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41. 发明申请

WO2013047688A1 静電レンズおよびそれを用いた荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：静电镜和充电颗粒光束装置使用相同
公开(公告)号：WO2013047688A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/JP2012/074947
申请日：2012-09-27
申请人：京セラ株式会社
发明人：野口　幸雄
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/28 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/18 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/03 , H01J2237/1205
摘要：本発明は、電子線の照射精度を高めつつ、スループットを高める要求に応える静電レンズを提供するものである。本発明の一形態に係る静電レンズ（４）は、電子線（Ｅ）がそれぞれ通過する複数の第１スルーホール（Ｔ１）が形成された絶縁板（１０）と、複数の第１スルーホール（Ｔ１）それぞれの内壁に形成された複数の電極（１１）と、絶縁板（１０）上に形成され、電極（１１）それぞれに電気的に接続した複数の配線（１２）とを有する基板（６）を備え、複数の電極（１１）は、電気的に互いに独立している。
摘要翻译：本发明提供一种静电透镜，其可以支持在增加辐射电子束的精度的同时提高吞吐量的请求。静电透镜（4）的一个实施例设置有：具有绝缘板（10）的基板（6），多个通过电子束（E）通过的多个第一通孔（T1）形成于该绝缘板 ; 形成在所述多个第一通孔（T1）的每一个的内壁上的多个电极（11）。以及形成在绝缘板（10）上并电连接到每个电极（11）的多个布线（12）。多个电极（11）彼此电独立。

42. 发明申请

WO2012176574A1 ELECTRODE FOR A CHARGED PARTICLE BEAM LENS 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束的电极
公开(公告)号：WO2012176574A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：PCT/JP2012/063235
申请日：2012-05-17
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA , NOMURA, Kazushi
发明人： NOMURA, Kazushi
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177
摘要： An electrode (1) to be used for an electrostatic charged particle beam lens includes at least one through hole (4). The through hole (4) includes a first region (α) having a first opening contour and a second region (β) having a second opening contour to be positioned on an upstream side of a charged particle beam with respect to the first region (α). The first opening contour is included in the second opening contour when viewed in a direction of an optical axis (3). It is possible to prevent a scattered substance, an evaporated substance, or the like from an object irradiated by the charged particle beam from adhering to an important part of the lens, and to decrease a space between the lens and the object.
摘要翻译：用于静电带电粒子束透镜的电极（1）包括至少一个通孔（4）。通孔（4）包括具有第一开口轮廓的第一区域（a）和具有第二开口轮廓的第二区域（β），该第二开口轮廓相对于第一区域位于带电粒子束的上游侧（a ）。当沿着光轴（3）的方向观察时，第一开口轮廓包括在第二开口轮廓中。可以防止被带电粒子束照射的物体的散射物质，蒸发物质等粘附到透镜的重要部分，并且减小透镜和物体之间的空间。

43. 发明申请

WO2012124324A1 CHARGED PARTICLE BEAM LENS AND EXPOSURE APPARATUS USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束和曝光装置使用它
公开(公告)号：WO2012124324A1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：PCT/JP2012/001781
申请日：2012-03-14
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA , KATO, Takahisa , SETOMOTO, Yutaka
发明人： KATO, Takahisa , SETOMOTO, Yutaka
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/18 , H01J37/3177 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205 , H01J2237/1207
摘要： An electrostatic charged particle beam lens includes an electrode including a flat plate having a first surface having a normal line extending in a direction of an optical axis and a second surface opposite to the first surface, the electrode having a through-hole extending from the first surface to the second surface. When an opening cross section is defined as a cross section of the through-hole taken along a plane perpendicular to the normal line and a representative diameter is defined as a diameter of a circle obtained by performing regression analysis of the opening cross section, a representative diameter of the opening cross section in a first region that is on the first surface side and a representative diameter of the opening cross section in a second region that is on the second surface side are each larger than a representative diameter of the opening cross section in a third region that is a region in the electrode disposed between the first surface and the second surface.
摘要翻译：静电带电粒子束透镜包括：电极，其包括平板，该平板具有沿光轴方向延伸的法线的第一表面和与该第一表面相对的第二表面，该电极具有从第一表面延伸的通孔表面到第二表面。当开口横截面被定义为沿着垂直于法线的平面截取的通孔的横截面，并且代表性直径被定义为通过对开口横截面进行回归分析而获得的圆的直径时，代表在第一表面侧的第一区域中的开口横截面的直径和位于第二表面侧的第二区域中的开口横截面的代表性直径分别大于开口横截面的代表性直径第三区域，其是设置在第一表面和第二表面之间的电极中的区域。

