Waferblocks ist der Waferblock entlang mindestens einer Seite von einer Trägereinrichtung gehalten und in einzelne Wafer zersägt, wobei die einzelnen Wafer an dieser mindestens einen Seite noch von der Trägereinrichtung gehalten sind. Der zersägte Waferblock samt Trägereinrichtung wird in horizontaler Position in einen Behälter eingebracht, der Löcher bzw. Abläufe aufweist. Nach dem Einbringen des Waferblocks wird der Behälter mit Flüssigkeit gefüllt und in eine vertikale Position gedreht. Anschließend werden die Wafer horizontal liegend von der Trägereinrichtung gelöst und stapeln sich als eine Art vertikal ausgerichteter Stapel selbsttätig aufeinander durch Aufliegen der einzelnen Wafer aufeinander. Durch Verdrängen von zwischen ihnen befindlicher Flüssigkeit wird dieses Aufstapeln gebremst.

3. 发明申请

WO2002063787A2 SCHUTZHÜLLE FÜR EIN HANDGERÄT EINER FERNSPRECHEINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译： COVER FOR手持设备用于电话
公开(公告)号：WO2002063787A2
公开(公告)日：2002-08-15
申请号：PCT/EP2002/001326
申请日：2002-02-08
申请人： METTANG, Uwe , BURGBACHER, Axel, C.
发明人： BURGBACHER, Axel, C.
IPC分类号： H04B1/38
CPC分类号： H04B1/3888
摘要： Bei einer Schutzhülle für ein Handgerät einer Fernsprecheinrichtung, wie beispielsweise Mobilfunkgeräte, schnurlose Telefongeräte o. dgl. ist die Schutzhülle als eine schlauch-artige, dehnbare Folie ausgebildet. Beim Überziehen der Folie über das Gehäuse des Handgerätes schmiegt sich diese unmittelbar an die überdeckte Oberfläche des Gehäuses an. Die Schutzhülle bietet weitgehend Schutz vor Verschmutzungen aller Art, beispielsweise fettige und ölige Finger, ist wasserabweisend und äußerst griffig.
摘要翻译：在用于电话设备，例如移动电话，无绳电话输出口。等的手机保护盒中。所述的保护套筒作为软管状，伸缩性膜形成。当膜在所述手持装置的壳体的涂层，这立即覆盖，以表面的壳体伫立反对。保护盖具有对各种可能的污染，如油腻，油腻的手指在很大程度上保护，是防水，非常方便。

4. 发明申请

WO2010034488A1 PUMPE FÜR FLUIDE 审中-公开
标题翻译：泵用于流体
公开(公告)号：WO2010034488A1
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：PCT/EP2009/006894
申请日：2009-09-24
申请人： E.G.O. ELEKTRO-GERÄTEBAU GMBH , BLOCK, Volker
发明人： BLOCK, Volker
IPC分类号： A47L15/42 , D06F39/04 , D06F39/08
CPC分类号： D06F39/04 , A47L15/4225 , A47L15/4285 , D06F39/085
摘要： Eine Pumpe (12) für eine Geschirrspülmaschine weist einen motor (15) und eine heizung (28) auf zum Erhitzen des Fluids bei Durchgang durch die Pumpe (12) beim Fördern. Der motor treibt einen Förderer (18) an. Pumpe (12) und Förderer (18) sind dazu ausgebildet, sowohl Luft als auch Wasser zu pumpen bzw. zu befördern und dabei möglicherweise auch noch zu beheizen, beispielsweise die Luft zum Trocknen des Geschirrs in der Geschirrspülmaschine. Dabei können jeweils unterschiedliche Nenn-Betriebsdrehzahlen verwendet werden.
摘要翻译：一种用于洗碗机的泵（12）包括马达（15）和用于输送过程中通过泵（12）经过时加热流体的加热器（28）。马达驱动的输送机（18）。泵（12）和输送机（18）被设计以泵送空气和水和传达，并由此也可以加热，例如，空气在洗碗机干燥碗碟。在每种情况下，可以使用不同的标称工作速度。

