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2. 发明专利

TW201742914A 液體清潔劑組合物审中-公开
简体标题：液体清洁剂组合物
公开(公告)号：TW201742914A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106117862
申请日：2017-05-31
申请人：花王股份有限公司 , KAO CORPORATION
发明人：櫻庭彩子 , SAKURABA, AYAKO , 內山徹也 , UCHIYAMA, TETSUYA
IPC分类号： C11D1/12 , C11D1/68 , C11D1/722 , C11D1/83
CPC分类号： C11D1/04 , C11D1/14 , C11D1/72 , C11D3/43 , C11D17/08 , D06F21/00
摘要：本發明提供一種液體清潔劑組合物，其以高濃度含有內部烯烴磺酸鹽，不會使清潔力降低，且低溫下之穩定性優異。本發明之液體清潔劑組合物含有以下成分(A)～(D)，成分(A)與成分(B)及(C)之合計量之質量比(A/(B＋C))為0.6以上且5以下，且成分(B)與成分(C)之質量比(B/C)為0.05以上且1.8以下， (A)：碳數為16以上且18以下，且磺酸基存在於2位之內部烯烴磺酸鹽之含量為5質量%以上且25質量%以下的內部烯烴磺酸鹽10質量%以上且40質量%以下； (B)：以下通式(1)所表示之脂肪酸鹽 R1COOM (1) (式中，R1表示碳數10以上且14以下之烷基或烯基；M表示氫原子、鹼金屬、鹼土金屬(1/2原子)、銨或有機銨) 0.5質量%以上且16質量%以下； (C)：具有一個以上羥基之有機溶劑；及 (D)：水。
简体摘要：本发明提供一种液体清洁剂组合物，其以高浓度含有内部烯烃磺酸盐，不会使清洁力降低，且低温下之稳定性优异。本发明之液体清洁剂组合物含有以下成分(A)～(D)，成分(A)与成分(B)及(C)之合计量之质量比(A/(B＋C))为0.6以上且5以下，且成分(B)与成分(C)之质量比(B/C)为0.05以上且1.8以下， (A)：碳数为16以上且18以下，且磺酸基存在于2位之内部烯烃磺酸盐之含量为5质量%以上且25质量%以下的内部烯烃磺酸盐10质量%以上且40质量%以下； (B)：以下通式(1)所表示之脂肪酸盐 R1COOM (1) (式中，R1表示碳数10以上且14以下之烷基或烯基；M表示氢原子、碱金属、碱土金属(1/2原子)、铵或有机铵) 0.5质量%以上且16质量%以下； (C)：具有一个以上羟基之有机溶剂；及 (D)：水。

3. 发明专利

TW201732029A 助焊劑用清潔劑組合物审中-公开
简体标题：助焊剂用清洁剂组合物
公开(公告)号：TW201732029A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105142397
申请日：2016-12-21
申请人：花王股份有限公司 , KAO CORPORATION
发明人：茅窪大輔 , KAYAKUBO, DAISUKE , 川下浩一 , KAWASHIMO, HIROKAZU
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/26 , B23K1/00 , B08B3/08 , C23G5/032 , H05K3/34
CPC分类号： B08B3/08 , B23K1/00 , C11D1/72 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D3/43 , C11D17/08 , C23G1/20 , H01L21/304 , H05K3/34
摘要：本發明提供一種適於助焊劑殘渣之清潔之助焊劑用清潔劑組合物。本發明於一實施形態中，係關於一種助焊劑用清潔劑組合物，其含有下述式(I)所表示之化合物(成分A)、下述式(II)所表示之化合物(成分B)、下述式(III)所表示之化合物(成分C)、下述式(IV)所表示之化合物(成分D)、芳香族醇(成分E)、及水(成分F)，並且成分E之質量與成分C及成分D之合計質量之比(成分E/(成分C＋成分D))為0.18以上且0.45以下。R4-O-(CH2CH2O)n-H (II) R5-O-(CH2CH2O)m-H (III) R6OCH2-CH(OH)-CH2OH (IV)
简体摘要：本发明提供一种适于助焊剂残渣之清洁之助焊剂用清洁剂组合物。本发明于一实施形态中，系关于一种助焊剂用清洁剂组合物，其含有下述式(I)所表示之化合物(成分A)、下述式(II)所表示之化合物(成分B)、下述式(III)所表示之化合物(成分C)、下述式(IV)所表示之化合物(成分D)、芳香族醇(成分E)、及水(成分F)，并且成分E之质量与成分C及成分D之合计质量之比(成分E/(成分C＋成分D))为0.18以上且0.45以下。R4-O-(CH2CH2O)n-H (II) R5-O-(CH2CH2O)m-H (III) R6OCH2-CH(OH)-CH2OH (IV)

