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1. 发明申请

WO2005069355A1 露光装置及びデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005069355A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/JP2005/000228
申请日：2005-01-12
申请人：株式会社ニコン , 辻寿彦 , 白石健一 , 長坂博之 , 中野勝志
发明人：辻寿彦 , 白石健一 , 長坂博之 , 中野勝志
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70775
摘要：　投影光学系と基板との距離が近接している場合であっても、容易に投影光学系と基板或いは基板ステージとの衝突を回避することができる露光装置を提供する。マスク（Ｒ）に形成されたパターン（ＰＡ）を基板（Ｗ）上に投影して転写する投影光学系（３０）と、投影光学系（３０）の下方に配置され、基板（Ｗ）を支持しつつ投影光学系（３０）の光軸（ＡＸ）方向に略直交する方向に移動する基板ステージ（４２）とを有する露光装置ＥＸにおいて、投影光学系（３０）の外周に配置され、基板ステージ（４２）或いは基板Ｗの光軸（ＡＸ）方向に沿った位置を検出する検出部（８１）と、検出部（８１）の検出結果に基づいて基板ステージ（４２）の移動を停止或いは反転させる制御装置（７０）とを備える。
摘要翻译：即使投影光学系统和基板距离彼此靠近，也能够容易地避免投影光学系统与基板或基板台之间的碰撞的曝光装置。曝光装置（EX）具有用于将形成在掩模（R）上的图案（PA）投影并传送到基板（W）的投影光学系统（30），并且具有放置在投影光学系统下方的基板台（30）并且在基本上垂直于投影光学系统（30）的光轴（AX）的方向的方向上支撑基板（W）的同时移动。曝光装置（EX）还具有设置在投影光学系统（30）的外周的检测部（81），并且检测基板台（42）沿着光轴（AX）的方向的位置，或基板（W），并且具有用于基于检测部（81）的检测结果停止或反转基板台（42）的移动的控制装置（70）。

2. 发明申请

WO2006030908A1 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：基板保持装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006030908A1
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/JP2005/017173
申请日：2005-09-16
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 渋田慎 , 中野勝志 , 吉田雄一 , 高岩宏明
发明人：長坂博之 , 渋田慎 , 中野勝志 , 吉田雄一 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , H01L21/6715 , H01L21/6838 , H01L21/68735 , H01L21/6875 , Y10T29/49002
摘要：　基板の裏面側への液体の浸入を防止できる基板保持装置を提供する。基板保持装置（ＰＨ）は、基材（ＰＨＢ）と、基材（ＰＨＢ）に形成され、基板（Ｐ）を保持する第１保持部（ＰＨ１）と、基材（ＰＨＢ）に形成され、第１保持部（ＰＨ１）で保持された処理基板（Ｐ）の周囲を囲むようにプレート部材（Ｔ）を保持する第２保持部（ＰＨ２）とを備えている。第２保持部（ＰＨ２）は、プレート部材（Ｔ）の裏面（Ｔｂ）側に第２空間（３２）が形成されるようにプレート部材（Ｔ）を保持している。プレート部材（Ｔ）の裏面（Ｔｂ）には、第１保持部（ＰＨ１）で保持された基板（Ｐ）と第２保持部（ＰＨ２）で保持されたプレート部材（Ｔ）との間のギャップ（Ａ）から浸入した液体（ＬＱ）を吸収する吸収部材（１００）が配置されている。
摘要翻译：能够防止液体进入基板的背面的基板保持装置。基板保持装置（PH）设置有基材（PHB），在基材（PHB）上形成的用于保持基板（P）的第一保持部（PH1），以及形成在基板用于通过围绕由第一保持部（PH1）保持的处理基板（P）的周围来保持板构件（T）的基材（PHB）。第二保持部（PH2）保持板构件（T），以在板构件（T）的后平面（Tb）侧形成第二空间（32）。在板状构件（T）的背面（Tb）上设置吸收构件（100），用于吸收从由第一保持部（T）保持的基板（P）之间的间隙（A）进入的液体（LQ） PH1）和由第二保持部（PH2）保持的板构件（T）。

3. 发明申请

WO2006080516A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2006080516A1
公开(公告)日：2006-08-03
申请号：PCT/JP2006/301508
申请日：2006-01-31
申请人：株式会社ニコン , 株式会社ニコンエンジニアリング , 河野博高 , 奥山猛 , 長坂博之 , 中野勝志
发明人：河野博高 , 奥山猛 , 長坂博之 , 中野勝志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要：　露光装置ＥＸは、液体ＬＱを回収する回収口２２と、光路空間Ｋ１に対して回収口２２の外側に設けられ、気体を吹き出す吹出口３２と、回収口２２と吹出口３２との間に設けられ、吹出口３２から吹き出された気体の少なくとも一部を排気する排気口４２とを備えている。投影光学系と基板との間の露光光の光路空間に満たされた液体の漏出を防止できる露光装置を提供する。
摘要翻译：公开了一种曝光装置（EX），包括用于回收液体（LQ）的回收口（22），相对于光路空间（K1）设置在回收口（22）外侧的吹气口（32））和布置在回收口（22）和吹出口（32）之间的排气口（42），用于排出通过吹出口（32）吹入的气体的至少一部分。因此，防止在该曝光装置中填充位于投影光学系统和基板之间的曝光光的光路空间的液体泄漏。

