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    • 21. 发明申请
    • LEUCHTDIODENCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES LEUCHTDIODENCHIPS
    • 光二极管芯片和用于产生照射的二极管芯片的方法
    • WO2017067983A1
    • 2017-04-27
    • PCT/EP2016/075092
    • 2016-10-19
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • BAUR, Johannes
    • H01L33/30H01L33/40H01L33/44H01L33/00H01L33/14H01L33/20H01L33/38H01L33/42
    • H01L33/405H01L33/0079H01L33/14H01L33/20H01L33/30H01L33/387H01L33/42H01L33/44H01L33/46H01L2933/0025
    • In einer Ausführungsform umfasst der Leuchtdiodenchip (1) eine Halbleiterschichtenfolge (2), die auf InGaAlP basiert und zur Erzeugung von Licht eingerichtet ist. Eine Stromaufweitungsschicht (3) befindet sich direkt an der Halbleiterschichtenfolge (2) und basiert auf AlGaAs. Eine Verkapselungsschicht (4) ist stellenweise direkt auf der Stromaufweitungsschicht (3) und/oder auf der Halbleiterschichtenfolge (2) aufgebracht. Eine mittlere Dicke der Verkapselungsschicht (4) liegt zwischen 10 nm und 200 nm und eine Defektdichte beträgt höchstens 10/mm 2 . Auf der Verkapselungsschicht (4) ist eine Abdeckschicht (5) aufgebracht. An einer der Halbleiterschichtenfolge (2) abgewandten Seite der Stromaufweitungsschicht (3) befindet sich eine nichtmetallische Reflexionsschicht (6), die zur Totalreflexion von Strahlung eingerichtet ist. Die Reflexionsschicht (6) ist direkt oder indirekt von der Verkapselungsschicht (4) bedeckt. An einer der Stromaufweitungsschicht (3) abgewandten Seite der Reflexionsschicht (6) befindet sich zumindest eine Spiegelschicht (71) und/oder eine Haftvermittlungsschicht (72).
    • 在一个实施例中,发光二极管芯片(1)包括基于InGaAlP并被设计为产生光的半导体层序列(2)。 电流扩展层(3)直接位于半导体层序列(2)上并且基于AlGaAs。 在电流扩展层(3)上和/或在半导体层序列(2)上直接施加封装层(4)。 封装层(4)的平均厚度在10nm和200nm之间,并且缺陷密度至多10个/ mm 2。 在封装层(4)上施加覆盖层(5)。 在电流扩散层(3)的远离半导体层序列(2)的一侧上存在非金属反射层(6),其设置用于辐射的全反射。 反射层(6)被封装层(4)直接或间接覆盖。 在反射层(6)的远离电流扩展层(3)的一侧上设置至少一个镜层(71)和/或增粘层(72)。
    • 23. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND OPTOELEKTRONISCHES MODUL
    • 光电半导体芯片和光电模块
    • WO2014161738A1
    • 2014-10-09
    • PCT/EP2014/055835
    • 2014-03-24
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HAHN, BertholdBAUR, Johannes
    • H01L25/04H01L31/02H01L25/075H01L33/62H01L31/0224H01L33/38
    • H01L33/62H01L25/042H01L25/0753H01L31/02002H01L31/0203H01L31/0224H01L31/0516H01L33/38H01L33/382H01L33/486H01L2224/48091H01L2224/48137H01L2224/73265Y02E10/50H01L2924/00014
    • Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Träger (5) und einen auf dem Träger (5) angeordneten Halbleiterkörper (2) mit einer Halbleiterschichtenfolge aufweist, wobei - die Halbleiterschichtenfolge einen aktiven Bereich (20) umfasst, der zwischen einer ersten Halbleiterschicht (21) und einer zweiten Halbleiterschicht (22) angeordnet ist und zur Erzeugung oder zum Empfangen von Strahlung vorgesehen ist; - die erste Halbleiterschicht (21) elektrisch leitend mit einem ersten Kontakt (41) und mit einem zweiten Kontakt (42) verbunden ist; - der erste Kontakt auf einer dem Halbleiterkörper zugewandten Vorderseite (51) des Trägers ausgebildet ist; - der zweite Kontakt auf einer vom Halbleiterkörper abgewandten Rückseite (52) des Trägers ausgebildet ist; und - der erste Kontakt und der zweite Kontakt elektrisch leitend miteinander verbunden sind. Weiterhin wird ein optoelektronisches Modul (10) angegeben. der erste Kontakt auf einer dem Halbleiterkörper zugewandten Vorderseite (51) des Trägers ausgebildet ist;-der zweite Kontakt auf einer vom Halbleiterkörper abgewandten Rückseite (52) des Trägers ausgebildet ist; und -der erste Kontakt und der zweite Kontakt elektrisch leitendm iteinander verbunden sind. Weiterhin wird ein optoelektronisches Modul (10) angegeben.
