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1. 发明申请

WO2018015469A1 DRUCKTINTE, VORZUGSWEISE 3D-DRUCKTINTE, BRILLENGLAS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES BRILLENGLASES 审中-公开
标题翻译：打印垫，优选3D打印垫，眼玻璃和生产眼镜的方法
公开(公告)号：WO2018015469A1
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：PCT/EP2017/068299
申请日：2017-07-20
申请人： CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH
发明人： GLÖGE, Thomas , UHL, Eberhard , WEINREICH, Manuela , HAIDL, Markus , HUGENBERG, Norbert
IPC分类号： G02C7/00 , C09D11/101 , B29C67/00 , C09D11/30 , B29D11/00
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Drucktinte, vorzugsweise 3D-Drucktinte, wobei die Drucktinte wenigstens eine strahlungshärtbare Komponente und optional wenigstens ein Farbmittel umfasst und die strahlungshärtbare Komponente wenigstens ein Monomer aus der Gruppe bestehend aus (Meth)acrylatmonomeren, Epoxymonomeren, Vinylmonomeren und Allylmonomeren umfasst. Die Erfindung betrifft außerdem die Verwendung einer Drucktinte, vorzugsweise 3 D-Drucktinte, zur Herstellung eines Brillenglases. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Brillenglas umfassend wenigstens eine färb- und/oder effektgebende Lage, wobei das Brillenglas erhältlich ist durch einheitenweise Anordnung wenigstens eines Volumenelements einer Drucktinte, vorzugsweise 3D-Drucktinte, umfassend wenigstens eine strahlungshärtbare Komponente und die färb- und/oder effektgebende Lage wenigstens ein Volumenelement einer Drucktinte mit wenigstens einem Farbmittel umfasst.
摘要翻译：
本发明涉及一种印刷油墨，优选3D-印刷油墨，印刷油墨是可辐射BEAR至少;包括固化组分，和任选的至少一种着色剂和辐射BEAR固化性组分，至少一种单体选自以下组成的组中选择的（甲基）丙烯酸酯单体，环氧单体，乙烯基单体和烯丙基单体。本发明还涉及印刷油墨，优选3-D印刷油墨用于制造眼镜镜片的用途。此外，本发明涉及一种眼镜镜片，包括至少一个F＆AUML; Rb和/或作用层，其中，所述眼镜镜片获得BEAR是ltlich由印刷油墨中的至少一个体积元素的亚基逐布置中，优选三维印刷油墨，其包含至少一种可辐射BEAR固化性成分和F＆AUML ; Rb和/或作用层，其包括至少一种着色剂包括印刷油墨中的至少一个体积元素。

2. 发明申请

WO2017198286A1 MOUNTING ARRANGEMENT FOR AN OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：光学成像装置的安装布置
公开(公告)号：WO2017198286A1
公开(公告)日：2017-11-23
申请号：PCT/EP2016/060970
申请日：2016-05-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHAFFER, Dirk , PROCHNAU, Jens
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B7/181 , G02B7/182 , G03F7/70825
摘要： There is provided a connection arrangement (109) for connecting a component (111), in particular, an optical component, of an optical imaging arrangement (101 ) to a support unit (112) of a support structure (102.1), comprising a connecting element unit (110). The connecting element unit (110) has a support interface end (110.1) with support interface section (110.3) and a component interface end (110.2) with a component interface section (110.4). The support interface section (110.3) is configured to form a support interface for mechanical connection to the support unit (112), while the component interface section (110.4) is configured to form a component interface for mechanical connection to the component (111). The connecting element unit (110) defines a force flow path between the support interface section (110.3) and the component interface section (110.4), wherein support forces supporting the component (111) flow along the force flow path when the component (111) is supported by the support unit (112) via the connecting element unit (110). At least one parasitic load compensation unit (114) is located in a vicinity of the component interface section (110.4) and external to the force flow path, and the parasitic load compensation unit (114) is configured to reduce and/or counteract thermal expansion induced parasitic loads introduced in at least one parasitic load direction into the component (111) as a result of thermal expansion of the connecting element unit (110).
摘要翻译：提供了用于将光学成像装置（101）的组件（111），特别是光学组件连接到支撑件的支撑单元（112）的连接装置（109）结构（102.1），包括连接元件单元（110）。连接元件单元（110）具有带有支撑接口部分（110.3）的支撑接口端（110.1）和具有部件接口部分（110.4）的部件接口端（110.2）。支撑接口部分（110.3）被配置为形成用于机械连接到支撑单元（112）的支撑接口，而部件接口部分（110.4）被配置为形成用于机械连接到部件（111）的部件接口。连接元件单元（110）在支撑界面部分（110.3）和部件界面部分（110.4）之间限定了力流动路径，其中支撑部件（111）的支撑力在部件（111）沿着力流动路径流动时，由支撑单元（112）经由连接元件单元（110）支撑。至少一个寄生负载补偿单元（114）位于部件接口部分（110.4）的附近并且在力流动路径的外部，并且寄生负载补偿单元（114）被配置为减少和/或抵消热膨胀作为连接元件单元（110）的热膨胀的结果，在至少一个寄生负载方向上引入到元件（111）中的感应寄生负载。