44. 发明申请

WO2012074292A3 METHOD FOR BLANKING A PARTICLE BEAM IN A PARTICLE BEAM COLUMN 审中-公开
标题翻译：用于抛弃颗粒束柱中的粒子束的方法
公开(公告)号：WO2012074292A3
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：PCT/KR2011009218
申请日：2011-11-30
申请人： CEBT CO LTD , KIM HO SEOB
发明人： KIM HO SEOB
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/12
CPC分类号： H01J37/045
摘要： The present invention relates to a method for blanking a particle beam in a particle beam column, and more specifically relates to a method for stopping a particle beam from scanning towards a sample in a particle beam column. In the present invention, beam blanking is effected by applying a blanking voltage to an electrode of an electrostatic electron lens in an existing particle beam column, and the invention can best be used in low-energy ultra-small-scale particle beam columns.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在粒子束柱中消隐粒子束的方法，并且更具体地涉及一种用于阻止粒子束朝向粒子束柱中的样本进行扫描的方法。在本发明中，通过在现有的粒子束柱中对静电电子透镜的电极施加消隐电压来进行电子束消隐，并且本发明可以最好地用于低能量超小型粒子束柱。

45. 发明申请

WO2012091908A3 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING AN ELECTROSTATIC LENS ABOUT A CENTRAL RAY TRAJECTORY OF AN ION BEAM 审中-公开
公开(公告)号：WO2012091908A3
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：PCT/US2011/064413
申请日：2011-12-12
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , RADOVANOV, Svetlana , KELLERMAN, Peter, L. , SINCLAIR, Frank , LINDBERG, Robert, C.
发明人： RADOVANOV, Svetlana , KELLERMAN, Peter, L. , SINCLAIR, Frank , LINDBERG, Robert, C.
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/15 , H01J37/317
摘要： A method of controlling deflection of a charged particle beam in an electrostatic lens (700) includes establishing a symmetrical electrostatic lens configuration comprising a plurality of electrodes (714, 716) disposed at unadjusted positions (L1) that are symmetric with respect to the central ray trajectory (702) with applied unadjusted voltages that create fields symmetric with respect to the central ray trajectory. A symmetric electric field is calculated corresponding to the set of unadjusted voltages. A plurality of lower electrodes (716) is arranged at adjusted positions (L2) that are asymmetric with respect to the central ray trajectory. A set of adjusted voltages is obtained for the plurality of lower electrodes, wherein the set of adjusted voltages corresponds to a set of respective potentials of the symmetric electric field at respective adjusted asymmetric positions. The adjusted voltages are applied to the asymmetric lens configuration when the charged particle beam passes therethrough.

46. 发明申请

WO2012091908A2 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING AN ELECTROSTATIC LENS ABOUT A CENTRAL RAY TRAJECTORY OF AN ION BEAM 审中-公开
标题翻译：用于控制静电镜的方法和装置关于离子束的中心射线
公开(公告)号：WO2012091908A2
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：PCT/US2011064413
申请日：2011-12-12
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT , RADOVANOV SVETLANA , KELLERMAN PETER L , SINCLAIR FRANK , LINDBERG ROBERT C
发明人： RADOVANOV SVETLANA , KELLERMAN PETER L , SINCLAIR FRANK , LINDBERG ROBERT C
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/15 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/15 , H01J37/3171 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： A method of controlling deflection of a charged particle beam in an electrostatic lens includes establishing a symmetrical electrostatic lens configuration comprising a plurality of electrodes disposed at unadjusted positions that are symmetric with respect to the central ray trajectory with applied unadjusted voltages that create fields symmetric with respect to the central ray trajectory. A symmetric electric field is calculated corresponding to the set of unadjusted voltages. A plurality of lower electrodes is arranged at adjusted positions that are asymmetric with respect to the central ray trajectory. A set of adjusted voltages is obtained for the plurality of lower electrodes, wherein the set of adjusted voltages corresponds to a set of respective potentiaIs of the symmetric electric field at respective adjusted asymmetric positions. The adjusted voltages are applied to the asymmetric lens configuration when the charged particle beam passes therethrough.
摘要翻译：控制带电粒子束在静电透镜中的偏转的方法包括建立对称的静电透镜配置，其包括设置在相对于中心射线轨迹对称的未调整位置的多个电极，所施加的未调节电压产生对称的场到中心射线轨迹。对应于未调整电压组的对称电场。多个下电极被布置在相对于中心射线轨迹不对称的调整位置处。对于多个下电极获得一组调整的电压，其中所述一组调整的电压对应于在各自调整的非对称位置处的对称电场的各自的电位的集合。当带电粒子束通过时，经调整的电压施加到非对称透镜构型。

