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1. 发明专利

TWI604045B 溶解及／或抑制系統表面上積垢沉積的方法有权
简体标题：溶解及／或抑制系统表面上积垢沉积的方法
公开(公告)号：TWI604045B
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW101113169
申请日：2012-04-13
申请人：巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：柴克肯尼斯L , ZACK, KENNETH L. , 波斯特約瑟夫P , BORST, JOSEPH P. , 杜羅雪大衛 , DUROCHER, DAVID , 普茲比拉大衛E , PRZYBYLA, DAVID E. , 梁維克托 , LEUNG, VICTOR , 戴克爾君特 , DECKER, GUNTER
IPC分类号： C11D7/32 , C11D3/26 , C11D1/66 , B08B3/08
CPC分类号： C02F1/683 , C02F5/12 , C11D3/0073 , C11D3/042 , C11D3/2086 , C11D3/33 , C11D3/3409 , C11D7/08 , C11D7/265 , C11D7/3245 , C11D7/34 , C11D11/0029 , C11D11/0041 , C23G1/26

2. 发明专利

TWI504739B 液體清洗劑組合物有权
简体标题：液体清洗剂组合物
公开(公告)号：TWI504739B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：TW099111651
申请日：2010-04-14
申请人：花王股份有限公司 , KAO CORPORATION
发明人：石塚仁 , ISHIZUKA, HITOSHI , 岡田京子 , OKADA, KYOKO , 小松義由己 , KOMATSU, YOSHIYUKI , 三宅登志夫 , MIYAKE, TOSHIO
IPC分类号： C11D1/66 , C11D1/12 , C11D1/38 , C11D3/04 , C11D3/16 , B08B3/08
CPC分类号： C11D1/86 , C11D1/722 , C11D3/43

3. 发明专利

TW201538594A 適用於清潔及保護的包含水溶性共聚物及界面活性劑之組成物审中-公开
简体标题：适用于清洁及保护的包含水溶性共聚物及界面活性剂之组成物
公开(公告)号：TW201538594A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104103303
申请日：2015-01-30
申请人： 3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：張亦帆 , ZHANG, YIFAN
IPC分类号： C08L33/02 , C08L33/26 , C08F220/06 , C08F220/56 , C08L5/02 , C08K5/42 , C11D1/66 , C11D1/83 , C11D3/37 , C11D17/00
CPC分类号： C11D11/0035 , C08F220/56 , C08L33/26 , C11D1/662 , C11D3/0036 , C11D3/3773 , C11D3/3796 , C11D11/0023
摘要：組成物包括丙烯酸與丙烯醯胺之水溶性聚合物或其鹽以及界面活性劑。亦揭示使用該等組成物清潔及塗布基材的方法。
简体摘要：组成物包括丙烯酸与丙烯酰胺之水溶性聚合物或其盐以及界面活性剂。亦揭示使用该等组成物清洁及涂布基材的方法。

4. 发明专利

TW201509436A 洗淨劑組成物审中-公开
简体标题：洗净剂组成物
公开(公告)号：TW201509436A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103126163
申请日：2014-07-31
申请人：花王股份有限公司 , KAO CORPORATION
发明人：陳貞儒 , CHEN, JENRU , 山本奈緒子 , YAMAMOTO, NAOKO , 友國敦史 , TOMOKUNI, ATSUSHI
IPC分类号： A61K8/33 , A61K8/89 , C11D1/66 , C11D3/20 , C11D3/37
CPC分类号： A61K8/33 , A61K8/891 , A61Q1/14 , A61Q19/10
摘要：本發明為一種洗淨劑組成物，其含有下述成分(A)及(B)：(A)具有2個碳數6以上且15以下之烷基的二烷基醚油1~70質量%；(B)25℃下之黏度為30mPa‧s以下的聚有機矽氧烷；成分(A)之含量相對於成分(A)與成分(B)之合計含量的質量比((A)/((A)+(B)))為0.4~0.95；(F)非離子性界面活性劑之含量為0.5質量%以下。
简体摘要：本发明为一种洗净剂组成物，其含有下述成分(A)及(B)：(A)具有2个碳数6以上且15以下之烷基的二烷基醚油1~70质量%；(B)25℃下之黏度为30mPa‧s以下的聚有机硅氧烷；成分(A)之含量相对于成分(A)与成分(B)之合计含量的质量比((A)/((A)+(B)))为0.4~0.95；(F)非离子性界面活性剂之含量为0.5质量%以下。

