基本信息:
- 专利标题： 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법
- 专利标题（英）：Monomer for hardmask composition, hardmask composition including said monomer, and method for forming pattern using said hardmask composition
- 专利标题（中）：用于HARDMASK组合物的单体，包括所述单体的HARDMASK组合物以及使用合适的硬质合金形成图案的方法
- 申请号：PCT/KR2013/008836 申请日：2013-10-02
- 公开(公告)号：WO2014104544A1 公开(公告)日：2014-07-03
- 发明人： 신승욱 , 김윤준 , 김혜정 , 조연진 , 최유정
- 申请人： 제일모직 주식회사
- 申请人地址： 730-030 경상북도 구미시 공단동 290번지, Gyeongsangbuk-do KR
- 专利权人： 제일모직 주식회사
- 当前专利权人： 제일모직 주식회사
- 当前专利权人地址： 730-030 경상북도 구미시 공단동 290번지, Gyeongsangbuk-do KR
- 代理机构： 팬코리아특허법인
- 优先权： KR10-2012-0157570 20121228
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; C07C63/15 ; G03F7/26 ; C07C15/40
摘要：
화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 상기 화학식 1에서, A, A', L, L', X 및 n의 정의는 명세서에서 정의한 바와 같다.
摘要（中）：
本发明涉及一种由化学式1表示的硬掩模组合物的单体，涉及包含所述单体的硬掩模组合物，以及使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。 在上述化学式1中，A，A'，L，L'，X和n的定义与说明书中定义的相同。