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61. 发明申请

WO2007145229A1 シャワープレート及びその製造方法、並びにそのシャワープレートを用いたプラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子装置の製造方法审中-公开
标题翻译：淋浴板，制造淋浴板的方法，使用淋浴板的等离子体处理装置，等离子体处理方法和电子设备制造方法
公开(公告)号：WO2007145229A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/JP2007/061857
申请日：2007-06-13
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 国立大学法人東北大学 , 桶作正広 , 後藤哲也 , 大見忠弘 , 石橋清隆
发明人：桶作正広 , 後藤哲也 , 大見忠弘 , 石橋清隆
IPC分类号： H05H1/46 , C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： B05B1/18 , C23C16/45565 , C23C16/45568 , C23C16/511 , H01J37/3244 , H01J37/32449
摘要：　プラズマの逆流の発生、若しくは縦孔部分でのプラズマ励起用ガスの着火をより完全に防止でき、効率の良いプラズマ励起が可能なシャワープレートを提供する。プラズマ処理装置の処理室１０２に配置され、処理室１０２にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレート１０５において、プラズマ励起用ガスの放出経路となる縦孔１１２に、ガス流通方向に連通した気孔を有する多孔質ガス流通体１１４を装着した。多孔質ガス流通体１１４の連通した気孔によって形成されたガス流通経路における隘路の気孔径を１０μｍ以下とした。
摘要翻译：提供一种能够完全防止在垂直孔部分产生等离子体反向流动或等离子体激发气体点燃的喷淋板，以实现更有效的等离子体激发。在等离子体处理装置的处理室（102）中设置喷淋板（105），在处理室（102）中排出等离子体激发气体，以产生等离子体。具有在气体连通方向连通的孔的多孔气体连通体（114）安装在垂直孔（112）上，作为等离子体激发气体的排出路径。由多孔质气体连通体（114）的连通孔形成的气体连通路径中的溢流路径的孔径为10μm以下。

62. 发明申请

WO2007142192A1 多孔質酸化カルシウム粒状物及び多孔質水酸化カルシウム粒状物审中-公开
标题翻译：多孔氧化钙颗粒和多孔氢氧化钙颗粒
公开(公告)号：WO2007142192A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/JP2007/061295
申请日：2007-06-04
申请人：国立大学法人東北大学 , 大陽日酸株式会社 , 宇部マテリアルズ株式会社 , 大見忠弘 , 石原良夫 , 鈴木克昌 , 迫田薫 , 三隅修 , 渡辺高行
发明人：大見忠弘 , 石原良夫 , 鈴木克昌 , 迫田薫 , 三隅修 , 渡辺高行
IPC分类号： C01F11/02 , B01D53/28 , B01D53/86 , B01J20/04
CPC分类号： C01F11/02 , B01D53/685 , B01D2251/602 , B01D2251/604 , B01D2257/2027 , B01J20/041 , B01J20/28057 , B01J20/28069 , B01J20/28078 , B01J20/28092 , C01F11/04 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , Y10T428/2982
摘要： Disclosed are particulates of calcium oxide and calcium hydroxide which are suitably used for filling a gas fixing unit (32) of a fixation device (3) for a halide gas. Particularly disclosed are those particulates highly reactive with a halide gas or a decomposition product thereof. Specifically disclosed is a porous calcium oxide particulate composed of spherical porous calcium oxide particles, which has a BET specific surface area of not less than 50 m 2 /g. The total pore volume of pores having a diameter of 2-100 nm contained in all the porous particles is within the range of 0.40-0.70 mL/g. Also specifically disclosed is a porous calcium hydroxide particulate composed of spherical porous calcium hydroxide particles, which has a BET specific surface area of not less than 20 m 2 /g. The total pore volume of pores having a diameter of 2-100 nm contained in all the porous particles is within the range of 0.25-0.40 mL/g.
摘要翻译：公开了适合用于填充用于卤化物气体的固定装置（3）的气体固定单元（32）的氧化钙和氢氧化钙的颗粒。特别公开的是那些与卤化物气体或其分解产物高度反应的颗粒。具体公开的是由球形多孔氧化钙颗粒构成的多孔氧化钙颗粒，其BET比表面积不小于50m 2 / g。包含在所有多孔颗粒中的直径为2-100nm的孔的总孔体积在0.40-0.70mL / g的范围内。还具体公开了一种由球形多孔氢氧化钙颗粒构成的多孔氢氧化钙颗粒，其BET比表面积不小于20m 2 / g。包含在所有多孔颗粒中的直径为2-100nm的孔的总孔体积在0.25-0.40mL / g的范围内。