5. 发明申请

WO2009129989A1 EINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BEHANDLUNG VON SILIZIUM-WAFERN ODER FLACHEN GEGENSTÄNDEN 审中-公开
标题翻译： DEVICE AND METHOD FOR硅晶片或平面物体的处理
公开(公告)号：WO2009129989A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/EP2009/002881
申请日：2009-04-21
申请人： GEBR. SCHMID GMBH & CO. , LAMPPRECHT, Jörg
发明人： LAMPPRECHT, Jörg
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67086 , H01L21/67706 , H01L31/18
摘要： Eine Behandlungseinrichtung für eine Textur-Ätzung von Silizium-Wafern weist eine Durchlaufbahn durch eine Behandlungskammer mit einer Ätzlösung auf sowie Transportmittel für den Transport der Substrate. Dabei weisen die Transportmittel untere Transportwalzen entlang der Durchlaufbahn auf, auf denen die Silizium-Wafer mit ihrer Unterseite aufliegen. Die Transportmittel weisen auch obere Transportrollen über den unteren Transportwalzen auf zur Anlage auf der Oberseite der Substrate, wobei die oberen Transportrollen einzelne, voneinander getrennte Einzel-Rollen nebeneinander auf einer oberen Transportwelle und mit sehr geringem Abstand zueinander aufweisen. Eine Lagerung der Einzel-Rollen an der oberen Transportwelle weist ein radiales Spiel auf für eine Bewegbarkeit der Einzel-Rolle in radialer Richtung gegenüber der Transportwelle, also eine Anpassung an unterschiedlich dicke Substrate. Es sind Antriebsmittel für jede Einzel-Rolle vorgesehen.
摘要翻译：对于硅晶片的纹理蚀刻的处理装置具有通过与蚀刻液的处理室以及传输装置，用于在基板的输送的连续路径。传输具有沿其上躺有其下侧的硅晶片轧制线下输送辊。输送装置包括上输送辊和超过上在基片上，其中所述上输送辊对的上部进给轴单独的，分离各个轧辊并排的上表面上的植物中的下输送辊，并与彼此非常小的距离。在上输送轴的各个辊子的存储有相对于传送轴的径向方向上的单辊的移动性的径向间隙，因此一种适应基板的不同的厚度。有驱动装置，用于提供每个单独的辊。

6. 发明申请

WO2009109317A2 GASBRENNER-MODUL FÜR EIN GASKOCHFELD SOWIE GASKOCHFELD 审中-公开
标题翻译：燃气燃烧器模块用于燃气灶和燃气灶
公开(公告)号：WO2009109317A2
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：PCT/EP2009/001315
申请日：2009-02-25
申请人： E.G.O. ELEKTRO-GERÄTEBAU GMBH , DORWARTH, Ralf , SCHILLING, Wilfried
发明人： DORWARTH, Ralf , SCHILLING, Wilfried
IPC分类号： F23D14/06 , F24C3/08
CPC分类号： F23D14/06 , F23K2900/05001 , F23N2035/12 , F24C3/126
摘要： Ein Gasbrenner-Modul (11) für ein Gaskochfeld (30) weist einen Gasbrenner (13) mit Zünd- und Überwachungselektrode (24) auf sowie eine Zünd- und Steuerelektronik (27), eine Flammenüberwachung (24) und ein Gasventil. Als tragendes Element des Gasbrenner-Moduls (11 ) ist ein Brennerfuß (15) nach Art eines Sockels vorgesehen. Diese Teile des Gasbrenner-Moduls (11 ) sind zu einer Baueinheit zusammengefasst und derart miteinander mechanisch verbunden, dass sie eine eigenständig handhabbare Baueinheit bilden.
摘要翻译：一种用于燃气灶台（30）一种气体燃烧器组件（11）包括气体燃烧器（13）与点火和监测电极（24）和点火和控制电子装置（27），火焰监控（24）和气体阀。作为气体燃烧器模块（11）的支撑元件，一个燃烧器基部（15）的插座的方式设置。气体燃烧器模块（11）的这些部分组合以形成一个结构单元和机械地连接到彼此，使得它们形成一个可独立操作的单元。