3. 发明申请

WO2018114386A1 HERSTELLUNGSSYSTEM FÜR BRILLENGLÄSER 审中-公开
公开(公告)号：WO2018114386A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/EP2017/081972
申请日：2017-12-08
申请人： CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH
发明人： MESCHENMOSER, Ralf , SCHULZ, Arne , KLORA, Dennis
IPC分类号： B65G37/02 , B24B13/00 , B24B27/00 , B65G29/00 , B65G35/06 , B65G47/53
摘要： Die Erfindung betrifft ein Herstellungssystem (100) für Brillengläser aus Brillenglasrohlingen mit einer linken äußeren Transportspur (101), mehreren linksseitig neben der linken äußeren Transportspur (101) angeordneten linken Prozesseinrichtungen (121, 123, 125, 127, 129, 131, 133, 135, 137, 139), einer rechten äußeren Transportspur (103), einer zwischen der linken äußeren Transportspur (101) und der rechten äußeren Transportspur (103) angeordneten mittleren Transportspur (102), wobei die Transportrichtung (101a) der linken äußeren Transportspur (101) und die Transportrichtung (103a) der rechten äußeren Transportspur (103) identisch sind und die Transportrichtung (102a) der mittleren Transportspur (102) entgegengesetzt zu den Transportrichtungen (101a, 103a) der linken äußeren Transportspur (101) und rechten äußeren Transportspur (103) oder umkehrbar ist.. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass mehrere rechtsseitig neben der rechten äußeren Transportspur (103) angeordnete rechte Prozesseinrichtungen (122, 124, 126, 128, 130, 132, 134, 136, 138) vorhanden sind. Einem durch linke und rechte Prozesseinrichtungen gebildeten Prozesseinrichtungspaaren (121, 122; 123, 124; 125, 126;... 135, 136; 137, 138) ist eine Transfereinrichtung (141, 142, 143,... 146, 147, 148, 149) zugeordnet, welche mehrere Dreh-/Transporteinrichtungen (144a, 144b, 144c,... 144i, 144j, 144k, 144l und 144Za, 144Zb, 144Zc, 144Zd) umfasst. Jede Transportspur (102, 103, 104) umfasst jeweils vier Dreh-/Transporteinrichtungen (144a, 144b, 144c,... 144i, 144j, 144k, 144l und 144Za, 144Zb, 144Zc, 144Zd).

