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1. 发明申请

WO2006126522A1 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006126522A1
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/JP2006/310218
申请日：2006-05-23
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作 , 鈴木広介 , 中野勝志 , 大村泰弘
发明人：上原祐作 , 鈴木広介 , 中野勝志 , 大村泰弘
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/70558
摘要：　露光装置（１００）は、液体（Ｌｑ１）を含む光学系と、液体に入射するエネルギビーム（ＩＬ）のエネルギ情報を取得するためのセンサシステム（４６）と、該センサシステムを用いて取得されたエネルギ情報に基づいて、液体のエネルギ吸収に起因する、液体を含む光学系の光学特性の変動を予測し、該予測結果に基づき、物体（Ｗ）に対する露光動作を制御する制御装置５０とを備えている。この露光装置によれば、液体のエネルギ吸収に起因するその液体を含む光学系の光学特性の変動に影響されることのない露光動作が可能になる。
摘要翻译：曝光装置（100）设置有包括液体（Lq1）的光学系统; 传感器系统（46），用于获得要发射到液体中的能量束（1L）的能量信息; 以及控制器（50），其基于通过使用所述传感器系统获得的能量信息，预测由于液体能量吸收而包括液体的光学系统的光学特性的波动，并且基于（W）对预测结果。通过曝光装置，可以不受由于液体能量吸收引起的包括液体的光学系统的光学特性的波动的影响而进行曝光操作。

2. 发明申请

WO2007000984A1 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007000984A1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：PCT/JP2006/312763
申请日：2006-06-27
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作 , 内川清 , 石山聡
发明人：上原祐作 , 内川清 , 石山聡
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70258
摘要：　照射装置（９１）による可動の光学素子（９０）に対する非露光光の照射による光学系（ＰＬＬ）の光学特性の調整と、光学特性調整装置による光学素子（９０）を動かすことによる光学系（ＰＬＬ）の光学特性を調整との組み合わせにより、例えば光軸から偏心した位置を中心とする光学素子の温度分布に起因する光学系の光学特性の変動を補正する。また、ダイポール照明条件下などでは、瞳（ＰＰ１，ＰＰ２，ＰＰ３）近傍の光学素子の非回転対称な温度分布に起因する光学系の光学特性を、光学特性調整装置により補正が容易な光学特性にするため、照射装置（９１Ａ）により光学素子（１１１）に対して非露光光を照射することでその光学素子（１１１）を回転対称な温度分布にする。これにより、照明光吸収に起因する光学系の光学特性の変動を効果的に補正することができる。
摘要翻译：通过利用照射装置（91）通过用非曝光光照射可移动光学元件（90）来调整光学系统（PLL）的光学特性，并通过移动光学元件（PLL）来调整光学系统（PLL）的光学特性（90）通过光学特性调整装置，可以校正光学系统的光学特性的波动，归因于光学元件围绕偏离光轴的位置的温度分布。此外，在偶极照明条件下，为了促进光学特性调整装置的校正，归因于光学元件在瞳孔附近（PP1，PP2，PP2）的非旋转对称性的温度分布的光学系统的光学特性， PP3），照射装置（91A）照射光学元件（111）的非曝光光，使得光学元件（111）具有旋转对称性的温度分布。因此，可以有效地校正归因于照明光吸收的光学系统的光学特性的波动。

3. 发明申请

WO2006025408A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006025408A1
公开(公告)日：2006-03-09
申请号：PCT/JP2005/015800
申请日：2005-08-30
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作
发明人：上原祐作
IPC分类号： H01L21/027 , G02B7/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B27/0068
摘要：　投影光学系で生ずる非回転対称な収差成分を効率的に補正することができる露光装置等を提供する。投影光学系（ＰＬ）の動的な非回転対称な光学特性を調整する調整機構（４０など）、及び投影光学系（ＰＬ）の静的な非回転対称な光学特性を調整する調整機構（２２など）が搭載されている。また、主制御系（２０）は、投影光学系（ＰＬ）の像面に共役な面の露光光（ＩＬ）の断面形状及び大きさに応じて投影光学系（ＰＬ）の光学特性を調整する調整機構（４０など）の調整量を変更する。
摘要翻译：一种有效地校正在投影光学系统中产生的旋转非对称像差分量的曝光装置等。曝光装置设置有用于调整投影光学系统（PL）的动态旋转不对称光学特性的调整机构（40等）和用于调整投影光学系统的静态旋转不对称光学特性的调节机构（22等）（PL）。主控制系统（20）根据曝光光线（IL）的截面形状和大小来调整调整投影光学系统（PL）的光学特性的调整机构（40等）的调整量耦合到投影光学系统（PL）的像面的平面。

4. 发明申请

WO2005022614A1 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法和装置，以及装置制造方法
公开(公告)号：WO2005022614A1
公开(公告)日：2005-03-10
申请号：PCT/JP2004/012215
申请日：2004-08-25
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作
发明人：上原祐作
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70891
摘要：　マスク及び投影光学系のうちの少なくとも一部の光学部材を通過する露光光の光量分布が非回転対称になるような場合に、結像特性のうちの非回転対称な成分を効率的に制御する露光方法及び装置である。照明光学系からの露光光（ＩＬ）でレチクル（１１）を照明し、レチクル（１１）のパターンを投影光学系（１４）を介してウエハ（１８）上に投影する。露光光（ＩＬ）によってレチクル（１１）をＸ方向のダイポール照明方式で照明するときに、投影光学系（１４）の瞳面近傍のレンズ（３２）に対して、露光光（ＩＬ）の照明領域をほぼ９０°回転した領域に非露光光照射機構（４０）から露光光（ＩＬ）と異なる波長域の非露光光（ＬＢ）を部分的に照射する。
摘要翻译：当通过掩模和投影光学系统的光学部件的至少一部分的曝光光的分布为非均匀性时，有效地控制图像形成特性的非旋转对称分量的曝光方法和装置，旋转对称。用来自照明光学系统的曝光光（IL）照射标线片（11），并且通过投影光学系统（14）将标线片（11）的图案投影到晶片（18）上。当通过在X方向上的偶极照明用掩蔽光（IL）照射标线片（11）时，通过使用曝光光（IL）照射的区域相对于透镜（32）旋转大约90°限定的区域）从非曝光光照射机构（40）用非曝光光（LB）部分地照射在投影光学系统（14）的光瞳附近。非曝光光（LB）的波长带与曝光光（IL）的波长带不同。

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