63. 发明申请

WO2007055185A1 シャワープレート及びシャワープレートを用いたプラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：淋浴板和等离子体处理设备使用淋浴板
公开(公告)号：WO2007055185A1
公开(公告)日：2007-05-18
申请号：PCT/JP2006/322136
申请日：2006-11-07
申请人：国立大学法人東北大学 , 東京エレクトロン株式会社 , 大見忠弘 , 松岡孝明
发明人：大見忠弘 , 松岡孝明
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/455 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/45568 , C23C16/45572 , C23C16/45574 , C23C16/511 , H01J37/3244 , H01J37/32449
摘要：　複数の配管で形成されたプラズマ処理用シャワープレート３１であって、配管３１Ａ３は、配管に沿って配置された原料ガスに対し所定の気孔率を有し外側に対して凸状の多孔質材料部材４４と多孔質材料部材４４に対向して配置され多孔質材料部材４４とともに原料ガス流路４３を形成する金属部材４１とで形成されているプラズマ処理用シャワープレートが提供される。拡がりを持って原料ガスを放出できるノズル構造を実現できる。
摘要翻译：本发明提供一种用于等离子体处理的喷淋板（31），其由多个管道形成。淋浴板包括管道（31A3），其包括多孔材料构件（44），该多孔材料构件（44）沿着管道设置并且具有预定的原料气体的孔隙率并且凸出到外部;金属构件（41）与多孔材料构件（44）相对并且与多孔材料构件（44）一起构成原料气体流动通道（43）。根据上述结构，可以实现能够以发散形式释放原料气体的喷嘴结构。

64. 发明申请

WO2007034790A1 成膜装置、蒸発治具、及び、測定方法审中-公开
标题翻译：电影成型设备，蒸发喷射和测量方法
公开(公告)号：WO2007034790A1
公开(公告)日：2007-03-29
申请号：PCT/JP2006/318530
申请日：2006-09-19
申请人：国立大学法人東北大学 , 東京エレクトロン株式会社 , 株式会社豊田自動織機 , 大見忠弘 , 松岡孝明 , 中山尚三 , 伊藤日藝
发明人：大見忠弘 , 松岡孝明 , 中山尚三 , 伊藤日藝
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/12
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/246
摘要：　薄膜、特に、有機ＥＬ膜を長時間に亘って均一に成膜できる蒸発治具及び蒸発治具を含む成膜装置を提供する。　蒸発治具は、底面と当該底面から立設する側面とを備え、側面の内部に開口された原料収容空間を規定する蒸発皿と、当該原料収容空間を複数の部分空間に分割する仕切り板とによって構成されている。また、仕切り板には、前記複数の部分空間が前記蒸発皿の底面側で連通するような高さを有する係止片が設けられている。
摘要翻译：提供了一种蒸发夹具，通过该蒸发夹具可以长时间均匀地形成薄膜，特别是有机EL膜，以及包括蒸发夹具的成膜设备。蒸发夹具设置有蒸发盘，其具有布置成从底平面放置的底平面和侧平面，用于限定在侧平面内开口的材料容纳空间; 以及用于将包含空间的材料分隔成多个部分空间的分隔板。分隔板设置有具有允许部分空间在蒸发盘的底平面侧上连续的高度的锁定件。