47. 发明申请

WO2011128004A1 TARGET FÜR FUNKENVERDAMPFUNG MIT RÄUMLICHER BEGRENZUNG DER AUSBREITUNG DES FUNKENS 审中-公开
标题翻译：目标属地LIMIT火花蔓延无线电扩展
公开(公告)号：WO2011128004A1
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：PCT/EP2011/000057
申请日：2011-01-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/12 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/305 , H01J37/32614
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Target für eine ARC-Quelle mit einem ersten Körper (3) aus einem zu verdampfenden Material welcher im Wesentlichen in einer Ebene eine zur Verdampfung vorgesehene Oberfläche umfasst, wobei die Oberfläche in dieser Ebene einen zentralen Bereich umgibt, dadurch gekennzeichnet, dass in dem zentralen Bereich ein von dem ersten Körper (3) elektrisch dergestalt isolierter zweiter Körper (7) der vorzugsweise in Scheibenform ausgebildet ist, vorgesehen ist, dass vom zweiten Körper (7) im Wesentlichen keine Elektronen zur Aufrechterhaltung eines Funkens bereitgestellt werden können.
摘要翻译：本发明涉及一种靶用于具有第一主体（3）的材料制成的一种包括提供用于在一个平面中的蒸发表面基本上，所述表面围绕在该平面的中心部分被汽化电弧源，其特征在于在于，在所述第一本体的所述中心区域中的（3），以便分离第二主体（7），其优选地为圆盘状的电形成，它提供了从第二主体（7）设置基本上没有电子用于维持火花可以。

48. 发明申请

WO2011046216A1 電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：电子显微镜
公开(公告)号：WO2011046216A1
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：PCT/JP2010/068200
申请日：2010-10-15
申请人：国立大学法人静岡大学 , 独立行政法人産業技術総合研究所 , 根尾陽一郎 , 長尾昌善 , 吉田知也 , 金丸正剛
发明人：根尾　陽一郎 , 長尾　昌善 , 吉田　知也 , 金丸　正剛
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/073 , H01J37/20 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/073 , H01J37/12 , H01J2237/062 , H01J2237/0635 , H01J2237/06375
摘要：　電子顕微鏡は、円錐状の突起部（１１ａ）が形成されたエミッタ基板（１１）と、絶縁膜（１２）を介して形成されて穴（１３ａ）を有する引出し電極（１３）と、引出し電極（１３）上に積層され突起部（１１ａ）の頂点を露出させるための穴を有する４つの電極（１５、１７、１９、２１）と、各電極のそれぞれの間に形成された複数の絶縁膜と、を有する５段ゲート型微小電子源（１０）と、５段ゲート型微小電子源（１０）に形成された各電極とサンプル（４１）とに電圧を印加する電圧源（３０）と、サンプル（４１）を移動させるステージ（４０）と、サンプル（４１）から放出された２次電子に基づく信号、サンプル（４１）を流れる電流に基づく信号、の少なくとも１つの信号と、ステージ（４０）によってサンプル（４１）が移動させられた位置と、に基づいて、サンプル（４１）の画像を生成する演算処理部（８０）と、を備えている。電子顕微鏡は、電子ビームのスポット径を小さくして超微細な対象物を検査する。
摘要翻译：公开了一种具有五极管微电子源（10）的电子显微镜，其具有形成有锥形突起（11a）的发射极基板（11），通过绝缘膜（12）形成的引出电极（13）），并且具有孔（13a），层叠在所述引出电极（13）上的四个电极（15,17,19,21），并且具有突出部（11a）的前端露出的孔，以及形成在电极之间的多个绝缘膜; 对形成在五倍体微电子源（10）中的电极施加电压的电压源（30）和样品（41）。用于移动样品（41）的级（40）; 至少基于从样品（41）发射的二次电子的信号或基于通过所述样品（41）的电流的信号，生成样品（41）的图像的运算处理单元（80）样品（41）以及已经被载物台（40）移动的样品（41）的位置。电子显微镜减小了电子束的光斑直径以检查亚微观物体。

