专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2010073795A1 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：照明光学系统，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2010073795A1
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：PCT/JP2009/067340
申请日：2009-10-05
申请人：株式会社ニコン , 田中裕久 , 水野恭志
发明人：田中　裕久 , 水野　恭志
IPC分类号： H01L21/027 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0966 , G03F7/70091 , G03F7/70191
摘要：照明光学系（１３）は、光源装置（１２）からの露光光ＥＬが入射した場合に照明光学系（１３）の照明光路内の照明瞳面（２７）に所定の光強度分布を形成するオプティカルインテグレータ（２６）と、オプティカルインテグレータ（２６）よりもレチクル（Ｒ）側であって且つ照明光学系（１３）の光軸方向において照明瞳面（２７）を含んで設定される第１調整領域（６３）内に配置され、入射する露光光（ＥＬ）の位置に応じて透過率特性が異なる透過フィルタ（６４）と、透過フィルタ（６４）を第１調整領域（６３）内において光軸方向に沿って移動させる移動機構（７０）と、を備えている。
摘要翻译：照明光学系统（13）包括：当曝光光（EL）在照明光学系统（13）的照明光路中时，在照明光瞳平面（27）上形成预定的光强度分布的光学积分器（26）从光源装置（12）入射; 布置在第一调整区域（63）中并且具有根据入射曝光光（EL）的位置而变化的透射因子特性的透射滤光器（64）。以及在第一调整区域（63）中沿着光轴方向移动发送滤波器（64）的移动机构（70）。第一调整区域63比光积分器（26）进一步设置在光掩膜（R）侧，并且在照明光学系统（13）的光路方向上包括照明光瞳面（27）。

2. 发明申请

WO2009101958A1 照明光学系、露光装置、デバイス製造方法、補正フィルター、及び露光光学系审中-公开
标题翻译：照明光学系统，曝光装置，装置制造方法，校正滤光片和曝光光学系统
公开(公告)号：WO2009101958A1
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：PCT/JP2009/052274
申请日：2009-02-12
申请人：株式会社ニコン , 村松浩二 , 谷津修 , 田中裕久 , 山本雅也 , 三宅範夫 , 水野恭志 , 高谷竜二 , 吉元梨沙 , 廣田弘之
发明人：村松浩二 , 谷津修 , 田中裕久 , 山本雅也 , 三宅範夫 , 水野恭志 , 高谷竜二 , 吉元梨沙 , 廣田弘之
IPC分类号： H01L21/027 , G02B3/00 , G02B3/06 , G02B3/08 , G02B5/00 , G02B7/00 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B3/06 , G02B3/08 , G02B19/0014 , G02B19/0047 , G02B27/0927 , G02B27/0988 , G03F7/70141 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要：照明光学系は、光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系であって、オプティカルインテグレータ（８）を有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３、４、７、８）と、前記オプティカルインテグレータの前記後側の光路の所定面に配置されて、該所定面に対する入射角度に応じて減光率が変化する減光率特性を備える減光手段（９）と、を備えている。
摘要翻译：一种用于通过来自光源（1）的光照射被照明面（M; W）的照明光学系统包括：具有光学积分器（8）的分布形成光学系统（3,4,7,8）和在光学积分器后面的照明光瞳上形成光瞳强度分布; 以及减光装置（9），其布置在光学积分器的后侧的光路的预定平面上，并且具有根据预定平面上的入射角度而变化的减光率。

3. 发明申请

WO2006016584A1 光学特性計測装置及び光学特性計測方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：光学特性测量装置，光学特性测量方法，曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006016584A1
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：PCT/JP2005/014585
申请日：2005-08-09
申请人：株式会社ニコン , 貝瀬浩二 , 藤井透 , 水野恭志
发明人：貝瀬浩二 , 藤井透 , 水野恭志
IPC分类号： H01L21/027 , G01M11/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70133 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/70566 , G03F7/706
摘要：　光学特性計測装置（９０）には、照明光を通過させるための開口部（９７）と、波面収差を計測するためのマイクロレンズアレイ（９８）と、照明光の偏光状態を計測するための偏光検出系（９９）を選択的に、照明光の光路上に配置する光学系ユニット（９３）が設けられているので、照明光学系の照明形状や大きさ、投影光学系の波面収差、照明光の偏光状態を合わせて計測することができる。そのため、例えば、変形照明の一種である偏光照明により露光を行う場合にも、その計測結果に基づいて各種光学系を調整すれば、高精度な露光を実現することができる。
摘要翻译：光学特性测量装置（90）包括用于通过照明光的开口（97），用于测量波前像差的微透镜阵列（98）和用于选择性地布置偏振光检测系统（99）的光学系统单元（93）用于在照明光的光路上测量照明光的偏振状态。因此，光学特性测量装置（90）可以同时测量照明光学系统的照明形状和尺寸，投影光学系统的波前像差和照明光的偏振状态。例如，即使通过作为修改照明的一种的偏振光照进行曝光，也可以通过根据测量结果调整各种光学系统来实现高精度的曝光。

