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41. 发明申请

WO2016090874A1 曝光显影方法、曝光控制系统和曝光显影系统审中-公开
公开(公告)号：WO2016090874A1
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：PCT/CN2015/080884
申请日：2015-06-05
申请人：京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人：余学权 , 徐先华 , 刘志 , 王志强 , 张伟 , 成学佩
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F1/00 , G03F7/20 , G03F7/70475 , G03F7/7085 , G03F9/7046 , G03F9/7088 , H01L21/027
摘要：提供了一种曝光显影方法、曝光控制系统和曝光显影系统。曝光显影方法用于在基板尺寸大于掩膜板尺寸时对基板进行曝光显影，其包括：利用掩膜板（20）分别对基板（10）多个不同区域进行曝光显影，多个不同区域拼接为全部需要曝光显影的区域。这种曝光显影方法，能够使得低代生产线生产较大尺寸的彩膜基板，从而提高产线利用率，降低生产成本。

42. 发明申请

WO2016024474A1 レジスト膜付きマスクブランクおよびその製造方法ならびに転写用マスクの製造方法审中-公开
标题翻译：提供抗静电膜的掩模布，其生产方法和生产转印掩模的方法
公开(公告)号：WO2016024474A1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：PCT/JP2015/071195
申请日：2015-07-27
申请人： HOYA株式会社
发明人：福井　亨
IPC分类号： G03F1/20 , G03F1/50 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/32
CPC分类号： G03F1/20 , G03F1/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/2037 , G03F7/32 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要：　薄膜１１を有する基板１０と、薄膜１１の主表面に形成されたネガ型のレジスト膜１２とを備えるレジスト膜付きマスクブランク１であって、レジスト膜１２において、レジスト膜１２が薄膜１１と接する部分に、レジスト膜１２の他の領域に比べて光酸発生剤の濃度が高い光酸発生剤濃厚領域が形成されていることを特徴とするレジスト膜付きマスクブランク１を提供する。
摘要翻译：提供了一种掩模板1，其设置有抗蚀剂膜，并且设置有形成在薄膜11的主表面上的具有薄膜11的基板10和形成在其上的负型抗蚀剂膜12，其特征在于，与抗蚀剂膜12的与抗蚀剂膜12接触的部分形成的抗蚀剂膜12的其它区域相比，具有较高浓度的光致酸产生剂的浓缩光酸产生剂区域。

43. 发明申请

WO2015124457A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC设备和方法
公开(公告)号：WO2015124457A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015052673
申请日：2015-02-10
申请人： ASML NETHERLANDS BV , ZEISS CARL SMT GMBH
发明人： VAN SCHOOT JAN BERNARD PLECHELMUS , MIGURA SASCHA , KNEER BERNHARD
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F1/00 , G03F7/70033 , G03F7/70233 , G03F7/70433
摘要： A lithographic apparatus comprising a support structure constructed to support a mask comprising a patterned area which is capable of imparting an EUV radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, wherein the support structure is movable in a scanning direction, a substrate table constructed to hold a substrate, wherein the substrate table is movable in the scanning direction, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an exposure region of the substrate, wherein the projection system has a demagnification in the scanning direction which is greater than a demagnification in a second direction which is perpendicular to the scanning direction and wherein the demagnification in the second direction is greater than 4x.
摘要翻译：一种光刻设备，包括支撑结构，该支撑结构构造成支撑掩模，该掩模包括图案化区域，该图案区域能够在其横截面中赋予EUV辐射束图案以形成图案化的辐射束，其中所述支撑结构可沿扫描方向移动构造成保持衬底的衬底台，其中所述衬底台可沿扫描方向移动;以及投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的曝光区域上，其中所述投影系统具有扫描的缩小方向大于垂直于扫描方向的第二方向的缩小，并且其中第二方向上的缩小大于4x。

