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1. 发明申请

WO2005059653A3 POLARISATIONSOPTISCH WIRKSAME VERZÖGERUNGSANORDNUNG FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005059653A3
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/012707
申请日：2004-11-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Verzögerungsanordnung (50) zur Umwandlung eines von einer Eingangsseite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsst rahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzögerungsanord nung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen aufweist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Eingangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebildet. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzögerungsberei chen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ort sabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von unerwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsst rahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände g enutzt werden,Eine Verzögerungsanordnung zur Umwandlung eines von einer Eingangs seite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsstrahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzöger ungsanordnung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen . a weist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Ein gangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebild et. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzöger ungsbereichen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ortsabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von un erwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsstrahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände genutzt werden, z.B. zur Einstellung von radialer oder tangentialer Polarisation.

2. 发明申请

WO2004111690A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV SOWIE VERFAHREN ZUM AUSWÄHLEN VON OPTISCHEN MATERIALIEN IN EINEM DERARTIGEN OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：投影镜头和方法，这样的镜头选择光材料
公开(公告)号：WO2004111690A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/EP2003/006402
申请日：2003-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
发明人： GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B1/02
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Ein Projektionsobjektiv (10) für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst mehrere Gruppen aufeinanderfolgender optischer Elemente. In wenigstens einer Gruppe sind wenigstens ein erstes optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall und wenigstens ein zweites optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall, das wenigstens zwei verschiedene Erdalkalimetalle enthält, angeordnet. Alle optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall und vorzugsweise keines der optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall erfüllen dabei die Bedingung m i = GPL i * DB (θ i ) ≥ S. Die Grösse m i ist ein jedem optischen Element L i zugeordneter Verzögerungsparameter, GPL i die geometrische Weglänge eines unter maximalem Öffnungswinkel auf das optische Element L i auftreffenden Aperturstrahls (28), θ i der Öffnungswinkel zwischen dem Aperturstrahl (28) und der optischen Achse (26) des optischen Elements L i , DB(θ i ) ein Mass für die Doppelbrechung des optischen Elements L i , das von dem Material und der Kristallorientierung des optischen Elements L i unabhängig ist, und S ein für alle optischen Elemente L i einheitlicher Schwellenwert. Das Projektionsobjektiv weist eine geringe Doppelbrechung auf und ist kostengünstiger, als wenn alle optischen Elemente aus teuren Mischkristallen beständen.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光设备的投影透镜（10）包括多个连续的光学元件的组。在至少一个基团是至少一种碱土金属氟化物结晶的第一光学元件和至少由含有至少两种不同的碱土金属碱土氟化物固溶体布置的第二光学元件。的碱土氟化物固体溶液和优选没有碱土金属氟化物晶体的光学元件的所有光学元件满足该条件MI = GPLi * DB（thetai）> = S的大小MI是每个光学元件栗相关联的延迟参数，GPLi入射在最大打开角度的光学构件栗孔径射线（28）的几何路径，thetai孔射线（28）和光学构件的光轴（26）之间的打开角度栗，DB（thetai）的双折射的测量光学部件的Li，是独立于所述光学部件Li的材料和晶体取向的，和S，一个，通用于所有光学元件李阈值。投影透镜具有低的双折射，是便宜比如果昂贵混晶种群的所有光学元件。

3. 发明申请

WO2003096124A1 LINSE AUS KRISTALLMATERIAL 审中-公开
标题翻译： LENS晶体材料
公开(公告)号：WO2003096124A1
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/EP2002/012690
申请日：2002-11-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ENKISCH, Birgit , ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf
发明人： ENKISCH, Birgit , ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70966 , B24B13/00 , G02B1/02 , G02B3/00
摘要： Verfahren zur Herstellung eines optischen Rohlings (1) aus einem Kristallmaterial als Vorstufe zur Herstellung einer Linse oder eines Linsenteils für ein Objektiv, insbesondere ein Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage. Bei dem Verfahren wird zunächst die Orientierung einer definiert innerhalb der Kristallstruktur orientierten ersten Kristallrichtung (3) bestimmt. Dann wird der optische Rohling (1) derart bearbeitet, dass die erste Kristallrichtung (3) im wesentlichen senkrecht auf einer optischen Roh-Fläche (7) des optischen Rohlings (1) steht. Dann wird eine Markierung auf dem optischen Rohling (1) oder auf einer Haltefassung des optischen Rohlings (1) aufgebracht, welche in einem definierten Zusammenhang zu einer zweiten Kristallrichtung (11) steht, welche einen von Null verschiedenen Winkel zur ersten Kristallrichtung (3) einnimmt.
摘要翻译：一种用于制造由液晶材料的作为前体的光学预型件（1），用于制造透镜或透镜用于微光刻投影曝光装置的透镜部，特别是投射物镜方法。在该过程中所述第一晶体方向（3）内取向的明确的晶体结构的取向，首先确定。然后，光学坯料（1）以这样的方式被加工，所述第一晶体方向（3）基本上垂直于光轴的原始表面（7）的光学预型件（1）。然后，将光学预型件上的标记（1）或光学坯料（1）的保持架被施加，这是在到第二结晶方向（11），它占据一个非零角度与第一晶体方向的定义的关系（3）上，

4. 发明申请

WO2002093209A3 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2002093209A3
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B1/02
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.

5. 发明申请

WO2002093209A2 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：用氟晶镜头镜头
公开(公告)号：WO2002093209A2
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70966 , G02B1/02 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70958 , Y10S359/90
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.
摘要翻译：透镜，在用于具有至少一种氟化物晶体透镜的微光刻投射曝光系统尤其投影透镜。获得减少的双折射的干扰影响，如果该透镜是（100）透镜与透镜轴线大致垂直于与其等效的{100}晶面或上的氟化物晶体的晶面。与具有至少两个氟晶透镜的透镜，如果氟化物晶体透镜的排列相对于彼此旋转时，它是有利的。氟化物晶体透镜的透镜轴可以由此除（100）晶具有在（111）在（110）晶向-or。通过同时使用基团的实现双折射的干扰影响进一步减小与相互旋转（100）-lenses并用相互旋转（111）透镜或（110）的透镜组。通过用补偿涂层的光学元件的可用性实现双折射的干扰影响进一步降低。

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