4. 发明申请

WO2010041522A1 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：照明光学系统，对准器和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2010041522A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/JP2009/064653
申请日：2009-08-21
申请人：株式会社ニコン , 谷津修 , 田中裕久 , 水野恭志
发明人：谷津　修 , 田中　裕久 , 水野　恭志
IPC分类号： H01L21/027 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70116 , G03F7/70191
摘要：　空間光変調器の複数の光学要素を経た光が過度に集光して光学部材を損傷させるのを回避する。光源（ＬＳ）からの光に基づいて被照射面（Ｍ）を照明する照明光学系（ＩＬ）は、二次元的に配列されて個別に駆動される複数の光学要素を有する空間光変調器（４）と、空間光変調器の複数の光学要素の駆動状態に関する情報を検知する検知部（ＤＴ）と、検知部からの情報に基づいて、空間光変調器よりも後側において複数の光学要素の配列面と光学的にフーリエ変換の位置にある所定面（６ａ）上の１点へ光が過度に集光する可能性を判断し、所定面へ向かう光の伝播を阻止または減衰させるための制御部（ＣＲ）とを備えている。
摘要翻译：避免了由在空间光调制器中通过多个光学元件的光的过度冷凝而导致的对光学部件的损害。根据来自光源（LS）的光来照射被照明的表面（M）的照明光学系统（IL）包括具有二维布置的多个光学元件的空间光调制器（4）用于检测关于空间光调制器中的多个光学元件的驱动状态的信息的检测部（DT），以及控制部（CR），其根据来自检测部的信息，确定相对于多个光学元件配置在空间光调制器的背面的表面位于光学傅立叶变换位置的预定表面（6a）上的一点上的光的过度冷凝，从而阻挡或衰减光朝向预定表面的传播。

5. 发明申请

WO2008007633A1 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：照明光学装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2008007633A1
公开(公告)日：2008-01-17
申请号：PCT/JP2007/063644
申请日：2007-07-09
申请人：株式会社ニコン , 水野恭志 , 重松幸二 , 村松浩二 , 田中裕久 , 谷津修
发明人：水野恭志 , 重松幸二 , 村松浩二 , 田中裕久 , 谷津修
IPC分类号： H01L21/027 , G02B21/12 , G02B21/18 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F1/70 , G03F7/70108 , G03F7/70208
摘要：　互いに離間した２つの領域を所要の照明条件で個別に照明することのできる照明光学装置。第１照明領域（Ｍ１）を照明する第１照明系と、第２照明領域（Ｍ２）を照明する第２照明系とを備えた照明光学装置。第１照明系は、第１照明系の照明瞳での光強度分布の形状または大きさを変化させる第１可変系（１１，１３，１４）を有し、第２照明系は、第２照明系の照明瞳での光強度分布の形状または大きさを変化させる第２可変系（２１，２３，２４）を有する。第１可変系および第２可変系は、第１照明系の照明瞳での光強度分布と第２照明系の照明瞳での光強度分布とを互いに独立に変化させる。
摘要翻译：提供一种能够在规定的照明条件下分开照射两个区域的照明光学装置。所述照明光学装置设置有用于照射第一照明区域（M1）的第一照明系统和用于照射第二照明区域（M2）的第二照明系统。第一照明系统具有用于改变第一照明系统的照明光瞳上的光强度分布的形状或尺寸的第一可变系统（11,13,14），并且第二照明系统具有第二可变系统（21,23， 24），用于改变第二照明系统的照明光瞳上的光强度分布的形状或尺寸。第一可变系统和第二可变系统独立地改变第一照明系统的照明光瞳上的光强度分布和第二照明系统的照明光瞳上的光强度分布。

6. 发明申请

WO2005078778A1 照明光学装置、偏光状態検出器、露光装置及び露光方法审中-公开
标题翻译：照明光学装置，极化状态检测器，曝光系统和曝光方法
公开(公告)号：WO2005078778A1
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：PCT/JP2005/000744
申请日：2005-01-21
申请人：株式会社ニコン , 廣田弘之 , 水野恭志
发明人：廣田弘之 , 水野恭志
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70566 , G01J4/00 , G02B5/001 , G03F7/70058
摘要：　光源部１からの光で被照射面Ｍを照明する照明光学装置において、前記光源部１と前記被照射面Ｍとの間の光路を進行する光束の偏光状態を検出するための偏光状態検出手段５０を備え、前記偏光状態検出手段５０は、錐体形状または錐体の一部の形状を有する光学面を備える光学素子と、前記光学素子を介した光の強度を検出する光強度検出器とを備える。
摘要翻译： 1.一种照明用于照射来自光源（1）的光的表面（M）的照明光学装置，其中，用于检测沿着光源（1）的光路前进的光束的偏光状态的偏振状态检测装置（50）提供光源（1）和被照射的表面（M），并且偏振状态检测装置（50）包括设置有具有棱锥形状或部分金字塔形状的光学表面的光学元件，以及光强检测器，用于检测经由光学元件行进的光的强度。