44. 发明申请

WO2014139238A1 显示面板及其制备方法、掩模板及其制备方法、显示装置审中-公开
公开(公告)号：WO2014139238A1
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：PCT/CN2013/078052
申请日：2013-06-26
申请人：合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
发明人：袁慧芳
IPC分类号： G02F1/1339 , G03F7/00
CPC分类号： G02F1/13394 , G02F1/133514 , G02F2001/13396 , G02F2201/503 , G03F1/00 , G03F1/32 , G03F1/76 , G03F1/80
摘要：一种显示面板及其制备方法、掩模板及其制备方法、显示装置，该显示面板包括相对设置的第一显示基板（31）和第二显示基板（32），以及设置在第一显示基板（31）和第二显示基板（32）之间的主隔垫物（1）和辅助隔垫物（2）。所述主隔垫物（1）和辅助隔垫物（2）均设置于所述第一显示基板（31）上，所述主隔垫物（1）的高度等于所述第一显示基板（31）到所述第二显示基板（32）的距离以支撑所述第一显示基板（31）和所述第二显示基板（32），所述副助隔垫物（2）的高度小于所述主隔垫物（1）的高度，至少一个所述辅助隔垫物（2）的悬空一端的端面为平面，和/或至少一个所述辅助隔垫物（2）的悬空一端的端面为凸面。

45. 发明申请

WO2014104544A1 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법 审中-公开
标题翻译：用于HARDMASK组合物的单体，包括所述单体的HARDMASK组合物以及使用合适的硬质合金形成图案的方法
公开(公告)号：WO2014104544A1
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：PCT/KR2013/008836
申请日：2013-10-02
申请人： 제일모직 주식회사
发明人： 신승욱 , 김윤준 , 김혜정 , 조연진 , 최유정
IPC分类号： G03F1/00 , C07C63/15 , G03F7/26 , C07C15/40
CPC分类号： G03F7/004 , C07C63/15 , C07C63/26 , C07C65/32 , C07C65/34 , C07C65/40 , G03F1/00 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/26 , G03F7/30 , G03F7/36 , G03F7/40
摘要： 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 상기 화학식 1에서, A, A', L, L', X 및 n의 정의는 명세서에서 정의한 바와 같다.
摘要翻译：本发明涉及一种由化学式1表示的硬掩模组合物的单体，涉及包含所述单体的硬掩模组合物，以及使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。在上述化学式1中，A，A'，L，L'，X和n的定义与说明书中定义的相同。

46. 发明申请

WO2014030581A1 カラーフィルタ基板、及び、その製造方法审中-公开
标题翻译：彩色滤光片及其制造方法
公开(公告)号：WO2014030581A1
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：PCT/JP2013/071900
申请日：2013-08-14
申请人：シャープ株式会社
发明人：川西　隆史
IPC分类号： G02B5/20 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/223 , G02B5/201 , G02F1/133516 , G03F1/00 , G03F7/0007 , G03F7/095 , G03F7/16 , G03F7/30
摘要：本発明は、カラーフィルタの膜厚の均一性を向上することができるカラーフィルタ基板、及び、その製造方法を提供する。本発明は、互いに積層された複数のフォトレジスト膜を透明基板上に形成する工程と、フォトマスクを介して前記複数のフォトレジスト膜を露光する工程と、露光された前記複数のフォトレジスト膜を現像することによって、開口を有する隔壁を形成する工程と、前記開口内にインクを吐出する工程とを含み、前記複数のフォトレジスト膜の感光度は、互いに異なるカラーフィルタ基板の製造方法である。
摘要翻译：提供：可以增加滤色器的厚度的均匀性的滤色器基板; 以及滤色器基板的制造方法。制造滤色器基板的方法包括：在透明基板上形成多个相互堆叠的光致抗蚀剂膜的步骤; 用于在所述多个光致抗蚀剂膜之间用光掩模曝光的步骤; 用于通过显影所述暴露的多个光致抗蚀剂膜形成具有孔的隔板的步骤; 以及将墨水排出到孔中的步骤。多个光致抗蚀剂膜具有彼此不同的光敏度。

47. 发明申请

WO2014000380A1 掩模板审中-公开
公开(公告)号：WO2014000380A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/CN2012/085860
申请日：2012-12-04
申请人：北京京东方光电科技有限公司
发明人：谢振宇 , 郭建
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F1/50 , G02B27/0988 , G03F1/00 , G03F7/70441
摘要：一种掩模板，用以通过该掩模板实现目标基板上线宽更窄的图形结构。其中掩模板包括狭缝状透光区域和不透光区域，所述狭缝状透光区域的边缘呈弯曲状。

