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21. 发明申请

WO2002093257A3 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAPHIE, 审中-公开
公开(公告)号：WO2002093257A3
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/004900
申请日：2002-05-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BRUNOTTE, Martin , HARTMAIER, Jürgen , HOLDERER, Hubert , KAISER, Winfried , KOHL, Alexander , KUGLER, Jens , MAUL, Manfred , WAGNER, Christian
发明人： BRUNOTTE, Martin , HARTMAIER, Jürgen , HOLDERER, Hubert , KAISER, Winfried , KOHL, Alexander , KUGLER, Jens , MAUL, Manfred , WAGNER, Christian
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Bei einer Projektionsbelichtungsanlage besonders mit 157 oder 193 nm und bildseitigen NA von 0,8 bis 0,95, mit Fluorid-Kristallinsen (43, 43) wird deren winkelabhängige Doppelbrechung durch Relativdrehung um die optische Achse (O) und/oder durch ein Korrekturelement (44) nahe einer Pupillenenbene (P) in ihrem störenden Effekt vermindert.

22. 发明申请

WO2002093209A2 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：用氟晶镜头镜头
公开(公告)号：WO2002093209A2
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70966 , G02B1/02 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70958 , Y10S359/90
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.
摘要翻译：透镜，在用于具有至少一种氟化物晶体透镜的微光刻投射曝光系统尤其投影透镜。获得减少的双折射的干扰影响，如果该透镜是（100）透镜与透镜轴线大致垂直于与其等效的{100}晶面或上的氟化物晶体的晶面。与具有至少两个氟晶透镜的透镜，如果氟化物晶体透镜的排列相对于彼此旋转时，它是有利的。氟化物晶体透镜的透镜轴可以由此除（100）晶具有在（111）在（110）晶向-or。通过同时使用基团的实现双折射的干扰影响进一步减小与相互旋转（100）-lenses并用相互旋转（111）透镜或（110）的透镜组。通过用补偿涂层的光学元件的可用性实现双折射的干扰影响进一步降低。

23. 发明申请

WO2013029895A1 RADIATION SOURCE 审中-公开
标题翻译：辐射源
公开(公告)号：WO2013029895A1
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：PCT/EP2012/064775
申请日：2012-07-27
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , WAGNER, Christian , LOOPSTRA, Erik
发明人： WAGNER, Christian , LOOPSTRA, Erik
IPC分类号： H01S3/00 , G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G02B27/283 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70983 , H01S3/0064 , H01S3/2316 , H01S3/2333 , H05G2/003 , H05G2/005
摘要： According to a first aspect of the present invention, there is provided a radiation source comprising: a nozzle configured to direct a stream of fuel droplets (70) along a trajectory towards a plasma formation location; a laser configured to direct laser radiation at a fuel droplet at the plasma formation location to generate, in use, a radiation generating plasma; wherein the laser comprises: a seed laser (50) for providing a seed laser beam (52); a beam splitter (54) for receiving the seed laser beam from the seed laser; an optical amplifier (58) for receiving the seed laser beam from the beam splitter and performing optical amplification; a first reflector (60) located downstream of the optical amplifier, configured to direct the seed laser beam back through the optical amplifier and on to the beam splitter; and a second reflector (70) located further downstream of the beam splitter, configured to receive the seed laser beam from the beam splitter and to direct at least a portion of the seed laser beam back toward the beam splitter.
摘要翻译：根据本发明的第一方面，提供了一种辐射源，包括：喷嘴，被配置为沿着轨迹朝着等离子体形成位置引导燃料液滴流（70）; 激光器，被配置为在等离子体形成位置处的燃料液滴处引导激光辐射，以在使用中产生辐射产生等离子体; 其中所述激光器包括：种子激光器（50），用于提供种子激光束（52）; 用于从种子激光器接收种子激光束的分束器（54）; 用于从分束器接收种子激光束并进行光放大的光放大器（58）位于所述光放大器下游的第一反射器（60），被配置为将所述种子激光束引导通过所述光放大器并且返回到所述分束器; 以及位于所述分束器的更下游的第二反射器（70），被配置为从所述分束器接收所述种子激光束并将所述种子激光束的至少一部分引导回所述分束器。