49. 发明申请

WO2008090380A1 IMPROVED PARTICLE BEAM GENERATOR 审中-公开
标题翻译：改进颗粒光束发生器
公开(公告)号：WO2008090380A1
公开(公告)日：2008-07-31
申请号：PCT/GB2008/050050
申请日：2008-01-24
申请人： NFAB Limited , EASTHAM, Derek Anthony
发明人： EASTHAM, Derek Anthony
IPC分类号： H01J37/12
CPC分类号： H01J37/073 , B82Y15/00 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/28 , H01J2237/03 , H01J2237/0492 , H01J2237/062 , H01J2237/06341 , H01J2237/1205 , H01J2237/1207
摘要： A particle beam generator comprising particle extraction means disposed adjacent a particle source and operable to extract particles from such a source into an extraction aperture of the extraction means to form a particle beam, particle accelerating means operable to accelerate the extracted particles to increase the energy of the beam, and focussing means operable to focus the particle beam, each of said extraction means, accelerating means and focussing means being arranged in sequence and having apertures therethrough and in alignment to define a passageway through which the particles are constrained to move, characterised in that the extraction means comprises a lens structure comprising at least a pair of electrodes separated by a layer of insulating material allowing the application of different potentials to each of the lens structure electrodes, one of said electrodes comprising an extraction plate having an extraction aperture formed therein, by means of which extraction plate particles may be drawn from the particle source and through the extraction aperture by means of a potential difference between the source and said extraction plate.
摘要翻译：一种粒子束发生器，其包括与颗粒源相邻设置的颗粒提取装置，可操作以将颗粒从这种源提取到提取装置的提取孔中以形成粒子束，粒子加速装置可操作以加速提取的颗粒以增加能量所述光束和聚焦装置可操作以聚焦所述粒子束，所述提取装置，加速装置和聚焦装置中的每一个按顺序布置并且具有穿过其中的孔并且对齐以限定颗粒被约束以移动的通道，其特征在于所述提取装置包括透镜结构，所述透镜结构包括至少一对电极，所述至少一对电极由绝缘材料层隔开，允许对每个所述透镜结构电极施加不同的电位，所述电极中的一个包括在其中形成有提取孔的提取板，通过其提取平台 e颗粒可以通过源和所述提取板之间的电位差从颗粒源和抽出孔中抽出。

50. 发明申请

WO2008044479A1 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法审中-公开
标题翻译：电子束光刻系统和电子束光刻
公开(公告)号：WO2008044479A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/JP2007/068807
申请日：2007-09-27
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 原口岳士 , 田中仁 , 山田章夫
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 田中仁 , 山田章夫
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/12 , H01J37/305
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J2237/1534
摘要：【課題】リフォーカス時間を短縮し、スループットの向上を図ることのできる電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法を提供すること。【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームを整形するための開口を有する整形手段と、電子ビームを試料面上へ結像させる投影レンズと、投影レンズの上方に設置され、電子ビームの焦点を補正する静電多重極レンズからなるリフォーカスレンズと、整形手段により整形された電子ビームの断面の面積に応じた電圧をリフォーカスレンズに印加する制御手段とを備える。リフォーカスレンズは、４重極静電電極を前記電子ビームのビーム軸方向に３段有するようにしても良く、３段の４重極静電電極のうち、１段目と３段目の電極の長さが同じで、２段目の電極の長さが１段目の電極の長さの２倍にしても良い。
摘要翻译： [问题]提供一种电子束光刻系统和电子束光刻技术，其中缩短了再聚焦时间并提高了生产量。解决问题的手段电子束光刻系统包括用于发射电子束的电子枪，具有形成电子束的孔的成形装置，用于将电子束聚焦到样品表面上的投影透镜，再聚焦透镜安装在投影透镜上方，由用于校正电子束焦点的静电多极透镜组成;以及控制装置，用于将对应于由成形装置成形的电子束横截面积的电压施加到重新对焦镜片。再聚焦透镜可以沿着电子束的光束轴线方向具有三级四极静电电极。第一级和第三级电极的长度可以彼此相等，并且第二级电极的长度可以是第一级电极的长度的两倍。

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