4. 发明申请

WO2006126522A1 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006126522A1
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/JP2006/310218
申请日：2006-05-23
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作 , 鈴木広介 , 中野勝志 , 大村泰弘
发明人：上原祐作 , 鈴木広介 , 中野勝志 , 大村泰弘
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/70558
摘要：　露光装置（１００）は、液体（Ｌｑ１）を含む光学系と、液体に入射するエネルギビーム（ＩＬ）のエネルギ情報を取得するためのセンサシステム（４６）と、該センサシステムを用いて取得されたエネルギ情報に基づいて、液体のエネルギ吸収に起因する、液体を含む光学系の光学特性の変動を予測し、該予測結果に基づき、物体（Ｗ）に対する露光動作を制御する制御装置５０とを備えている。この露光装置によれば、液体のエネルギ吸収に起因するその液体を含む光学系の光学特性の変動に影響されることのない露光動作が可能になる。
摘要翻译：曝光装置（100）设置有包括液体（Lq1）的光学系统; 传感器系统（46），用于获得要发射到液体中的能量束（1L）的能量信息; 以及控制器（50），其基于通过使用所述传感器系统获得的能量信息，预测由于液体能量吸收而包括液体的光学系统的光学特性的波动，并且基于（W）对预测结果。通过曝光装置，可以不受由于液体能量吸收引起的包括液体的光学系统的光学特性的波动的影响而进行曝光操作。

5. 发明申请

WO2004105107A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2004105107A1
公开(公告)日：2004-12-02
申请号：PCT/JP2004/007417
申请日：2004-05-24
申请人：株式会社ニコン , 小林直行 , 谷元昭一 , 水野恭志 , 白石健一 , 中野勝志 , 大和壮一
发明人：小林直行 , 谷元昭一 , 水野恭志 , 白石健一 , 中野勝志 , 大和壮一
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03B27/52 , G03F7/00 , G03F7/2041 , G03F7/70316 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70958 , G03F9/7015 , G03F9/7088 , G03F9/7096
摘要：　投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影し、基板Ｐを露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品７上に残留した液体を除去する液体除去機構４０を備えている。
摘要翻译：提供了一种曝光装置，其能够通过经由投影光学系统和液体将图案投影到基板上时通过去除不需要的液体来形成期望的装置图案。曝光装置经由投影光学系统和液体将图案图像投影到基板（P）上，以露出基板（P）。曝光装置包括用于从布置在投影光学系统的图像表面附近的部分（7）去除残留液体的液体移除机构（40）。

6. 发明申请

WO2006137410A1 露光装置及び露光方法、メンテナンス方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法，维护方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006137410A1
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/JP2006/312347
申请日：2006-06-20
申请人：株式会社ニコン , 長橋良智 , 中野勝志
发明人：長橋良智 , 中野勝志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/70858 , G03F7/70941 , G03F7/70975
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ）に液体（２）を供給する供給口（８）と、イオン化されたイオン液体（２Ａ、２Ｂ）を供給口（８）に供給する液体供給系（１０）とを備えている。
摘要翻译：曝光装置（EX）设置有用于向液体（2）供给曝光用光（EL）的光路空间（K）的供给口（8）和供给口（8）与电离液体（2A，2B）。

7. 发明申请

WO2006051909A1 露光方法、デバイス製造方法、及び基板审中-公开
标题翻译：曝光方法，装置制造方法和基板
公开(公告)号：WO2006051909A1
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：PCT/JP2005/020728
申请日：2005-11-11
申请人：株式会社ニコン , 中野勝志
发明人：中野勝志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/70341
摘要：　液体を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光方法を提供する。基板（Ｐ）上に液体（ＬＱ）を配置し、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光を照射して基板（Ｐ）を露光する露光方法において、基板（Ｐ）上に液体（ＬＱ）を配置した後、基板（Ｐ）から溶出した溶出物質を含む液体（ＬＱ）の露光光の光路方向における１ｍｍあたりの透過率をＲＰ、溶出物質が溶出される前の液体（ＬＱ）の露光光の光路方向における１ｍｍあたりの透過率をＲＷとしたとき、ＲＷ－ＲＰ ≦１．０×１０－３の条件を満足するように、基板（Ｐ）上に配置された液体（ＬＱ）中の溶出物質の濃度を設定する。
摘要翻译：提供一种能够优选在将液体保持在期望状态下进行曝光的曝光方法。根据曝光方法，将液体（LQ）布置在基板（P）上，并且经由液体（LQ）将曝光光施加到基板（P）上。设置在基板（P）上的液体（LQ）中的洗脱液的浓度被设定为满足条件R＆lt; p＆lt; p＆gt; p = 1.0×10 < 其中R p是在曝光光线的光程方向上每1mm含有从衬底（P）浸出的洗脱液的液体（LQ）的透射率在液体（LQ）被布置在基底（P）上之后，并且在洗脱液浸出之前，R w是液体（LQ）的透射率。