24. 发明申请

WO2005098482A1 OPTISCHE ABBILDUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光学图像装置
公开(公告)号：WO2005098482A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/EP2005/003654
申请日：2005-04-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HOLDERER, Hubert , WAGNER, Christian , VON BUENAU, Rudolf
发明人： HOLDERER, Hubert , WAGNER, Christian , VON BUENAU, Rudolf
IPC分类号： G02B5/00
CPC分类号： G03F7/70308
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere ein Objektiv für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, mit einer im Bereich einer Pupillenebene der optischen Abbildungsvorrichtung angeordneten Einrichtung zum Abdunkeln der Pupille. Die Einrichtung weist mechanische Elemente (11a-11e) auf, welche in der Art betätigbar sind, dass die Abdunklung der Pupille wenigstens annähernd radial symmetrisch variierbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种光学成像装置，尤其是用于微光刻用于变暗瞳孔一个布置在光学成像装置的光瞳平面的区域是指生产具有半导体器件的一个目标。该装置包括机械元件（图11A-11E），其可以以这样的方式，该光瞳的变暗是至少近似径向对称的变量被致动。

25. 发明申请

WO2004074468A1 NOVEL PECTINASES AND USES THEREOF 审中-公开
标题翻译：新闻稿及其用途
公开(公告)号：WO2004074468A1
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：PCT/EP2003/005726
申请日：2003-05-28
申请人： DSM IP ASSETS B.V. , EDENS, Luppo , VAN DIJK, Albertus, Alard , HOPPER, Sylvia , ILGENFRITZ, Hilmar , KEMMNER, Wolfram , KLUGBAUER, Sabine , FRITZ, Andreas , MAIER, Dieter , TAN, Pamela , SPREAFICO, Fabio , STOCK, Alexander , KIMPEL, Erik , HEINRICH, Oliver , GERHARD, Beatrix , EHRENREICH, Armin , LOSKO, Sascha , WAGNER, Christian , FOLKERS, Ulrike , ALBANG, Richard
发明人： EDENS, Luppo , VAN DIJK, Albertus, Alard , HOPPER, Sylvia , ILGENFRITZ, Hilmar , KEMMNER, Wolfram , KLUGBAUER, Sabine , FRITZ, Andreas , MAIER, Dieter , TAN, Pamela , SPREAFICO, Fabio , STOCK, Alexander , KIMPEL, Erik , HEINRICH, Oliver , GERHARD, Beatrix , EHRENREICH, Armin , LOSKO, Sascha , WAGNER, Christian , FOLKERS, Ulrike , ALBANG, Richard
IPC分类号： C12N9/40
CPC分类号： A23C11/103 , A23K20/189 , A23K30/18 , A23K50/75 , A23L2/84 , A23L11/33 , A23L19/09 , A23L29/06 , C12N9/2402 , C12Y302/01015
摘要： The invention relates to newly identified polynucleotide sequences comprising genes that encode novel pectinases isolated from Aspergillus niger. The invention features the full length nucleotide sequence of the novel genes, the cDNA sequences comprising the full length coding sequence of the novel pectinases as well as the amino acid sequence of the full-length functional proteins and functional equivalents thereof. The invention also relates to methods of using these enzymes in industrial processes and methods of diagnosing fungal infections. Also included in the invention are cells transformed with a polynucleotide according to the invention and cells wherein a pectinase according to the invention is genetically modified to enhan e or reduce its activity and/or level of expression.
摘要翻译：本发明涉及新鉴定的多核苷酸序列，其包含编码从黑曲霉分离的新型果胶酶的基因。本发明的特征在于新基因的全长核苷酸序列，cDNA序列包含新型果胶酶的全长编码序列以及全长功能蛋白的氨基酸序列及其功能等同物。本发明还涉及在工业过程中使用这些酶的方法和诊断真菌感染的方法。本发明还包括用根据本发明的多核苷酸转化的细胞和其中根据本发明的果胶酶被遗传修饰以增强或降低其活性和/或表达水平的细胞。

26. 发明申请

WO2002093257A2 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAPHIE, OPTISCHES SYSTEM, HERTELLVERFAHREN EINES MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSOBJECTIVS UND MIKROLITHOGRAPHISCHES STRUKTURIERVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：用于微光刻的，光学系统中，投射曝光系统HERTELLVERFAHREN微光刻PROJEKTIONSOBJECTIVS与微光刻构造法
公开(公告)号：WO2002093257A2
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/004900
申请日：2002-05-04
申请人： ZEISS, Carl , CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , BRUNOTTE, Martin , HARTMAIER, Jürgen , HOLDERER, Hubert , KAISER, Winfried , KOHL, Alexander , KUGLER, Jens , MAUL, Manfred , WAGNER, Christian
发明人： BRUNOTTE, Martin , HARTMAIER, Jürgen , HOLDERER, Hubert , KAISER, Winfried , KOHL, Alexander , KUGLER, Jens , MAUL, Manfred , WAGNER, Christian
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/02 , G02B5/3083 , G03F7/70241 , G03F7/70825 , G03F7/70966
摘要： Bei einer Projektionsbelichtungsanlage besonders mit 157 oder 193 nm und bildseitigen NA von 0,8 bis 0,95, mit Fluorid-Kristallinsen (43, 43) wird deren winkelabhängige Doppelbrechung durch Relativdrehung um die optische Achse (O) und/oder durch ein Korrekturelement (44) nahe einer Pupillenenbene (P) in ihrem störenden Effekt vermindert.
摘要翻译：在投射曝光设备特别是157或193nm和像侧NA 0.8至0.95，用氟晶透镜（43,43），其角度依赖性的双折射是通过绕光轴（O）和/或相对旋转（通过校正元件 44）的光瞳平面（P）附近的在它们的破坏性效果降低。

