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1. 发明申请

WO2007019886A1 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：光学系统中，透镜或照明UP的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007019886A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/EP2005/055888
申请日：2005-11-10
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70158
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung, wobei das Füllverhältnis der Einzel-Substrukturen in Erstreckungsrichtung zur Periode in Abhängigkeit von der Position senkrecht zur Erstreckungsrichtung so gewählt ist, dass für einen von zwei zueinander orthogonalen Polarisationszuständen der elektromagnetischen Strahlung die Blazewirkung optimiert ist.
摘要翻译：本发明涉及的照明装置或微光刻投射曝光设备的投射物镜，其具有具有多个火焰结构中的至少一个衍射光学元件来实现火焰的效果，每一个包括多个关心的闪耀效果个体子结构，其根据在延伸方向以预定的周期各自闪耀结构并列设置，在每个所述在封闭的几何表面的形式平面图单自己的子结构，定向平行于延伸方向的尺寸变化垂直于延伸方向，但总是小于所述电磁辐射的波长，且垂直于它们的最大尺寸延伸方向比所述电磁辐射的波长，在延伸方向上P上的各个子结构，其中，所述填充率大于 eriode一个功能由位置垂直于延伸方向，使得对于电磁辐射的两个相互正交的偏振状态中的一个闪耀效果被最优化选择。

2. 发明申请

WO2006021540A3 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006021540A3
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/054070
申请日：2005-08-18
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/18 , G02B27/00 , G02B27/44
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.

3. 发明申请

WO2009036941A2 BINÄR GEBLAZETES DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：二元流体不同的光学元件
公开(公告)号：WO2009036941A2
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/EP2008/007661
申请日：2008-09-16
申请人： CARL ZEISS AG , ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1819 , G02B5/1833 , G02B5/189
摘要： Ein binär geblazetes diffraktives optisches Element (10) weist eine Vielzahl von Beugungsstrukturen (16) auf, die sich im Wesentlichen parallel zueinander erstrecken und senkrecht zu ihrer Erstreckungsrichtung eine Breite g aufweisen, die größer als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, für welche das diffraktive optische Element (10) optimiert ist. Die Beugungsstrukturen (16) umfassen jeweils eine Reihe von Einzel-Substrukturen (18), die in der Draufsicht die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (16) gerichtete Abmessung in Richtung senkecht zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (16) variiert und deren senkrecht zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (16) gerichtete Abmessung größer als die effektive Wellenlänge ist. Erfindungsgeimäß tragen die Einzel-Substrukturen (18) formdoppelbrechende Strukturen (26), wodurch die Polarisationsabhängigkeit der Beugungseffizienz des diffraktiven optischen Elements (10) verringert wird.
摘要翻译：
仓BEAR闪耀衍射光学元件（10）具有多个衍射结构（16），其大致平行具有延伸到彼此和g垂直于它们延伸的方向的宽度GR＆ouml;大街它被认为是衍射光学元件（10）被优化的电磁辐射的有效波长。衍射结构（16），每个包括多个在平面图中个别子结构（18）的观看闭合几何FL BEAR的形状有枝，其平行于延伸的衍射结构（16）的方向引导的尺寸senkecht到衍射结构的延伸方向（ 16）并且其垂直于衍射结构（16）的延伸方向的尺寸大于有效波长。 Erfindungsgeim＆AUML;大街上是各个子结构（18）的形式双折射结构（26），由此所述偏振BEAR。降低衍射光学元件的衍射效率的关系（10）

4. 发明申请

WO2008110501A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：投影镜头的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2008110501A1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：PCT/EP2008/052736
申请日：2008-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RUOFF, Johannes , DODOC, Aurelian
发明人： RUOFF, Johannes , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14 , G02B17/08
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70966
摘要： Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht, welches eine optische Achse (OA) aufweist, mit wenigstens einer Linse (143, 345) aus einem kubisch kristallinen Material, deren [110]-Kristallorientierung in einem Winkel von maximal 15° zur optischen Achse (OA) orientiert ist, und wenigstens einem Polarisationskorrekturelement, welches wenigstens zwei Teilelemente aus doppelbrechendem Material und mit jeweils wenigstens einer asphärischen Oberfläche aufweist, wobei das Polarisationskorrekturelement eine intrinsische Doppelbrechung der besagten wenigstens einen Linse (143, 345) zumindest teilweise kompensiert.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备的投射物镜用于具有光轴（OA）的光敏层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的，具有至少一个透镜（143，345）制成的立方晶体材料构成，则 [110]晶体取向在至多15°的光轴（OA）的角度定向，并且具有至少一个非球面表面，其中，所述偏光状态调整元件是所述的固有双折射具有双折射材料中的至少两个子元件和至少一个偏振校正元件每的至少一个透镜（143，345）至少部分地被补偿。