    • (5),其布置在半导体本体,提供一种光电子半导体芯片(1),包括在载体上的支撑件(5)和(2)之一具有半导体层序列,其特征在于, - 半导体层序列包括第一之间的有源区(20) 半导体层(21)和第二半导体层(22)被布置和被设置用于生成或接收的辐射; - 在第一半导体层(21)被导电地连接到第一接触(41)和具有第二触点(42)连接; - 被形成在面向所述载体的所述半导体主体前表面(51)的一侧上的第一接触; - 形成,从所述载体的半导体本体后侧(52)背向上侧的第二接触; 以及 - 所述第一接触和第二接触被电相互连接。 此外,光电模块(10)被指定。 -the第二触头的一侧远离形成在载体的半导体本体后侧(52),形成在侧朝向载体的半导体本体前表面(51)的第一接触; 和-the第一接触和第二接触被电连接leitendm SHARINGTIME。 此外,光电模块(10)被指定。
    • 27. 发明申请
    • LEUCHTDIODENCHIP MIT EINER REFLEKTIERENDEN SCHICHTENFOLGE
    • 具有反射层成功的光二极管芯片
    • WO2017089198A1
    • 2017-06-01
    • PCT/EP2016/077859
    • 2016-11-16
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • BAUR, JohannesSCHMID, Wolfgang
    • H01L33/46H01L33/40H01L33/44H01L33/14H01L33/20
    • H01L33/46H01L33/14H01L33/20H01L33/405H01L33/44
    • Es wird ein Leuchtdiodenchip (1) angegeben, mit - einem Träger (10), - einer Halbleiterschichtenfolge (2), - einer reflektierenden Schichtenfolge, die bereichsweise zwischen dem Träger (10) und der Halbleiterschichtenfolge (2) angeordnet ist, wobei die reflektierende Schichtenfolge (8) eine der Halbleiterschichtenfolge (2) zugewandte dielektrische Schicht (83) und eine von der Halbleiterschichtenfolge (2) abgewandte metallische Spiegelschicht (81) aufweist, und - einer Verkapselungsschicht (9), die stellenweise zwischen dem Träger (10) und der reflektierenden Schichtenfolge (8) angeordnet ist, wobeisich die Verkapselungsschicht (9) stellenweise durch die reflektierende Schichtenfolge (8) hindurch in die Halbleiterschichtenfolge (2) hinein erstreckt und auf diese Weise einen Trennsteg (91) ausbildet, der einen Innenbereich (51) der reflektierenden Schichtenfolge (8) von einem Randbereich (52) der reflektierenden Schichtenfolge (8) trennt.
    • 本发明公开了一种发光二极管芯片(1),具有: - 一个载体AUML; GER(10), - 一个半导体层序列(2), - 反射层序列,晶体管AUML之间的区域; GER(10)和 半导体层序列(2)布置,其中所述反射层序列(8)(2)面向所述电介质层(83)和从该半导体层序列中的一个(2)金属镜层(81)背向,和半导体层序列的 - 封装层(9) 其提供,之间的Tr的BEAR布置GER(10)和反射层序列(8)中,封装层(9)whereinthe组,由反射层序列(8)到半导体层序列(2)延伸,并且以这种方式分隔片 (8)的内部区域(51)与所述反射层序列(8)的边缘区域(52)分隔的第一区域(91)