4. 发明申请

WO2012159880A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT 审中-公开
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：WO2012159880A1
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：PCT/EP2012/058484
申请日：2012-05-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , STÜTZLE, Ralf , BIELING, Stig , STICKEL, Franz-Josef
发明人： STÜTZLE, Ralf , BIELING, Stig , STICKEL, Franz-Josef
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075
摘要： The invention relates to an illumination optical unit for EUV microlithography comprising a first optical element having a plurality of first reflective facet elements. Furthermore, the illumination optical unit comprises a second optical element (421) having a plurality of second reflective facet elements (423), wherein the plurality of first reflective facet elements comprises at least 75% of all the reflective facet elements of the first optical element. In this case, each first reflective facet element of the plurality of first reflective facet elements is embodied in such a way that, during the operation of the illumination optical unit, it generates an illuminated region at the location of an assigned second facet element of the plurality of second reflective facet elements. The second reflective facet elements (423) each have a reflective surface and the illuminated regions are in each case smaller than the reflective surface of the assigned second reflective facet element (423). In addition, all of said illuminated regions lie within a maximum of six continuous pairwise disjoint zones (459). Furthermore, there is a circle (457) having a minimum diameter which encloses all of said zones (459), wherein the first and/or second reflective facet elements are embodied in such a way that the ratio of the area content of the circle (457) to the sum of the area contents of the zones (459) is greater than 2.5, in particular greater than 4.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV微光刻的照明光学单元，其包括具有多个第一反射小面元件的第一光学元件。此外，照明光学单元包括具有多个第二反射小面元件（423）的第二光学元件（421），其中多个第一反射小面元件包括第一光学元件的所有反射小面元件的至少75％。在这种情况下，多个第一反射小面元件中的每个第一反射小面元件被实施为使得在照明光学单元的操作期间，其在所分配的第二小面元件的位置处产生照明区域多个第二反射小面元件。第二反射小面元件（423）各自具有反射表面，并且所述照明区域在每种情况下都小于所分配的第二反射小面元件（423）的反射表面。另外，所有所述照明区域都在最多六个连续成对的不相交区域内（459）。此外，存在具有包围所有所述区域（459）的最小直径的圆（457），其中第一和/或第二反射小面元件以如下方式实施：圆的面积含量 457）与区域（459）的面积内容之和大于2.5，特别大于4。

5. 发明申请

WO2012104136A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, METHOD FOR PRODUCING SUCH A MIRROR, PROJECTION LENS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的镜子，用于生产这样的镜子的方法，用于包含这种镜子的微观尺寸的投影镜头和用于包含这样的投影镜头的微结构的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012104136A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/EP2012/050573
申请日：2012-01-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
发明人： MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B17/0657 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a mirror (1a; 1b; 1c; 1d) for the EUV wavelength range having a reflectivity of greater than 40% for at least one angle of incidence of between 0° and 25°, comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement comprises at least one layer subsystem (ASL) consisting of a periodic sequence of at least two periods (PASL) of individual layers (LASL, B, HASL) composed of different materials, and wherein the layer subsystem (ASL) has an oxygen doping of between 10 ppb and 0.1 %, in particular between 50 ppb and 50 ppm. Furthermore, the invention relates to a method for coating a mirror (1a; 1b; 1c: 1d) for the EUV wavelength range, wherein an oxygen partial pressure of greater than 10 -9 mbar, in particular of greater than 10 -7 mbar, is present during the coating of the layer subsystem (ASL) with oxygen doping. Furthermore, the invention relates to a projection lens for micro lithography comprising such a mirror, and to a projection exposure apparatus comprising such a projection lens.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜（1a; 1b; 1c; 1d），其对于至少一个入射角在0°至25°之间的反射率大于40％，包括基底（S）和层布置，其中所述层布置包括由由不同材料组成的单个层（LASL，B，HASL）的至少两个周期（PASL）的周期性序列组成的至少一个层子系统（ASL），并且其中所述层子系统（ASL）的氧掺杂在10ppb和0.1％之间，特别是在50ppb和50ppm之间。此外，本发明涉及一种用于EUV波长范围的用于涂覆反射镜（1a; 1b; 1c：1d）的方法，其中大于10-9毫巴，特别是大于10-7毫巴的氧分压，在具有氧掺杂的层子系统（ASL）的涂覆期间存在。此外，本发明涉及一种包括这种反射镜的微光刻用投影透镜以及包括这种投影透镜的投影曝光装置。

