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21. 发明申请

WO2005059653A3 POLARISATIONSOPTISCH WIRKSAME VERZÖGERUNGSANORDNUNG FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005059653A3
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/012707
申请日：2004-11-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Verzögerungsanordnung (50) zur Umwandlung eines von einer Eingangsseite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsst rahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzögerungsanord nung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen aufweist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Eingangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebildet. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzögerungsberei chen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ort sabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von unerwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsst rahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände g enutzt werden,Eine Verzögerungsanordnung zur Umwandlung eines von einer Eingangs seite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsstrahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzöger ungsanordnung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen . a weist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Ein gangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebild et. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzöger ungsbereichen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ortsabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von un erwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsstrahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände genutzt werden, z.B. zur Einstellung von radialer oder tangentialer Polarisation.

22. 发明申请

WO2009013230A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的光学系统
公开(公告)号：WO2009013230A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059435
申请日：2008-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
发明人： MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B5/205 , G02B5/283 , G02B26/001 , G02B26/0825 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus. To permit comparatively flexible and fast influencing of intensity distribution and/or the polarization state, an optical system according to the invention comprises at least one layer system (120, 200) which is at least one-side bounded by a lens or a mirror, wherein said layer system (120, 200) is an interference layer system of several layers and has at least one liquid or gaseous layer portion (123, 220) whose maximum thickness is at a maximum 1 micrometer (μm), and a manipulator (105) for manipulation of the thickness profile of said layer portion (123, 220).
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的光学系统。为了允许强度分布和/或偏振状态的相对灵活和快速的影响，根据本发明的光学系统包括至少一个由透镜或反射镜限定的一个层系统（120,200）其中所述层系统（120,200）是几层的干涉层系统，并且具有至少一个最大厚度最大为1微米（μm）的液体或气体层部分（123,220）和机械手（105）），用于操纵所述层部分（123,220）的厚度分布。

23. 发明申请

WO2006061225A1 TRANSMITTING OPTICAL ELEMENT AND OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：发射光学元件和微观投影曝光装置的目的
公开(公告)号：WO2006061225A1
公开(公告)日：2006-06-15
申请号：PCT/EP2005/013166
申请日：2005-12-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CLAUSS, Wilfried , TOTZECK, Michael , MUELLER-RISSMANN, Werner
发明人： CLAUSS, Wilfried , TOTZECK, Michael , MUELLER-RISSMANN, Werner
IPC分类号： G02B1/02 , C04B35/443 , G03F7/20
CPC分类号： C04B35/443 , C04B35/053 , C04B35/44 , C04B35/6455 , C04B2235/3225 , C04B2235/72 , C04B2235/762 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/9646 , G02B1/02 , G03F7/70341 , G03F7/70941 , G03F7/70958
摘要： A transmitting optical element (33, 37) adapted for use in an objective for a microlithographic projection exposure apparatus is composed of a polycrystalline material (100), with the polycrystalline material (100) having crystallites (102) with a cubic crystal structure, and with the mean crystallite size of these crystallites (102) being at least (0.5) micrometers, and at most (100) micrometers.
摘要翻译：适用于微光刻投影曝光装置的物镜的发射光学元件（33,37）由多晶材料（100）组成，多晶材料（100）具有立方晶体结构的微晶（102），以及这些微晶（102）的平均微晶尺寸为至少（0.5）微米，至多（100）微米。

24. 发明申请

WO2006021540A3 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006021540A3
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/054070
申请日：2005-08-18
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/18 , G02B27/00 , G02B27/44
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.