7. 发明申请

WO2010066693A1 VERFAHREN ZUR BEARBEITUNG DER OBERFLÄCHE EINES WAFERS ZUR HERSTELLUNG EINER SOLARZELLE UND WAFER 审中-公开
标题翻译：步骤用来处理晶片的表面上是对制造太阳能电池和硅片
公开(公告)号：WO2010066693A1
公开(公告)日：2010-06-17
申请号：PCT/EP2009/066556
申请日：2009-12-07
申请人： GEBR. SCHMID GMBH & CO. , HABERMANN, Dirk
发明人： HABERMANN, Dirk
IPC分类号： H01L31/18
CPC分类号： H01L31/186 , C25D7/126 , H01L31/02168 , H01L31/022425 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： Bei einem Verfahren zur Behandlung der Oberfläche eines Wafers (11) zur Herstellung einer Solarzelle, auf den in einem dem Verfahren vorausgehenden Schritt eine Antireflex- und Passivierungsschicht (16) auf eine p-dotierte Schicht (14) aufgebracht worden ist, wird vor einer nachfolgenden Metallisierung auf der Oberfläche des Wafers zur Herstellung von Kontakten für die Solarzelle die Oberfläche in einem Bearbeitungsschritt behandelt. Dies dient zur Passivierung bzw. zum Entfernen der p-dotierten Schicht (14) im Bereich von Störungen (18) wie Kratzern, Defektstellen, Pinholes und inhomogenen Bereichen in der Antireflex- und Passivierungsschicht (16). So können Metallabscheidungen an diesen Störungen vermieden werden.
摘要翻译：在用于治疗的制造上的方法中的上述太阳能电池的步骤的防反射和钝化层的晶片（11）的表面的方法（16）已被施加到p掺杂层（14），先于随后的金属化在晶片的表面上的用于制造太阳能电池的接触处理，在一个处理步骤中的表面。这用于钝化和用于除去干扰（18）的区域中的p型掺杂层（14），如划痕，缺陷，针孔和非均匀区在防反射和钝化层（16）。所以金属矿床可在这些疾病是可以避免的。

8. 发明申请

WO2002061933A1 ELEKTRISCHE SCHALTUNGSANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：电路
公开(公告)号：WO2002061933A1
公开(公告)日：2002-08-08
申请号：PCT/EP2002/000876
申请日：2002-01-29
申请人： E.G.O. CONTROL SYSTEMS GMBH & CO. KG , BAYER, Ewald , BECK, Walter
发明人： BAYER, Ewald , BECK, Walter
IPC分类号： H02M3/335
CPC分类号： H02M3/33507 , H02H7/1227 , H02M3/33523
摘要： Durch die Erfindung kann beispielhaft eine Schaltungsanordnung (11) geschaffen werden, die folgende Merkmale aufweist:Ein Schaltnetzteil mit einem Übertrager (12), ein Gleichrichterteil mit anliegender Eingangswechselspannung, ein Schaltregel-IC (13), einen ersten Regelkreis (15) mit einem ersten Optokoppler (OK1), wobei der erste Regelkreis mit dem Schaltregel-IC (13) verbunden ist und mittels einer Zener-Diode (ZD1) eine bestimmte Arbeitsspannung einstellt, eine Überwachungsschaltung (17) mit einem zweiten Optokoppler (OK2) und einer Einrichtung (R2, ZD2) zur Detektierung eines Spannungsgrenzwertes aufweist. Die Überwachungsschaltung ist parallel zu dem ersten Regelkreis geschaltet und davon getrennt angesteuert; außerdem ist sie an das Schaltregel-IC (13) angeschlossen und bei einem von dem ersten Regelkreis durch einen Fehlerfall erzeugten Überschreiten der Arbeitsspannung über einen bestimmten Spannungsgrenzwert schaltet die Überwachungsschaltung den ersten Regelkreis über einen Anschluss (BP) am Schaltregel-IC ab. Als Vorteil ergibt sich hier vor allem, dass durch den fehlerhaften ersten Regelkreis keine Beschädigung von Bauteilen mehr durch Überspannung erfolgen kann.
摘要翻译：本发明可以通过一个电路装置（11）来例示提供了具有以下特征：一个变压器（12），与所述的输入交流电压的整流器部分，一个开关调节器IC（13），一个第一控制电路（15）的开关电源，其具有第一光耦合器（OK1），其中所述第一控制电路到开关调节器IC（13）由一个齐纳二极管（ZD1）连接设置的预定操作电压，具有第二光耦合器（OK2）监控电路（17），以及装置（R2 ，ZD2），用于检测一个电压极限值。所述监控电路连接在与所述第一控制电路并联以及它们的单独控制; 它也被连接到开关调节器IC（13），并在由第一控制电路所产生的信号因故障超过了给定阈值电压的电压，监控电路通过从所述开关调节器IC上的端子（BP）切换所述第一控制电路。作为优点，上面有所有可以通过浪涌来实现由所述故障第一环路到部件无损坏更多。