6. 发明申请

WO2018114135A1 SICHERES FÖRDERSYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2018114135A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/EP2017/078871
申请日：2017-11-10
申请人： CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH
发明人： HOFER, Thomas , MESCHENMOSER, Ralf
IPC分类号： B65G47/64
摘要： Die Erfindung betrifft eine Fördervorrichtung (1) für einen Transportbehälter für Brillenlinsen, mit einer Linearfördereinheit (3) zum Fördern des Transportbehälters in einer geradlinigen Richtung (L), einer Dreheinheit zum Drehen (D) der Linearfördereinheit (3, 31), einem eine Ebene (14b) aufweisenden und sich beim Drehen (D) der Linearfördereinheit (3) mit drehenden ersten Gehäuseelement (14) für die Dreheinheit, wobei das sich beim Drehen (D) der Linearfördereinheit (3, 31) mit drehende erste Gehäuseelement (14) eine oder mehrere erste Öffnungen (17a, 17b) aufweist, durch die die Linearfördereinheit (3) die Ebene (14b) durchsetzt und wobei die Linearfördereinheit (3, 31) durch ein oder mehrere Spalte (18) mit zugeordneten Spaltmaßen (18a) von der Ebene (14b) beabstandet ist. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Spaltmaße (18a) sämtlicher Spalte (18) kleiner oder gleich 5 mm sind und dass das erste Gehäuseelement (14) eine Mehrzahl an die Ebene (14b) durchdringende zweite Öffnungen (14a) mit zugeordneten Öffnungsbreiten (14c) aufweist, wobei die Öffnungsbreiten (14c) sämtlicher zweiter Öffnungen (14a) kleiner oder gleich 5 mm sind.

7. 发明申请

WO2013004403A1 OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT WITH VIBRATION DECOUPLED SUPPORT UNITS 审中-公开
标题翻译：光学成像装置与振动解除支持单元
公开(公告)号：WO2013004403A1
公开(公告)日：2013-01-10
申请号：PCT/EP2012/053743
申请日：2012-03-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KWAN, Yim-Bun-Patrick , LARO, Dick Antonius Hendrikus
发明人： KWAN, Yim-Bun-Patrick , LARO, Dick Antonius Hendrikus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/646 , G03F7/7015 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： There is provided an optical imaging arrangement comprising an optical projection system and a support structure system. The optical projection system comprises a group of optical elements configured to transfer, in an exposure process using exposure light along an exposure light path, an image of a pattern of a mask supported by a mask support structure onto a substrate supported by a substrate support structure. The mask support structure and the substrate support structure form a primary source of vibration. The support structure system comprises a base support structure, an optical element support structure and at least one secondary vibration source support structure of a secondary vibration source other than the primary source of vibration. The optical element support structure supports the optical elements. The at least one secondary vibration source support structure supports a secondary vibration source, the secondary vibration source being a source of a secondary vibration disturbance comprising structure borne vibration energy and the secondary vibration source being located internal to the optical imaging arrangement. The base support structure supports the optical element support structure and the secondary vibration source support structure in such a manner that a structural path of the structure borne vibration energy from the secondary vibration source to the optical element support structure only exists through the base support unit.
摘要翻译：提供了一种包括光学投影系统和支撑结构系统的光学成像装置。该光学投影系统包括：一组光学元件，被配置为在曝光过程中使用曝光光沿着曝光光路将由掩模支撑结构支撑的掩模的图案的图像转印到由基板支撑结构支撑的基板上。掩模支撑结构和基板支撑结构形成主要振动源。支撑结构系统包括基座支撑结构，光学元件支撑结构以及除了主要振动源之外的次级振动源的至少一个次级振动源支撑结构。光学元件支撑结构支撑光学元件。所述至少一个次级振动源支撑结构支撑次级振动源，所述次级振动源是包括结构承载的振动能量的次级振动干扰的源，并且所述次级振动源位于所述光学成像装置的内部。基部支撑结构以这样的方式支撑光学元件支撑结构和次级振动源支撑结构，使得结构承载的振动能量从二次振动源到光学元件支撑结构的结构路径仅通过基座支撑单元存在。

8. 发明申请

WO2012163643A1 BEWEGUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS IN EINER MIKROLITHOGRAFISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： AN光学元件的微光刻投射曝光系统MOVEMENT
公开(公告)号：WO2012163643A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/EP2012/058593
申请日：2012-05-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , AUBELE, Karl-Eugen , ULMER, Sven , RIEF, Klaus , JASSMANN, Marco
发明人： AUBELE, Karl-Eugen , ULMER, Sven , RIEF, Klaus , JASSMANN, Marco
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00 , H01L41/04 , H01L41/09 , H02N2/06
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/005 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , H02N2/021 , H02N2/06
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie beinhaltend ein durch einen ersten und einen zweiten Aktuator aktuierbares optisches Element. Die Aktuatoren werden mittels Steuerungsintervallen derart gesteuert, dass zu jedem Zeitpunkt der Steuerung eine gemäß einem vorab wählbaren Parameter α vorgegebene Mindestauslenkbarkeit garantiert ist.
摘要翻译：本发明涉及一种投射曝光系统的用于微光刻，其包括第一和第二致动器aktuierbares光学元件。所述致动器由控制间隔的装置以这样的方式控制，即在任何时间的控制的根据一个预先选择的参数的预定Mindestauslenkbarkeit保证。

