基本信息:
- 专利标题： フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法ならびにクロム系材料膜
- 专利标题（英）：Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film
- 专利标题（中）：PHOTOMASK BLANK，光电产品生产工艺和含铬材料薄膜
- 申请号：PCT/JP2011/006422 申请日：2011-11-18
- 公开(公告)号：WO2012070209A1 公开(公告)日：2012-05-31
- 发明人： 吉川 博樹 , 深谷 創一 , 稲月 判臣 , 山本 恒雄 , 中川 秀夫
- 申请人： 信越化学工業株式会社 , 吉川 博樹 , 深谷 創一 , 稲月 判臣 , 山本 恒雄 , 中川 秀夫
- 申请人地址： 〒1000004 東京都千代田区大手町二丁目6番1号 Tokyo JP
- 专利权人： 信越化学工業株式会社,吉川 博樹,深谷 創一,稲月 判臣,山本 恒雄,中川 秀夫
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社,吉川 博樹,深谷 創一,稲月 判臣,山本 恒雄,中川 秀夫
- 当前专利权人地址： 〒1000004 東京都千代田区大手町二丁目６番１号 Tokyo JP
- 代理机构： 大野 聖二
- 优先权： JP2010-259675 20101122; JP2011-127511 20110607
- 主分类号： G03F1/54
- IPC分类号： G03F1/54 ; C22C27/06 ; C22C28/00 ; C22C29/00 ; C23C14/14
摘要：
本発明に係るクロム系材料膜には、クロムとの混合系において、液相となる温度が４００℃以下となる元素が添加されている。このようなクロム系材料膜をフォトマスクブランクが備える光学膜（遮光性膜、エッチングマスク膜、エッチングストッパ膜など）として用いることとすれば、特別な膜設計に拠らず、従来のクロム系材料膜の光学特性等を維持したまま塩素系ドライエッチングの速度を高めることができ、パターニングの精度が向上する。
摘要（中）：
在该含铬材料膜中，添加具有使元素和铬的混合体系具有液相的温度为400℃以下的特性的元素。 当将含铬材料膜用作可用于光掩模坯料的光学膜（例如，遮光膜，蚀刻掩模膜，蚀刻阻挡膜）时，可以增加氯干蚀刻速率 同时保持常规含铬材料膜的光学特性等特性，而不依赖于特殊的膜设计，并且可以提高图案化的精度。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版的制备 |
| --------G03F1/54 | .吸收剂，例如不透明材料 |