5. 发明申请

WO2011157643A1 MASK FOR EUV LITHOGRAPHY, EUV LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR OPTIMISING THE IMAGING OF A MASK 审中-公开
标题翻译：用于EUV算法的掩码，用于优化掩模成像的EUV算法系统和方法
公开(公告)号：WO2011157643A1
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：PCT/EP2011/059669
申请日：2011-06-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUOFF, Johannes , KRÄHMER, Daniel
发明人： RUOFF, Johannes , KRÄHMER, Daniel
IPC分类号： G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70141 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/22 , G03F1/24
摘要： The invention relates to a mask (105) for EUV lithography- comprising : a substrate (107), a multi-layer coating (108) applied to the substrate (107) and a mask structure (109) which is applied to the multi-layer coating (108) and which has an absorber material, the mask structure (109) having a maximum thickness of less than 100 nm, preferably not exceeding a maximum thickness of 30 nm, particularly preferably 20 nm, in particular 10 nm. The invention also relates to an EUV lithography system having such a mask (105) and a method for optimising the imaging of a mask (105).
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV光刻的掩模（105），包括：衬底（107），施加到衬底（107）的多层涂层（108）和掩模结构（109）（108），并且具有吸收材料，所述掩模结构（109）的最大厚度小于100nm，优选不超过最大厚度为30nm，特别优选为20nm，特别优选为10nm。本发明还涉及具有这种掩模（105）的EUV光刻系统和用于优化掩模（105）的成像的方法。

6. 发明申请

WO2008135110A3 ANZEIGEVORRICHTUNG UND ANZEIGEVERFAHREN ZUR BINOKULAREN DARSTELLUNG EINES MEHRFARBIGEN BILDES 审中-公开
公开(公告)号：WO2008135110A3
公开(公告)日：2008-11-13
申请号：PCT/EP2008/001843
申请日：2008-03-07
申请人： CARL ZEISS AG , SEESSELBERG, Markus , RUOFF, Johannes
发明人： SEESSELBERG, Markus , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G02B27/01 , G02B27/22 , G02B27/28
摘要： Es wird bereitgestellt eine Anzeigevorrichtung (1) zur binokularen Darstellung eines mehrfarbigen. Bildes, mit einem einzigen Bildelement (2), mit dem das darzustellende mehrfarbige Bild erzeugbar ist, einer Abbildungsoptik, die eine Kollimationsoptik (4) und ein der Kollimationsoptik nachgeordnetes transparentes Substrat (6) mit einem diffraktiven Einkoppelelement (8) und einem ersten und zweiten diffraktiven Auskoppelelement (10, 11), die voneinander beabstandet sind, aufweist, einer Steuereinheit (12) zur Ansteuerung des Bildelementes (2), wobei die Steuereinheit das Bildelement (2) so ansteuert, daß es das darzustellende Bild zeitlich nacheinander für den ersten Strahlengang (13) und für den zweiten Strahlengang (14) als erstes bzw, zweites Bild jeweils entgegen der chromatischen Aberration des entsprechenden Strahlengangs so vorverzerrt erzeugt, daß bei Darstellung des ersten und zweiten Bildes die im entsprechenden Strahlengang (13, 14) bewirkte chromatische Aberration kompensiert wird, und wobei die Anzeigevorrichtung ein Schaltmodul aufweist, das zeitlich synchron zur Erzeugung des ersten und zweiten Bildes dafür sorgt, daß das erste Bild nur über den ersten Strahlengang (13) und das zweite Bild nur über den zweiten Strahlengang (14) für einen Benutzer wahrnehmbar ist.

7. 发明申请

WO2012041339A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF REDUCING IMAGE PLACEMENT ERRORS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的光学系统和减少图像放置误差的方法
公开(公告)号：WO2012041339A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2010/005901
申请日：2010-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUOFF, Johannes , NEUMANN, Jens Timo , ZIMMERMANN, Jörg , HELLWEG, Dirk , JÜRGENS, Dirk
发明人： RUOFF, Johannes , NEUMANN, Jens Timo , ZIMMERMANN, Jörg , HELLWEG, Dirk , JÜRGENS, Dirk
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70116 , G03F7/70466 , G03F7/70566 , G03F7/70633
摘要： A method of reducing image placement errors in a microlithographic projection exposure apparatus comprises the steps of providing a mask (16), a light sensitive layer (22) and a microlithographic projection exposure apparatus (10) which images features (19) contained in the mask (16) onto the light sensitive surface (22) using projection light. In a next step image placement errors associated with an image of the features (10) formed on the light sensitive surface (22) are determined either by simulation or metrologically. Then an input state of polarization of the projection light is changed to an elliptical output state of polarization which is selected such that the image placement errors are reduced.
摘要翻译：一种在微光刻投影曝光装置中减少图像放置误差的方法包括以下步骤：提供掩模（16），光敏层（22）和微影印制投影曝光装置（10），其对包含在掩模中的特征（19）进行成像（16）使用投影光到达光敏表面（22）。在下一步骤中，通过模拟或计量确定与形成在光敏表面（22）上的特征（10）的图像相关联的图像放置误差。然后，投影光的输入偏振状态变为偏振的椭圆输出状态，其被选择为使得图像放置误差减小。