27. 发明申请

WO2012174669A2 VERWENDUNG EINES FESTSTOFFS ZUR HERSTELLUNG EINES TREIBLADUNGSPULVERS 审中-公开
标题翻译：使用固体物质用于制造发射火药
公开(公告)号：WO2012174669A2
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：PCT/CH2012/000069
申请日：2012-03-28
申请人： NITROCHEMIE ASCHAU GMBH , VOGELSANGER, Beat , OSSOLA, Bruno , HUBER, Alexander , WAGNER, Christian , HAMPEL, Oliver
发明人： VOGELSANGER, Beat , OSSOLA, Bruno , HUBER, Alexander , WAGNER, Christian , HAMPEL, Oliver
CPC分类号： C06B45/04 , B29B13/021 , C06B21/0083 , C06B45/00 , C06B45/22
摘要： Zur Herstellung eines Treibladungspulvers, insbesondere für Mittel- und Grosskaliber, wird in einem Verfahren, bei welchem der Feststoff zusammen mit einer Flüssigkeit in einem Mischungs- und Trocknungsverfahren in die Kanäle eines Grünkorns eingearbeitet und dort zu einem Zapfen verfestigt wird, der Feststoff bei sonst gleich bleibenden Bedingungen des Verfahrens innerhalb eines Einstellbereichs von >0 - 0.5 Gew.-% bezogen auf das Gewicht des Grünkorns eingestellt. Für eine stärkere Absenkung des Maximaldrucks in einem oberen Temperaturbereich und für eine stärkere Anhebung des Maximaldrucks in einem unteren Temperaturbereich des Anwendungstemperaturbereichs wird eine erhöhte Feststoffmenge eingesetzt. Der Feststoff ist eine Substanz, deren Schmelzpunkt mindestens 10 °C, insbesondere 20 °C oberhalb einer maximalen Einsatztemperatur des Treibladungspulvers liegt und die dem Grünkorn gegenüber inert ist. Da der Zapfen praktisch ausschliesslich aus inertem Material besteht, wird eine hohe ballistische Stabilität erreicht.
摘要翻译：用于制造发射药，特别是对中，大口径，所述固体是在其中固体与液体一起并入在混合和干燥方法在绿色颗粒的通道和固化那里的销，具有以其它方式处理 > 0的设定范围内的过程的永久条件 - 0.5％重量调整到绿色颗粒的重量。对于最大压力的在上部的温度范围内和在较低的温度范围内的应用温度范围内的最大压力的更大的增加更大的减少，使用的固体的量增加。所述固体是一种物质，其熔点为至少10℃，特别是20℃以上是推进剂粉末的最大工作温度，并且是朝向绿色颗粒是惰性的。由于销几乎只由惰性材料制成的，具有高稳定性的弹道实现。