48. 发明申请

WO2013133396A1 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE COMPOSITION 审中-公开
标题翻译：丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用组合物的丙烯酸敏感或辐射敏感性膜和图案形成方法
公开(公告)号：WO2013133396A1
公开(公告)日：2013-09-12
申请号：PCT/JP2013/056378
申请日：2013-03-01
申请人： FUJIFILM CORPORATION
发明人： INASAKI, Takeshi , KAWABATA, Takeshi , TSUCHIMURA, Tomotaka , TSUCHIHASHI, Toru
IPC分类号： G03F7/039 , C08F212/14 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F8/02 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F261/02 , C09D125/18 , G03F1/00 , G03F7/0002 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , C08F212/32
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (P) that contains at least one phenolic hydroxyl group and at least one group in which a hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group has been substituted with a group represented by the following General Formula (1) (in the formula, M 11 represents a single bond or a divalent linking group; Q 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group).
摘要翻译：光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有含有至少一个酚羟基的化合物（P）和至少一个其中酚羟基的氢原子被下列基团取代的基团通式（1）（式中，M11表示单键或二价连接基团，Q 11表示烷基，环烷基或芳基）。

49. 发明申请

WO2012070209A1 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法ならびにクロム系材料膜审中-公开
标题翻译： PHOTOMASK BLANK，光电产品生产工艺和含铬材料薄膜
公开(公告)号：WO2012070209A1
公开(公告)日：2012-05-31
申请号：PCT/JP2011/006422
申请日：2011-11-18
申请人：信越化学工業株式会社 , 吉川博樹 , 深谷創一 , 稲月判臣 , 山本恒雄 , 中川秀夫
发明人：吉川　博樹 , 深谷　創一 , 稲月　判臣 , 山本　恒雄 , 中川　秀夫
IPC分类号： G03F1/54 , C22C27/06 , C22C28/00 , C22C29/00 , C23C14/14
CPC分类号： G03F1/80 , B32B15/01 , C22C27/06 , C23C14/0641 , C23C14/0676 , G03F1/00 , G03F1/30 , G03F1/50 , G03F1/54
摘要：　本発明に係るクロム系材料膜には、クロムとの混合系において、液相となる温度が４００℃以下となる元素が添加されている。このようなクロム系材料膜をフォトマスクブランクが備える光学膜（遮光性膜、エッチングマスク膜、エッチングストッパ膜など）として用いることとすれば、特別な膜設計に拠らず、従来のクロム系材料膜の光学特性等を維持したまま塩素系ドライエッチングの速度を高めることができ、パターニングの精度が向上する。
摘要翻译：在该含铬材料膜中，添加具有使元素和铬的混合体系具有液相的温度为400℃以下的特性的元素。当将含铬材料膜用作可用于光掩模坯料的光学膜（例如，遮光膜，蚀刻掩模膜，蚀刻阻挡膜）时，可以增加氯干蚀刻速率同时保持常规含铬材料膜的光学特性等特性，而不依赖于特殊的膜设计，并且可以提高图案化的精度。

50. 发明申请

WO2012046589A1 液晶表示パネル用基板の製造方法、及び、フォトマスク审中-公开
标题翻译：用于生产液晶显示面板基板的方法和光电二极管
公开(公告)号：WO2012046589A1
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/JP2011/071964
申请日：2011-09-27
申请人：シャープ株式会社 , 澤山豊 , 藤井康雄
发明人：澤山　豊 , 藤井　康雄
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/13 , G02F1/1339
CPC分类号： G03F1/60 , G02F1/133707 , G03F1/00
摘要：本発明は、液晶配向制御突起物に起因する液晶分子の配向の乱れを抑制できる液晶表示パネル用基板の製造方法、及び、フォトマスクを提供する。本発明は、液晶表示パネル用基板の製造方法であって、上記基板は、液晶配向制御突起物を備え、上記液晶配向制御突起物は、主突起物、及び、副突起物を含み、上記副突起物は、直線状であり、かつ、上記主突起物よりも低く、上記製造方法は、ポジ型の感光性樹脂膜を形成する工程と、フォトマスクを通して上記感光性樹脂膜を露光する工程とを含み、上記フォトマスクは、上記副突起物を形成するための調光領域を有し、上記調光領域は、スリット状の透光部を有する液晶表示パネル用基板の製造方法である。
摘要翻译：本发明提供一种液晶显示面板用基板的制造方法，其能够抑制由液晶取向控制突起导致的液晶分子的取向紊乱; 和光掩模。本发明具体提供一种液晶显示面板用基板的制造方法，其特征在于，所述基板包括液晶取向控制突起; 液晶取向控制突起包括主突起和辅助突起; 并且辅助突出物比主要突起线性和短。制造方法包括形成正性感光性树脂膜的步骤和通过光掩模曝光感光性树脂膜的工序。光掩模具有用于形成辅助突起的光调光区域，并且每个光调光区域具有狭缝状光透射部分。

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