25. 发明申请

WO2005119369A1 PROJECTION SYSTEM WITH COMPENSATION OF INTENSITY VARIATONS AND COMPENSATION ELEMENT THEREFOR 审中-公开
标题翻译：具有强度变化补偿的投影系统及其补偿元件
公开(公告)号：WO2005119369A1
公开(公告)日：2005-12-15
申请号：PCT/EP2005/005979
申请日：2005-06-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHEIBLE, Patrick , PAZIDIS, Alexandra , GARREIS, Reiner , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , GRÄUPNER, Paul , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
发明人： SCHEIBLE, Patrick , PAZIDIS, Alexandra , GARREIS, Reiner , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , GRÄUPNER, Paul , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B13/02 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70308
摘要： In a projection objective for imaging a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective, at least one optical component is provided which has a substrate in which at least one substrate surface is covered with an interference layer system having a great spatial modulation of the reflectance and/or of the transmittance over a usable cross section of the optical component, the modulation being adapted to a spatial transmission distribution of the remaining components of the projection objective in such a way that an intensity distribution of the radiation that is measured in a pupil surface has a substantially reduced spatial modulation in comparison with a projection objective without the interference layer system.
摘要翻译：在将投影物镜的物平面中布置的图案成像到投影物镜的像平面中的投影物镜中，提供至少一个光学部件，该光学元件具有基板，其中至少一个基板表面被干涉层覆盖系统具有在光学部件的可用横截面上的反射率和/或透射率的大的空间调制，该调制适于投影物镜的其余部件的空间传输分布，使得强度分布与没有干涉层系统的投射物镜相比，在瞳孔表面中测量的辐射具有显着降低的空间调制。

26. 发明申请

WO2005076078A2 MASKE ZUR VERWENDUNG IN EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： MASK FOR USE IN的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2005076078A2
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：PCT/EP2005/000640
申请日：2005-01-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , MAUL, Manfred
发明人： TOTZECK, Michael , MAUL, Manfred
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F1/50 , G03F1/54
摘要： Eine Maske zur Verwendung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) weist einen Träger (40) auf, auf den ein Muster aus lichtundurchlässigen Strukturen (44) aufgebracht ist. Um die Polarisationsabhängigkeit des Transmissionsvermögens zu verringern, enthalten die Strukturen (44) ein Material mit einem Brechungsindex, dessen Imaginärteil größer als 1,8 und vorzugsweise größer als 2,2 ist. Bei einem solchen Material kann es sich beispielsweise um Silizium handeln. Alternativ oder zusätzlich hierzu kann sich in einem Zwischenraum (48) zwischen zwei Strukturen (442) ein dielektrisches Material (54) befinden, das die Strukturen (44) nicht berührt. Eine Verringerung der Polarisationsabhängigkeit des Absorptionsvermögens wird auch durch eine dielektrische Beschichtung (60) der Strukturen (44) erzielt.
摘要翻译：一种用于在微光刻投射曝光设备（10）使用掩模包括在其上施加不透明结构（44）的图案的支撑件（40）。为了减少结构（44）的透射率的偏振依赖性包括具有折射率虚部大于1.8和优选大于2.2的材料。在这样的材料例如可以是硅。或者或另外，可以是在两个结构（442）之间的中间空间（48）是介电材料（54）不影响结构（44）。在吸收能力的偏振波依赖性的降低也由结构（44）的电介质涂层（60）来实现的。

27. 发明申请

WO2013026750A1 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR THE PATTERNED EXPOSURE OF A LIGHT-SENSITIVE LAYER 审中-公开
标题翻译：曝光装置及其感光层的曝光方法
公开(公告)号：WO2013026750A1
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：PCT/EP2012/065930
申请日：2012-08-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FIOLKA, Damian , BAIER, Jürgen , TOTZECK, Michael
发明人： FIOLKA, Damian , BAIER, Jürgen , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G01N21/64 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70375 , G03F7/70391 , G03F7/704
摘要： The invention relates to an exposure apparatus (5), comprising: a substrate (6) with a light-sensitive layer (1), a generating device (7) for generating a plurality of exposure rays (3) having an exposure wavelength (λ B ), wherein each exposure ray (3) is assigned to a partial region of the light-sensitive layer (1) and the generating device (7) is designed to generate exposure rays (3) having a maximum intensity that lies above an intensity threshold value for converting the light-sensitive layer (1) from a second state into a first state, a movement device (13) for moving the exposure rays (3) relative to the respectively assigned partial region, and an excitation light source (31) for generating excitation radiation (32) having an excitation wavelength (λ Α ) for converting the light-sensitive layer (1) from the first state into the second state. The invention also relates to an associated exposure method.
摘要翻译：本发明涉及一种曝光装置（5），包括：具有感光层（1）的基板（6），用于产生具有曝光波长（λ）的多个曝光光线（3）的发光装置（7） B），其中每个曝光光线（3）被分配给光敏层（1）的部分区域，并且生成装置（7）被设计成产生具有高于强度的最大强度的曝光光线（3）用于将感光层（1）从第二状态转换为第一状态的阈值，用于相对于分配的部分区域移动曝光光线（3）的移动装置（13）和激发光源（31 ），用于产生具有用于将感光层（1）从第一状态转换成第二状态的激发波长（λ1）的激发辐射（32）。本发明还涉及相关的曝光方法。