5. 发明专利

TWI455198B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI455198B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW099137048
申请日：2010-10-28
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： H01L21/304 , C11D1/66
CPC分类号： H01L21/02068 , C11D1/002 , C11D1/004 , C11D1/04 , C11D1/40 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/0212 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/31127

6. 发明专利

TWI434928B 洗淨液組成物有权
简体标题：洗净液组成物
公开(公告)号：TWI434928B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW100121511
申请日：2011-06-20
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：蔡宇傑 , TSAI, YU JIE
IPC分类号： C11D1/66 , C11D3/04 , C11D3/24 , C11D3/30

7. 发明专利

TW201348435A 自動餐具洗淨機用洗淨劑組合物审中-公开
简体标题：自动餐具洗净机用洗净剂组合物
公开(公告)号：TW201348435A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW101143804
申请日：2012-11-22
申请人：花王股份有限公司 , KAO CORPORATION
发明人：鈴木信行 , SUZUKI, NOBUYUKI , 齊藤慎也 , SAITO, SHINYA , 川村卓司 , KAWAMURA, TAKUJI
IPC分类号： C11D1/66
CPC分类号： C11D1/722 , C11D3/2086 , C11D3/33
摘要：本發明之自動餐具洗淨機用洗淨劑組合物含有：(A-1)選自甲基甘胺酸二乙酸鹽及其鹼金屬鹽中之一種或兩種以上6質量%以上且18質量%以下，(A-2)選自檸檬酸及其鹼金屬鹽中之一種或兩種以上20質量%以上且30質量%以下，及(B-1)選自於具有支鏈之碳數10以上且14以下之醇上依序嵌段鍵結有環氧乙烷及環氧丙烷的非離子界面活性劑中之一種或兩種以上3質量%以上且7質量%以下；且(A-1)與(B-1)之合計含量為10質量%以上且25質量%以下，(A-1)之含量與(B-1)之含量之質量比(A-1)/(B-1)為1以上且5以下。
简体摘要：本发明之自动餐具洗净机用洗净剂组合物含有：(A-1)选自甲基甘胺酸二乙酸盐及其碱金属盐中之一种或两种以上6质量%以上且18质量%以下，(A-2)选自柠檬酸及其碱金属盐中之一种或两种以上20质量%以上且30质量%以下，及(B-1)选自于具有支链之碳数10以上且14以下之醇上依序嵌段键结有环氧乙烷及环氧丙烷的非离子界面活性剂中之一种或两种以上3质量%以上且7质量%以下；且(A-1)与(B-1)之合计含量为10质量%以上且25质量%以下，(A-1)之含量与(B-1)之含量之质量比(A-1)/(B-1)为1以上且5以下。