9. 发明申请

WO2011120821A1 METHOD FOR OPERATING A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH CORRECTION OF IMAGING ABERRATIONS INDUCED BY THE MASK 审中-公开
标题翻译：投影曝光装置的操作方法，用于校正由MASK引起的成像异常
公开(公告)号：WO2011120821A1
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：PCT/EP2011/054084
申请日：2011-03-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUOFF, Johannes
发明人： RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F7/705 , G03F7/70566 , G03F7/706
摘要： The invention relates to a method for adapting a projection exposure apparatus for microlithography to a mask having structures having different pitches and/or different structure widths in different structure directions, wherein the wavefront aberrations induced by the mask are reduced by a manipulator of the projection exposure apparatus for microlithography.
摘要翻译：本发明涉及一种用于将微光刻的投影曝光装置适应于具有在不同结构方向具有不同间距和/或不同结构宽度的结构的掩模的方法，其中由掩模引起的波前像差由投影曝光的操纵器减小微光刻机。

10. 发明申请

WO2011003676A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的镜像，包含这种镜子的微型计算机的投影目标和包含这种投影目标的微观计算的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2011003676A1
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：PCT/EP2010/057655
申请日：2010-06-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PAUL, Hans-Jochen , BRAUN, Gerhard , MIGURA, Sascha , DODOC, Aurelian , ZACZEK, Christoph
发明人： PAUL, Hans-Jochen , BRAUN, Gerhard , MIGURA, Sascha , DODOC, Aurelian , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a mirror (1a; 1b; 1c) for the EUV wavelength range comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement comprises a plurality of layer subsystems (P", P"") each consisting of a periodic sequence of at least two periods (P 2 , P 3 ) of individual layers, wherein the periods (P 2 , P 3 ) comprise two individual layers composed of different materials for a high refractive index layer (H", H'") and a low refractive index layer (L", L'") and have within each layer subsystem (P", P") a constant thickness (d 2 , d 3 ) that deviates from a thickness of the periods of an adjacent layer subsystem. The mirror is characterized in that the layer subsystem (P") that is second most distant from the substrate (S) has a sequence of the periods (P 2 ) such that the first high refractive Index layer (H'") of the layer subsystem (P"') that is most distant from the substrate (S) directly succeeds the last high refractive index layer (H") of the layer subsystem (P'") that is second most distant from the substrate (S) and/or the layer subsystem (P"") that is most distant from the substrate (S) has a number (N 3 ) of periods (P 3 ) that is greater than the number (N 2 ) of periods (P 2 ) for the layer subsystem (P") that is second most distant from the substrate (S). The invention furthermore relates to a projection objective for microlithography comprising such a mirror ( 1a; 1b; 1c). and to a projection exposure apparatus comprising such a projection objective.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜（1a; 1b; 1c），其包括基板（S）和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统（P“，P”“）每个层的至少两个周期（P2，P3）的周期性序列，其中周期（P2，P3）包括由用于高折射率层（H“，H”“）的不同材料组成的两个单独层，并且低折射率层（L“，L”“），并且在每个层子系统（P”，P“）内具有偏离相邻层子系统的周期的厚度的恒定厚度（d2，d3）因为距离衬底（S）第二最远的层子系统（P“）具有周期（P2）的序列，使得层子系统（P”'的第一高折射率索引层（H“”））最远离衬底（S）直接成为层子系统（P“”）的最后一个高折射率层（H“），距离衬底（S）最远的衬底（S）和/或层子系统（P“”）第二最远的距离（N）的数量（N3）大于数量（ N2）对于距离衬底（S）第二最远的层子系统（P“）的周期（P2）。本发明还涉及包括这种反射镜（1a; 1b; 1c）的用于微光刻的投影物镜。以及包括这种投影物镜的投影曝光装置。

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