28. 发明申请

WO2012013604A1 MESSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BESTIMMEN EINES EINE ELEKTRISCHE EIGENSCHAFT EINER DÜNNSCHICHT AUF EINEM TRÄGER BESCHREIBENDEN ERSTEN PARAMETER 审中-公开
标题翻译：测量装置和一种用于确定薄膜的性能的电动载描述所述第一参数
公开(公告)号：WO2012013604A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062672
申请日：2011-07-22
申请人： CARL ZEISS AG , TOTZECK, Michael , WEGENDT, Holger , KARTAL, Ersun , WIDULLE, Frank
发明人： TOTZECK, Michael , WEGENDT, Holger , KARTAL, Ersun , WIDULLE, Frank
IPC分类号： G01N21/55
CPC分类号： G01N21/553 , G01N21/211 , G01N21/8422
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bestimmen eines eine elektrische Eigenschaft einer Dünnschicht (3) auf einem Träger (1) beschreibenden ersten Parameter, wobei die Dünnschicht (3) zumindest bereichsweise über ihre Fläche (4) beleuchtet wird, wobei das Beleuchtungslicht (18) wellenlängespezifisch unter einem derartigen Winkel (ß) auf die Dünnschicht (3) eingestrahlt wird, dass innerhalb der Dünnschicht (3) zumindest eine optische Resonanzbedingung (7) auftritt, und das unter dieser Resonanzbedingung (7) von der Dünnschicht (3) abgestrahlte Licht (21) und ein dadurch erzeugtes Streufeld (21) erfasst und ausgewertet wird, wobei abhängig von Änderungen im Streufeld Änderungen des ersten Parameters erkannt werden. Die Erfindung betrifft auch eine Messvorrichtung (11) zum Bestimmen eines eine elektrische Eigenschaft einer Dünnschicht (3) auf einem Träger beschreibenden Parameter.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在载体上确定的薄膜（3）的电特性（1）描述第一参数，其中所述薄膜（3）至少在在其表面上的区域（4）被照亮时，其特征在于，所述照明光（18）波长特异性以这样的角度（SS）到膜（3）照射，该至少一个光学谐振条件（7）的薄膜（3）内发生，和从薄层（3）的光该共振条件（7）下照射（21 检测）和所产生的，从而杂散场（21）和评价，响应于在所述第一参数的杂散场的变化而变化所识别。本发明还涉及一种用于确定的薄膜（3）在载体上的描述性参数的电性能的测量设备（11）。

29. 发明申请

WO2012097833A1 METHOD OF OPERATING A PROJECTION EXPOSURE TOOL 审中-公开
标题翻译：投影曝光工具的操作方法
公开(公告)号：WO2012097833A1
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：PCT/EP2011/000225
申请日：2011-01-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , CONRADI, Olaf , TOTZECK, Michael , LÖRING, Ulrich , JÜRGENS, Dirk , MÜLLER, Ralf , WALD, Christian
发明人： CONRADI, Olaf , TOTZECK, Michael , LÖRING, Ulrich , JÜRGENS, Dirk , MÜLLER, Ralf , WALD, Christian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70141 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/708
摘要： A method of operating a projection exposure tool (10) for microlithography is provided. The projection exposure tool (10) has a projection objective (26) for imaging object structures on a mask (20) into an image plane (28) using electromagnetic radiation (13, 13a, 13b), during which imaging the electromagnetic radiation (13b) causes a change in optical properties of the projection objective (26). The method comprises the steps of: providing the layout of the object structures on the mask (20) to be imaged and classifying the object structures according to their type of structure, calculating the change in the optical properties of the projection objective (26) effected during the imaging process on the basis of the classification of the object structures, and using the projection exposure tool (10) for imaging the object structures into the image plane (28), wherein the imaging behavior of the projection exposure tool (10) is adjusted on the basis of the calculated change of the optical properties in order to at least partly compensate for the change of the optical properties of the projection objective (26) caused by the electromagnetic radiation (13, 13a, 13b) during the imaging process.
摘要翻译：提供了一种操作用于微光刻的投影曝光工具（10）的方法。投影曝光工具（10）具有用于使用电磁辐射（13,13a，13b）将掩模（20）上的物体结构成像到图像平面（28）中的投影物镜（26），在此期间对电磁辐射（13b）进行成像）导致投影物镜（26）的光学特性的变化。该方法包括以下步骤：在要成像的掩模（20）上提供对象结构的布局，并根据其结构类型对对象结构进行分类，计算投影物镜（26）的光学特性的变化在所述成像处理期间，基于所述物体结构的分类，以及使用所述投影曝光工具（10）将所述物体结构成像到所述图像平面（28）中，其中所述投影曝光工具（10）的成像特性为基于所计算的光学特性的变化进行调整，以至少部分地补偿由成像过程中的电磁辐射（13,13a，13b）引起的投影物镜（26）的光学特性的变化。