8. 发明申请

WO2007135990A1 露光方法及び装置、メンテナンス方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法和装置，维护方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007135990A1
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：PCT/JP2007/060228
申请日：2007-05-18
申请人：株式会社ニコン , 中野勝志
发明人：中野勝志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70925
摘要：　露光方法は、投影光学系ＰＬの像面側で移動する基板ステージＰＳＴ上の基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持し、液体供給機構１０から供給される液体１を用いて投影光学系ＰＬの像面側に液浸領域ＡＲ２を形成し、露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２とを介して基板Ｐを露光する。基板Ｐの露光を行わない期間中に、液浸領域ＡＲ２と基板ステージＰＳＴとを相対移動して基板ホルダＰＨ上部を洗浄するとともに、液浸領域ＡＲ２と計測ステージＭＳＴとを相対移動して、計測ステージＭＳＴ上部を洗浄する。洗浄時に液浸領域ＡＲ２を形成する液体として洗浄液を用い得る。液浸法で露光を行う際に、液体中への異物の混入を抑制して高解像度の液浸露光を高いスループットで実行することができる。
摘要翻译：在曝光方法中，在投影光学系统（PL）的像面侧移动的基板台（PST）上的基板保持架（PH）将基板（P）保持，浸渍区域（AR2）为通过使用从液体供给机构（10）供给的液体（1）在投影光学系统（PL）的像面侧形成基板（P），通过投影光学系统（PL）和浸渍区域（AR2）。在不进行基板（P）的曝光的期间，通过使浸渍区域（AR2）和基板台（PST）相对移动来清洗基板保持架（PH）的上部，通过相对移动浸入区域（AR2）和测量台（MST）来清洁测量级（MST）。清洁液中可以使用清洗液作为形成浸渍区域（AR2）的液体。在通过浸渍法进行曝光时，通过抑制异物混入液体，以大腿通过量进行高分辨率浸没曝光。

9. 发明申请

WO2007029828A1 解析方法、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：分析方法，曝光方法和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2007029828A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/JP2006/317901
申请日：2006-09-08
申请人：株式会社ニコン , 中野勝志
发明人：中野勝志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：　解析方法は、基板を現像する現像工程（ＳＡ６０）と、現像される前の基板の異常を計測する第１計測工程（ＳＡ５０）と、現像された後の基板の異常を計測する第２計測工程（ＳＡ７０）と、第１計測工程（ＳＡ５０）の計測結果及び第２計測工程（ＳＡ７０）の計測結果に基づいて、液体を介して露光された基板の露光不良を解析する解析工程（ＳＡ８０）とを含む。
摘要翻译：分析方法具有用于显影衬底的步骤（SA60），用于测量在显影之前衬底的异常的第一测量步骤（SA50），用于测量显影衬底的异常的第二测量步骤（SA70），以及用于基于第一测量步骤（SA50）和第二测量步骤（SA70）的测量结果分析通过液体暴露的衬底的曝光失败的步骤（SA80）。

10. 发明申请

WO2007001045A1 露光装置、基板処理方法、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，基板处理方法和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2007001045A1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：PCT/JP2006/312973
申请日：2006-06-29
申请人：株式会社ニコン , 藤原朋春 , 中野勝志
发明人：藤原朋春 , 中野勝志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70608
摘要：露光装置ＥＸは、基板Ｐ上に形成された薄膜Ｒｇ，Ｔｃの欠陥を検出する検出装置６０を備えている。液体ＬＱを介して基板Ｐが露光される液浸露光の場合には、薄膜Ｒｇ，Ｔｃの欠陥による液体の流出を未然に検知して、デバイスの生産性の低下を抑制し、露光装置の障害の発生を防止する。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有用于检测在基板（P）上形成的薄膜（Rg，Tc）的缺陷的检测器（60）。在基板（P）通过液体（LQ）曝光的液浸曝光中，在发生薄膜（Rg，Tc）之间的缺陷引起的液体流出被检测到，以抑制装置的生产率的降低，防止曝光装置发生干扰。

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