9. 发明申请

WO2002061915A1 ELEKTRISCHE SCHALTUNGSANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：电路
公开(公告)号：WO2002061915A1
公开(公告)日：2002-08-08
申请号：PCT/EP2002/000875
申请日：2002-01-29
申请人： E.G.O. CONTROL SYSTEMS GMBH & CO. KG , BAYER, Ewald
发明人： BAYER, Ewald
IPC分类号： H02J7/02
CPC分类号： H02M3/33523
摘要： Durch die Erfindung kann beispielhaft eine Schaltungsanordnung (11) geschaffen werden, die folgende Merkmale aufweist: Ein Schaltnetzteil mit einem Übertrager (13), ein Gleichrichterteil mit anliegender Eingangswechselspannung, ein Schaltregel-IC (14), einen ersten Regelkreis (15) mit einem ersten Optokoppler (OK1), wobei der erste Regelkreis mit dem Schaltregel-IC (14) verbunden ist und mittels einer Zener-Diode (ZD1) eine bestimmte Arbeitsspannung einstellt, eine Überwachungsschaltung (12) mit einer Zener-Diode (ZD2) und einem Thyristor (T) zur Detektierung eines Spannungsgrenzwertes. Die Überwachungsschaltung ist parallel zu der Primärseite des Übertragers (13) geschaltet und wird von der Rückschlagspannung ausgelöst. Die Überwachungsschaltung ist auch an das Schaltregel-IC (14) angeschlossen und bei einem von dem ersten Regelkreis durch einen Fehlerfall erzeugten Überschreiten der Arbeitsspannung über einen bestimmten Spannungsgrenzwert schaltet die Überwachungsschaltung das Schaltregel-IC ab. Als Vorteil ergibt sich hier vor allem, dass durch den fehlerhaften ersten Regelkreis keine Beschädigung von Bauteilen mehr durch Überspannung erfolgen kann.
摘要翻译：本发明可以通过一个电路装置（11）来例示提供了具有以下特征：一个变压器（13），与所述的输入交流电压的整流器部分，一个开关调节器IC（14），一个第一控制电路（15）的开关电源，其具有第一光耦合器（OK1），其中所述第一控制电路到开关调节器IC（14）由一个齐纳二极管（ZD1）连接设置的预定操作电压，监视电路（12）与齐纳二极管（ZD2）和晶闸管（ T）用于检测电压限值。监控电路并联连接到变压器（13）的初级侧，并通过反冲电压触发。监控电路还连接到开关调节器IC（14），并在由第一控制电路所产生的信号因故障超过了给定阈值电压的电压，监控电路断开开关调节器IC。作为优点，上面有所有可以通过浪涌来实现由所述故障第一环路到部件无损坏更多。

10. 发明申请

WO2010028825A2 VERFAHREN ZUR BEHANDLUNG VON SUBSTRATEN, SUBSTRAT UND BEHANDLUNGSEINRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS 审中-公开
标题翻译：法的基底，底物和治疗设备治疗的实施过程
公开(公告)号：WO2010028825A2
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：PCT/EP2009/006566
申请日：2009-09-10
申请人： GEBR. SCHMID GMBH & CO. , HABERMANN, Dirk
发明人： HABERMANN, Dirk
IPC分类号： H01L31/18
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67005 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67207 , H01L31/1804 , Y02P70/521
摘要： Bei einem Verfahren zur Behandlung von Substraten (13) für Solarzellen aus Silizium werden nach mehrfachem Ätzen die Substrate mit Dl- Wasser gereinigt (18). Anschließend werden die Substrate (13) in Trockenstationen (22, 25) getrocknet und erwärmt. Danach werden die erwärmten Substrate (13) in einer Oxidationsstation (30) mit Oxidationsgas (34) mit einem Ozon-Anteil oxidiert.
摘要翻译：在用于治疗用于从硅太阳能电池基板（13）的方法，该基板清洗用多个蚀刻后DI水（18）。接着，将基板（13）的干燥站（22，25）干燥和加热。此后，在氧化站（30）与氧化性气体（34）加热的基板（13）被氧化具有臭氧含量。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式