28. 发明申请

WO2012136420A1 MIRROR, RADIATION SOURCE - COLLECTOR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：镜子，辐射源 - 收集器和光刻设备
公开(公告)号：WO2012136420A1
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/EP2012/053534
申请日：2012-03-01
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , BANINE, Vadim , WAGNER, Christian , SINGH, Harmeet
发明人： BANINE, Vadim , WAGNER, Christian , SINGH, Harmeet
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/708 , B82Y10/00 , G02B5/0825 , G02B5/0891 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： A mirror for reflection of EUV radiation having a wavelength from 5 to 20nm has a multilayer stack of pairs of alternating layers materials having different refractive indices with a protective region is disposed on the stack, the protective region having from 1 to 5 pairs of alternating layers of materials of differing refractive indices disposed on the multilayer stack, so that alternation of magnitude of refractive index continues from the multilayer stack through the protective region. The mirror is arranged so that radiation for reflection is incident upon the protective region before being incident upon the multilayer stack. The materials of the protective region are selected to have a high resistance to blister formation when subjected to bombardment by hydrogen atoms or ions, for instance from an EUV plasma source, in use. For instance, the multilayer stack may be of silicon/molybdenum, with the protective region of silicon nitride/molybdenum. The protective region acts to prevent hydrogen atoms or ions penetrating into and blistering the mirror, but without resulting in excessive losses in the reflectivity of the mirror. The mirror is particularly useful as a collector mirror such as a normal incidence collector for laser produced plasma EUV sources and is useful for device lithography and in lithography apparatus.
摘要翻译：用于反射具有5至20nm的波长的EUV辐射的反射镜具有在堆叠上设置具有不同折射率的具有不同折射率的交替层材料对的多层堆叠，所述保护区域具有1至5对交替层的折射率不同的材料设置在多层堆叠上，使得折射率的大小的变化从多层堆叠继续通过保护区域。反射镜被布置成使得用于反射的辐射在入射到多层堆叠之前入射到保护区域上。选择保护区域的材料，以在使用时由氢原子或离子（例如来自EUV等离子体源）进行轰击时具有高的起泡形成能力。例如，多层堆叠可以是具有氮化硅/钼的保护区域的硅/钼。保护区域用于防止氢原子或离子渗入和起泡反射镜，但不会导致反射镜的反射率过度损失。该反射镜特别适用于诸如用于激光产生的等离子体EUV源的正入射收集器的集电镜，并且可用于器件光刻和光刻设备。

29. 发明申请

WO2010100078A1 ILLUMINATION SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF FORMING AN ILLUMINATION MODE 审中-公开
标题翻译：照明系统，光刻设备和形成照明模式的方法
公开(公告)号：WO2010100078A1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：PCT/EP2010/052432
申请日：2010-02-25
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , LOOPSTRA, Erik , VAN INGEN SCHENAU, Koen , VAN SCHOOT, Jan , WAGNER, Christian , DE VRIES, Gosse
发明人： LOOPSTRA, Erik , VAN INGEN SCHENAU, Koen , VAN SCHOOT, Jan , WAGNER, Christian , DE VRIES, Gosse
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Provided is an illumination system of a lithographic apparatus, the illumination system having a plurality of reflective elements arranged to receive radiation from a radiation source, the reflective elements being movable between different orientations. In the different orientations the reflective elements direct radiation towards different locations at a reflective component in a pupil plane of the illumination system, thereby forming different illumination modes. Each reflective element is moveable between a first orientation which directs radiation towards a first location the pupil plane and a second orientation which directs radiation towards a second location in the pupil plane, the first orientation and the second orientation of the reflective element being defined by end stops.
摘要翻译：提供了一种光刻设备的照明系统，所述照明系统具有布置成接收来自辐射源的辐射的多个反射元件，所述反射元件可在不同取向之间移动。在不同的取向中，反射元件将辐射引导到照明系统的光瞳平面中的反射分量处的不同位置，从而形成不同的照明模式。每个反射元件可以在将辐射引导到瞳孔平面的第一位置的第一取向和朝向瞳孔平面中的第二位置引导辐射的第二取向之间移动，反射元件的第一取向和第二取向由端部停止。

30. 发明申请

WO2008113499A1 TRANSPORTCONTAINER 审中-公开
标题翻译：运输容器
公开(公告)号：WO2008113499A1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/EP2008/001966
申请日：2008-03-12
申请人： WANZI METALWARENFABRIK GMBH , WAGNER, Christian , WANNINGER, Lothar , LIEBHABER, Helmut
发明人： WAGNER, Christian , WANNINGER, Lothar , LIEBHABER, Helmut
IPC分类号： B62B3/00 , B62B3/02
CPC分类号： B62B3/002 , B62B3/025 , B62B2205/006
摘要： Die Erfindung betrifft einen von Hand bewegbaren Transportcontainer mit einem Fahrgestell (2), mit einem Boden (3), mit Rollen (4), mit Seitenteilen (5), wobei jedes Seitenteil (5) von einem Rahmen (6) umfasst und aus waagrechten und senkrechten Stäben (7, 8) gebildet ist. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass jeder waagrechte Stab (7) an wenigstens einem seiner Enden (7.1 ) und/oder (7.2) eine Kröpfung (9) aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种具有一个底架的可移动手携带容器（2）具有底部（3），辊子（4），具有侧部（5），其中，每个侧部（5）的框架（6）和水平和垂直杆（7,8）形成。本发明的特征在于，在其端部中的至少一个（7.1）和/或（7.2）每个水平杆（7）具有偏移（9）。

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