65. 发明申请

WO2007034541A1 減圧蒸着装置及び減圧蒸着方法审中-公开
标题翻译：真空沉积装置和真空沉积方法
公开(公告)号：WO2007034541A1
公开(公告)日：2007-03-29
申请号：PCT/JP2005/017339
申请日：2005-09-21
申请人：大見忠弘 , 寺本章伸
发明人：大見忠弘 , 寺本章伸
IPC分类号： C23C14/00 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/564
摘要：　高集積度及び超微細加工が要求される半導体装置等に使用される蒸着薄膜では、当該蒸着薄膜に対する汚染物質、特に、有機物の吸着が問題となっている。　チャンバ内のガス圧力を粘性流域に保った場合、分子流域に保った場合に比較して、有機物の吸着が著しく低くなる現象を見出し、この現象に基づいて、蒸着薄膜形成時には、ガス圧力を分子流域にし、非蒸着時には、ガス圧力を粘性流域にするように、ガス圧力を制御することにより、有機物汚染の少なく蒸着薄膜を形成することができる。
摘要翻译：本发明提供一种真空沉积设备和真空沉积方法，其可以解决例如在满足高度集成和微细加工要求的半导体器件中使用的沉积薄膜所涉及的问题，污染物，特别是有机物材料被吸附在沉积的薄膜上。已经发现一种现象，其中当室内的气体压力保持在粘性流动区域中时，有机材料的吸附显着低于气体压力保持在分子流动区域中的情况。基于这种现象，可以通过以形成沉积薄膜的气体压力使气体压力达到分子流动区域的方式控制气体压力来形成不含有机材料的显着污染的沉积薄膜，以及在非沉积期间气体压力被带到粘性流动区域。

66. 发明申请

WO2007032052A1 樹脂成形機および樹脂成形方法审中-公开
标题翻译：树脂成型机和树脂成型工艺
公开(公告)号：WO2007032052A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/JP2005/016734
申请日：2005-09-12
申请人：大見忠弘
发明人：大見忠弘
IPC分类号： B29C45/26 , B29C45/24
CPC分类号： B29C45/1701 , B29C45/0001 , B29K2105/0094
摘要：　有害な有機物分子を放出しないプラスチック製品を製造するためには、従来は樹脂を高温にできないが故に射出または押し出し圧力を高くしなければならず、樹脂成形機が大型、大重量、高消費電力になっていた。　酸化分解および触媒効果による分解を抑制する手段を採用することにより、溶融プラスチックは高い温度まで分解・解離を起こさず、極めて粘性の低い溶融プラスチックになる。よって、極めて僅かな射出または押し出し圧力で成形を実行することができ、樹脂成形機を小型軽量にすることができる。
摘要翻译：不释放有害有机分子的塑料制品的常规生产需要高的注射或挤出压力，以避免树脂加热到高温，从而导致使用具有高功耗的大型和重型树脂成型机。使用抑制氧化分解和催化分解的方法能够形成具有极低粘度的熔融塑料，即使在高温下也不会分解或解离，从而树脂的模塑可以以非常低的注射或挤出压力进行实现成型机的小型化和轻量化。

67. 发明申请

WO2007032051A1 重合体の製造方法及び重合体材料审中-公开
标题翻译：生产聚合物和聚合物材料的方法
公开(公告)号：WO2007032051A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/JP2005/016726
申请日：2005-09-12
申请人：大見忠弘 , 棚橋直樹
发明人：大見忠弘 , 棚橋直樹
IPC分类号： C08G85/00 , C08F2/46 , G02B6/00 , G02B6/12
CPC分类号： C08J3/28 , G02B6/02033 , G02B2006/12069
摘要：　残留未反応モノマー成分が極めて少ない重合体の製造方法および重合体を用いた材料を提供するために、残留未反応モノマーを含有する重合体を、酸素・水分のない雰囲気下で、メガソニックを直接照射することで、重合を完結させる。
摘要翻译：制备聚合物的方法，其中残留的未反应单体组分的比例极低; 和基于聚合物的材料。在不含氧/水分的气氛中，将含有残余未反应单体的聚合物进行直接兆声照射，从而完成聚合。

68. 发明申请

WO2007029558A1 成膜用材料及び成膜用材料の推定方法审中-公开
标题翻译：薄膜材料和薄膜材料预测方法
公开(公告)号：WO2007029558A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/JP2006/316925
申请日：2006-08-29
申请人：国立大学法人東北大学 , 株式会社豊田自動織機 , 大見忠弘 , 中山尚三 , 伊藤日藝
发明人：大見忠弘 , 中山尚三 , 伊藤日藝
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C16/44 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/243 , C23C14/56 , C23C14/562 , H01L51/0008 , H01L51/56
摘要：有機ＥＬ原料等の成膜用材料を推定する方法において、蒸発量Ｖ（％）が、　　　Ｖ＝（Ｋｏ／Ｐ）×ｅ－Ｅａ／ｋＴ　　　（但し、Ｋｏは定数（％・Ｔｏｒｒ）、Ｐは圧力（Ｔｏｒｒ）、Ｅａは活性化エネルギー（ｅＶ）、ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度）であらわされる成膜用材料を、前記定数Ｋｏの値と前記活性化エネルギーＥａとの値によって推定する。
摘要翻译：公开了一种用于预测有机EL原料的薄膜材料的方法。在该方法中，可以基于常数（Ko）和活化能（Ea）的值来预测具有由下式表示的蒸发速率（V（％））的膜材料。其中，Ko表示常数（％·Torr），P表示压力（Torr），Ea表示活化能（eV），k表示a（k）/ 玻尔兹曼常数，T表示绝对温度。