8. 发明专利

TW201329226A 用於溶解及／或抑制系統表面上之積垢沉積之組合物审中-公开
简体标题：用于溶解及／或抑制系统表面上之积垢沉积之组合物
公开(公告)号：TW201329226A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101144850
申请日：2012-11-29
申请人：巴地斯顏料化工廠 , BASF SE
发明人：伯斯特喬瑟夫P , BORST, JOSEPH P. , 赫渠凱斯 , HIRSCH, KEITH , 葛羅斯史提分F , GROSS, STEPHEN F.
IPC分类号： C11D1/88 , C11D1/66 , C11D3/34 , B08B3/08
CPC分类号： C11D3/34 , C02F5/10 , C02F2101/301 , C02F2303/08 , C11D1/88 , C11D3/0073 , C11D3/3409 , C11D11/0029 , C23F14/02 , C23G1/088 , C23G1/103 , C23G1/125
摘要：本發明係關於一種用於溶解及/或抑制系統表面上之積垢沉積之組合物，其包含酸性組分、濕潤劑及腐蝕抑制劑。該組合物可進一步包含水。該酸性組分包含烷磺酸，例如甲磺酸(MSA)。該濕潤劑包含界面活性劑。該腐蝕抑制劑包含兩性界面活性劑。該烷磺酸以至少約50重量百分比(重量%)之量存在，該界面活性劑以約0.1重量%至約30重量%之量存在，且該兩性界面活性劑以約0.025重量%至約20重量%之量存在，各自均以該烷磺酸、該界面活性劑及該兩性界面活性劑組合之100重量%計。一種溶解及/或抑制系統表面上之積垢沉積之方法，包含使該系統表面與該組合物接觸之步驟。
简体摘要：本发明系关于一种用于溶解及/或抑制系统表面上之积垢沉积之组合物，其包含酸性组分、湿润剂及腐蚀抑制剂。该组合物可进一步包含水。该酸性组分包含烷磺酸，例如甲磺酸(MSA)。该湿润剂包含界面活性剂。该腐蚀抑制剂包含两性界面活性剂。该烷磺酸以至少约50重量百分比(重量%)之量存在，该界面活性剂以约0.1重量%至约30重量%之量存在，且该两性界面活性剂以约0.025重量%至约20重量%之量存在，各自均以该烷磺酸、该界面活性剂及该两性界面活性剂组合之100重量%计。一种溶解及/或抑制系统表面上之积垢沉积之方法，包含使该系统表面与该组合物接触之步骤。

9. 发明专利

TW201300521A 清潔劑組成物审中-公开
简体标题：清洁剂组成物
公开(公告)号：TW201300521A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW100123144
申请日：2011-06-30
申请人：黃登成 , 陳誼蓁
发明人：陳誼蓁
IPC分类号： C11D1/66 , C11D3/04 , C11D3/10 , C11D3/33 , C11D3/60
摘要：一種清潔劑組成物，包含：11~45重量份之天然系界面活性劑、25~35重量份之芒硝、10~40重量份之碳酸鈉、0.1~5重量份的甲基甘胺酸二醋酸三鈉鹽，以及與前述成分合計100重量份的清潔助劑。本發明特定比例的芒硝可以快速軟化油污、污垢的硬化表面，同時讓天然系界面活性劑就能夠順利深入油垢內部作完整的清潔，上述組成物不僅不含例如：甲醛、苯、螢光劑、EDTA、壬基酚、重金屬等等對環境有害的成分，亦可讓生物可降解比例高達95%以上，故本發明該清潔劑組成物不僅環保，亦具有較佳的清潔效果。
简体摘要：一种清洁剂组成物，包含：11~45重量份之天然系界面活性剂、25~35重量份之芒硝、10~40重量份之碳酸钠、0.1~5重量份的甲基甘胺酸二醋酸三钠盐，以及与前述成分合计100重量份的清洁助剂。本发明特定比例的芒硝可以快速软化油污、污垢的硬化表面，同时让天然系界面活性剂就能够顺利深入油垢内部作完整的清洁，上述组成物不仅不含例如：甲醛、苯、萤光剂、EDTA、壬基酚、重金属等等对环境有害的成分，亦可让生物可降解比例高达95%以上，故本发明该清洁剂组成物不仅环保，亦具有较佳的清洁效果。

10. 发明专利

TWI558809B 水性鹼性清潔組合物及其使用方法有权
简体标题：水性碱性清洁组合物及其使用方法
公开(公告)号：TWI558809B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW100125515
申请日：2011-07-19
申请人：巴地斯顏料化工廠 , BASF SE
发明人：梅立雷蒙 , MELLIES, RAIMUND , 克里普安德利亞 , KLIPP, ANDREAS
IPC分类号： C11D1/66 , C11D1/68 , C11D3/04 , C11D3/30 , C11D3/34 , H01L21/304
CPC分类号： C11D3/349 , C11D1/345 , C11D1/66 , C11D1/667 , C11D1/72 , C11D3/0073 , C11D3/06 , C11D3/2068 , C11D3/2086 , C11D3/30 , C11D3/3757 , C11D3/378 , C11D11/0017 , C11D11/0041 , C11D11/0047 , C11D11/0064 , H01L21/02074 , H05K3/1208 , H05K2203/0793

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