8. 发明申请

WO2013013947A2 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的光学系统及微型曝光方法
公开(公告)号：WO2013013947A2
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：PCT/EP2012/063102
申请日：2012-07-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph
发明人： SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/10 , G02B27/28 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B27/283 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The disclosure relates to optical systems of a microlithographic projection exposure apparatus, and to a microlithographic exposure method. According to an aspect of the disclosure, an optical system has a light source, a ray-splitting optical element (110, 310, 410, 510, 706), which splits a light ray incident on this element when the projection exposure apparatus is in operation into a first partial ray (S101, S301, S401, S501, S701) and a second partial ray (S102, S302, S402, S502, S702), with the first and the second partial ray having mutually orthogonal polarization directions, and at least one ray-deflecting optical element (205, 206, 330, 340, 350, 360, 370, 470, 530, 540, 710, 720, 730, 810, 820, 830) for generating a desired polarized illumination setting from the first partial ray (S101, S301, S401, S501, S701) and the second partial ray (S102, S302, S402, S502, S702), wherein the ray-splitting optical element (110, 310, 410, 510, 706) is arranged such that light incident on this ray-splitting optical element when the projection exposure apparatus is in operation has a degree of polarization of less than one.
摘要翻译：本公开涉及微光刻投影曝光设备的光学系统，并且涉及微光刻曝光方法。根据本公开的一个方面，光学系统具有光源，当投影曝光设备处于入射时将入射在该元件上的光线分开的光线分离光学元件（110,310,410,510,706）在第一和第二部分光线具有相互正交的偏振方向的情况下将第一部分光线（S101，S301，S401，S501，S701）和第二部分光线（S102，S302，S402，S502，S702）至少一个用于从第一个偏振照明装置产生期望的偏振照明设置的光线偏转光学元件（205,206,330,340,350,360,370,470,530,540,710,720,730,810,820,830）（110,310,410,510,706）排列的部分光线（S101，S301，S401，S501，S701）和第二部分光线（S102，S302，S402，S502，S702）使得当投影曝光装置在操作中时入射到该光线分离光学元件上的光具有小于1的偏振度。

9. 发明申请

WO2013007731A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影光刻照明光学单元
公开(公告)号：WO2013007731A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：PCT/EP2012/063520
申请日：2012-07-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank
发明人： HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/1815 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70891
摘要： An illumination optical unit for projection lithography has a first polarization mirror device (16) for the reflection and polarization of illumination light (3). A second mirror device (22), which is disposed downstream of the polarization mirror device (16), serves for the reflection of an illumination light beam (25). At least one drive device (21; 27) is operatively connected to at least one of the two mirror devices (16; 22). The two mirror devices (16; 22) are displaceable relative to one another with the aid of the drive device (21; 27) between a first relative position, which leads to a first beam geometry of the illumination light beam (25) after reflection at the second mirror device (22), and a second relative position, which leads to a second beam geometry of the illumination light beam (25) after reflection at the second mirror device (22), which is different from the first beam geometry. This results in a flexible predefinition of different illumination geometries, in particular of different illumination geometries with rotationally symmetrical illumination.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学单元具有用于照明光（3）的反射和偏振的第一偏振镜装置（16）。设置在偏振镜装置（16）下游的第二镜装置（22）用于照明光束（25）的反射。至少一个驱动装置（21; 27）可操作地连接到两个反射镜装置（16; 22）中的至少一个。借助于驱动装置（21; 27），两个反射镜装置（16; 22）可相对于彼此移动，该第一相对位置在第一相对位置之间，该第一相对位置在反射之后导致照明光束（25）的第一光束几何形状在第二反射镜装置（22）和第二相对位置，其在第二反射镜装置（22）反射之后导致照明光束（25）的第二光束几何形状，其与第一光束几何形状不同。这导致不同照明几何形状的灵活预定义，特别是具有旋转对称照明的不同照明几何形状。

10. 发明申请

WO2021073821A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021073821A1
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：PCT/EP2020/075737
申请日：2020-09-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SIEGLER, Steffen , RUOFF, Johannes , WOLF, Alexander , CARL, Michael , GRUNER, Toralf , SCHICKETANZ, Thomas
发明人： SIEGLER, Steffen , RUOFF, Johannes , WOLF, Alexander , CARL, Michael , GRUNER, Toralf , SCHICKETANZ, Thomas
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G01M11/00 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen, in einer interferometrischen Prüfanordnung, wenigstens einer ersten Interferogramm-Messung an dem optischen Element durch Überlagerung einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an einem diffraktiven Element erzeugten und an dem optischen Element reflektierten Prüfwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten Referenzwelle, Durchführen wenigstens einer weiteren Interferogramm-Messung an jeweils einem Kalibrierspiegel zur Ermittlung von Kalibrierkorrekturen, und Bestimmen der Passe des optischen Elements basierend auf der an dem optischen Element durchgeführten ersten Interferogramm-Messung und der ermittelten Kalibrierkorrekturen. Dabei werden für den wenigstens einen Kalibrierspiegel wenigstens zwei Interferogramm-Messungen durchgeführt, welche sich hinsichtlich des Polarisationszustandes der elektromagnetischen Strahlung voneinander unterscheiden.

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