69. 发明申请

WO2007023703A1 液晶ディスプレイ及び導光板审中-公开
标题翻译：液晶显示屏和光导板
公开(公告)号：WO2007023703A1
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：PCT/JP2006/315998
申请日：2006-08-14
申请人：国立大学法人東北大学 , 株式会社クラレ , シャープ株式会社 , 大見忠弘 , 白井泰雪 , 武久究 , 松本光郎 , 猪狩徳夫 , 佐藤寿昭 , 大西伊久雄 , 中里悦男 , 山田祐一郎 , 四宮時彦 , 石住隆司 , 味地悠作
发明人：大見忠弘 , 白井泰雪 , 武久究 , 松本光郎 , 猪狩徳夫 , 佐藤寿昭 , 大西伊久雄 , 中里悦男 , 山田祐一郎 , 四宮時彦 , 石住隆司 , 味地悠作
IPC分类号： G02F1/13357 , F21V8/00 , F21Y103/00
CPC分类号： G02B6/0046 , G02B6/002 , G02B6/0053 , G02F1/133605 , G02F1/133611 , G02F1/133615
摘要：　大型液晶ディスプレイ１００は、液晶パネル１の裏面側に配された導光板３を有している。導光板３の表面は平面で、裏面は凹曲面となっている。また、熱陰極型蛍光ランプ２ａ，２ｂに対向する導光板３の上下端面は、これらランプに向かって突き出した凸状になっている。蛍光ランプからの白色光は、直接あるいはリフレクター４ａ，４ｂに反射されて導光板の上下端面に入射し、導光板の内部をその表裏面で反射されながら進む。導光板の表面では、導光部５により白色光の一部が液晶パネル１の裏面へと照射される。
摘要翻译：大型液晶显示器（100）包括布置在液晶面板（1）背面的导光板（3）。导光板（3）的前表面是平坦的，而其后表面是凹形的。分别面对热阴极荧光灯（2a，2b）的导光板（3）的上端面和下端面具有向各个灯突出的凸形。来自荧光灯的白光直接入射到导光板的上端面和下端面，或者被反射器（4a，4b）反射，并在导光板内传播，同时由导光板的前后表面反射导光板。在导光板的前表面处，白光的一部分通过导光部（5）朝向液晶面板（1）的背面侧。

70. 发明申请

WO2006134899A1 薄膜トランジスタ、配線板、及び電子装置の製造方法审中-公开
标题翻译：薄膜晶体管，接线板和电子设备制造方法
公开(公告)号：WO2006134899A1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/JP2006/311808
申请日：2006-06-13
申请人：国立大学法人東北大学 , 日本ゼオン株式会社 , 大見忠弘 , 森本明大 , 藤村誠 , 杉谷耕一
发明人：大見忠弘 , 森本明大 , 藤村誠 , 杉谷耕一
IPC分类号： H01L21/336 , G02F1/1343 , G02F1/1368 , H01L29/786
CPC分类号： H01L29/4908 , G02F1/1368 , H01L27/124 , H01L27/1244
摘要：　基板と電極又は配線との密着性、及び得られた基板の表面の平坦性のよい薄膜トランジスタを提供することを目的とする。　薄膜トランジスタのゲート電極或いはゲート配線を、下地密着層、触媒層、配線金属層、配線金属拡散抑止層の順に積層して４層構造にすることによって、密着性及び平坦性を改善した。
摘要翻译：一种薄膜晶体管，其在基板和电极或布线之间具有优异的粘附性，并且所获得的基板的表面具有优异的平面性。通过以四层结构形成薄膜晶体管的栅极电极或栅极布线，其中基底粘合剂层，催化剂层，布线金属层和布线金属扩散抑制层依次堆叠，从而改善了粘附性和平坦性。

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