30. 发明申请

WO2012034774A1 MESSVORRICHTUNG ZUM OPTISCHEN ERFASSEN VON EIGENSCHAFTEN EINER PROBE 审中-公开
标题翻译：测量装置用于样品的性能的光学检测
公开(公告)号：WO2012034774A1
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：PCT/EP2011/063314
申请日：2011-08-02
申请人： CARL ZEISS AG , WIDULLE, Frank , TOTZECK, Michael , KOOS, Christian
发明人： WIDULLE, Frank , TOTZECK, Michael , KOOS, Christian
IPC分类号： G01N21/21 , G01N21/41 , G01N21/47
CPC分类号： G01N21/4795 , G01N21/211 , G01N21/41
摘要： Beschrieben wird eine Meßvorrichtung zum optischen Erfassen von Eigenschaften einer Probe (P), umfassend einen FD-OCT (1), der einen Beleuchtungsstrahlengang zur Beleuchtung eines linienförmigen Bereiches der Probe (P), einen Detektionsstrahlengang zur Erfassung von Rückstrahlung von der Probe (P), eine Überlagerungseinrichtung (3) zur Überlagerung der erfaßten Rückstrahlung mit Referenzstrahlung und ein Spektrometer (5) aufweist, wobei die Rückstrahlung sich längs einer Linienrichtung linienförmig erstreckt, welche quer zur Ausbreitungsrichtung der Rückstrahlung liegt, und wobei die Linienform dem linienförmigen Probenbereich zugeordnet ist, und wobei das Spektrometer (5) die linienförmige Rückstrahlung quer zur Linienrichtung spektral auffächert und auf einen 2D-Detektor (8) leitet, der eine Matrix von Detektorpixeln (23) aufweist, wobei dem Detektor (8) ein Polarisationsfilter (7) vorgeordnet ist, der in einer Matrix angeordnete, polarisationsmanipulierende Elemente (32-35) aufweist, wobei die Matrix der polarisationsmanipulierenden Elemente (32-35) der Matrix der Detektorpixel (23) entspricht und wobei mehrere Arten von polarisationsmanipulierenden Elementen (32-35) vorgesehen sind, die sich hinsichtlich der von ihnen gefilterten Polarisationszustände unterscheiden und sich in der Matrix der polarisationsmanipulierenden Elemente (32-35) in einem bestimmten Muster wiederholen.
摘要翻译：描述了一种测量装置用于光学检测的样品（P）的特征，包括（1）具有用于照射所述样品（P），用于从样品中检测返回辐射的（P）的检测光束路径的线性区域的照明光束路径中的FD-OCT 具有叠加装置（3），用于与参考辐射和光谱仪检测到的返回辐射的叠加（5），其中，所述反向散射沿横向于反射的传播方向的直线方向上线性延伸，并且所述线的形状被指派给线状样品面积和其中，所述分光计（5）光谱扇出线状反射横向于线方向和二维检测器（8）通过，其包括检测器像素的矩阵（23），其中，所述检测器（8）一个偏振滤光器（7）布置的上游配置成矩阵状，偏振操纵元件（ 32-35），其中，所述偏振操纵元件（基质32-35）对应于检测器像素的矩阵（23），并且其中设置有多种类型的偏振操纵元件（32-35），其相对于不同于滤波从它们的偏振状态和重演以特定图案的偏振操纵元件（32-35）的基质中。

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