7. 发明申请

WO2004105107A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2004105107A1
公开(公告)日：2004-12-02
申请号：PCT/JP2004/007417
申请日：2004-05-24
申请人：株式会社ニコン , 小林直行 , 谷元昭一 , 水野恭志 , 白石健一 , 中野勝志 , 大和壮一
发明人：小林直行 , 谷元昭一 , 水野恭志 , 白石健一 , 中野勝志 , 大和壮一
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03B27/52 , G03F7/00 , G03F7/2041 , G03F7/70316 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70958 , G03F9/7015 , G03F9/7088 , G03F9/7096
摘要：　投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影し、基板Ｐを露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品７上に残留した液体を除去する液体除去機構４０を備えている。
摘要翻译：提供了一种曝光装置，其能够通过经由投影光学系统和液体将图案投影到基板上时通过去除不需要的液体来形成期望的装置图案。曝光装置经由投影光学系统和液体将图案图像投影到基板（P）上，以露出基板（P）。曝光装置包括用于从布置在投影光学系统的图像表面附近的部分（7）去除残留液体的液体移除机构（40）。

8. 发明申请

WO2005031799A2 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2005031799A2
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/JP2004/014693
申请日：2004-09-29
申请人：株式会社ニコン , 西永壽 , 引間郁雄 , 豊田光紀 , 中川正弘 , 萩原恒幸 , 水野恭志 , 北尚憲 , 谷津修 , 江村望
发明人：西永壽 , 引間郁雄 , 豊田光紀 , 中川正弘 , 萩原恒幸 , 水野恭志 , 北尚憲 , 谷津修 , 江村望
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要：　投影光学系ＰＬから液体ＬＱに入射した露光光のうち、光透過部４４に入射した露光光は、気体中を通過せずに光学部材４１に入射して収束される。露光装置は、投影光学系の開口数が増大しても投影光学系からの露光光を受光して、各種の計測を行うことができる。
摘要翻译：从投影光学系统（PL）进入液体（LQ）的曝光光的一部分进入透光部分（44），不经过气体而进入光学部件（41）并被聚焦。曝光装置接收即使投影光学系统的数值孔径增加，来自投影光学系统的曝光光进行各种测量。

9. 发明申请

WO2012169090A1 照明方法、照明光学装置、及び露光装置审中-公开
标题翻译：照明方法，照明光学装置和曝光装置
公开(公告)号：WO2012169090A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/JP2011/077730
申请日：2011-11-30
申请人：株式会社ニコン , 水野恭志
发明人：水野　恭志
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/7085 , G03F2007/2067
摘要：　光源から供給される照明光を用いてレチクル面を照明する照明方法は、空間光変調器の複数のミラー要素に対して入射光の反射角を制御するための駆動信号を設定することと、複数のミラー要素を介した照明光でレチクル面を照明することと、インテグレータセンサを介して照明光の積算エネルギーをモニタすることと、積算エネルギーのモニタ結果に基づいて複数のミラー要素の駆動信号を補正することとを含む。入射する光の状態を制御可能な複数の光学要素を用いて被照射面を照明する場合に、光強度分布の変動を抑制できる。
摘要翻译：使用从光源提供的照明光照亮标线片表面的照明方法包括：设置用于控制空间光调制器的多个镜像元件的入射光的反射角的驱动信号; 通过所述多个镜元件照明光照射所述掩模版表面; 通过积分传感器监测照明光的集成能量; 并根据积分能量的监视结果来校正多个镜像元件的驱动信号。使用能够控制入射光的状态的多个光学元件照射照射面时，可以抑制光强分布的波动。

10. 发明申请

WO2010032585A1 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：照明光学系统，光刻设备和制造设备的方法
公开(公告)号：WO2010032585A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：PCT/JP2009/064652
申请日：2009-08-21
申请人：株式会社ニコン , 田中裕久 , 水野恭志 , 谷津修 , 山本雅也
发明人：田中　裕久 , 水野　恭志 , 谷津　修 , 山本　雅也
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/00 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70108
摘要：　光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、照明瞳の直前または直後の位置に配置されて、被照射面上の１点に向かう光を減光する減光部材（９；９１，９２）とを備えている。減光部材は、被照射面の所定方向（Ｙ方向）に沿った一方の周辺における１点に向かう光の減光部材による減光率よりも他方の周辺における１点に向かう光の減光部材による減光率の方が大きいような姿勢で配置されている。
摘要翻译：一种用于利用来自光源（1）的光照射照射平面（M; W）的照明光学系统设置有光学积分器（8），形成光束的分布形成光学系统（3,4,7,8）在比光学积分器更远的背侧的照明光瞳处的光瞳强度分布以及设置在照明光瞳正前方或之后的位置处的减光部件（9; 91,92）减少了到达点在照射的平面上。减光部件的姿态被布置成使得减少沿着照射平面的预定方向（Y方向）的一侧附近的光的减光部件的减光率小于减光组件的光减少率减少了到另一个附近的光。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式