4. 发明专利

TW201713762A 包含發酵水果溶液的清潔組合物及其製造與使用方法审中-公开
简体标题：包含发酵水果溶液的清洁组合物及其制造与使用方法
公开(公告)号：TW201713762A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105143755
申请日：2014-09-22
申请人：伊奎特純淨自然有限公司 , EQUATOR PURE NATURE COMPANY LIMITED
发明人：魏門彼得N , WAINMAN, PETER N. , 那隆坦朋西里來克 , NARONGTANUPONE, SIRILAK , 山葛斯里桑翁 , SANGSRI, SUNGWORN
IPC分类号： C11D3/386 , C11D3/20 , C11D3/02
CPC分类号： C11D3/38 , A23Y2220/00 , C11D1/12 , C11D1/146 , C11D1/662 , C11D1/90 , C11D3/001 , C11D3/0026 , C11D3/0047 , C11D3/0073 , C11D3/0084 , C11D3/04 , C11D3/042 , C11D3/044 , C11D3/046 , C11D3/10 , C11D3/2048 , C11D3/2065 , C11D3/2079 , C11D3/2086 , C11D3/2096 , C11D3/22 , C11D3/221 , C11D3/382 , C11D3/43 , C11D11/0017 , C11D11/04 , C12P1/04 , C12P7/40 , C12P7/56
摘要：本文描述包括發酵水果溶液及增效劑之清潔組合物、其製造方法及其使用方法。該等發酵水果溶液可含有水果、糖及水。該增效劑可選自由例如檸檬酸鈉及碳酸氫鈉之非磷酸鹽增效劑、硼酸及其混合物組成之群。該等清潔組合物可用以清潔物品、洗滌物品、自物品清潔汙漬及清潔表面。
简体摘要：本文描述包括发酵水果溶液及增效剂之清洁组合物、其制造方法及其使用方法。该等发酵水果溶液可含有水果、糖及水。该增效剂可选自由例如柠檬酸钠及碳酸氢钠之非磷酸盐增效剂、硼酸及其混合物组成之群。该等清洁组合物可用以清洁物品、洗涤物品、自物品清洁污渍及清洁表面。

5. 发明专利

TW201704461A 光微影用清潔組成物及使用該組成物形成光阻圖案的方法审中-公开
简体标题：光微影用清洁组成物及使用该组成物形成光阻图案的方法
公开(公告)号：TW201704461A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105117408
申请日：2016-06-02
申请人：榮昌化工股份有限公司 , YOUNG CHANG CHEMICAL CO., LTD
发明人：李昇勳 , LEE, SEUNG HUN , 李昇炫 , LEE, SEUNG HYUN , 尹相雄 , YOON, SANG WOONG , 咸慶國 , HAM, GYEONG GUK
IPC分类号： C11D7/26 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/405 , C11D1/72 , C11D1/722 , C11D3/30 , C11D3/43 , C11D11/0047 , G03F7/2004 , G03F7/2053 , G03F7/32 , H01L21/0274
摘要：本發明係關於一種光微影用清潔組成物及使用該組成物形成光阻圖案的方法。該清潔組成物為形成具有高深寬比光阻圖案時所必須，包括：水、以及如以下化學式1所示的化合物：其中，R為H或OH；x為1~100的整數；y為0~100的整數；以及z為0~100的整數。該清潔組成物對於使用任何不同光源來形成光阻圖案係有用的，且即使在單獨使用光阻劑而難以形成所欲細緻光阻圖案的情況下，仍能夠達到所需的細緻化程度而降低製造成本。
简体摘要：本发明系关于一种光微影用清洁组成物及使用该组成物形成光阻图案的方法。该清洁组成物为形成具有高深宽比光阻图案时所必须，包括：水、以及如以下化学式1所示的化合物：其中，R为H或OH；x为1~100的整数；y为0~100的整数；以及z为0~100的整数。该清洁组成物对于使用任何不同光源来形成光阻图案系有用的，且即使在单独使用光阻剂而难以形成所欲细致光阻图案的情况下，仍能够达到所需的细致化程度而降低制造成本。

6. 发明专利

TW201641685A 在低ｐＫａ驅動之聚合物剝離期間促進電荷錯合銅之保護的組合物及方法审中-公开
简体标题：在低ｐＫａ驱动之聚合物剥离期间促进电荷错合铜之保护的组合物及方法
公开(公告)号：TW201641685A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105107662
申请日：2016-03-11
申请人： AZ電子材料(盧森堡)股份有限公司 , AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S. A. R. L.
发明人：摩爾約翰克里昂 , MOORE, JOHN CLEAON
IPC分类号： C11D7/50 , C11D7/34 , C11D7/26 , C09D9/00 , G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , C09D5/20 , C11D3/2075 , C11D3/43 , C11D11/0047 , C23G1/06 , C23G1/103 , C23G5/032
摘要：本發明係關於在聚合物移除期間保護金屬之電荷錯合化學組合物。該等聚合物塗層包括藉由如環氧樹脂中之化學放大及光酸產生(PAG)方式經交聯之系統。該系統包括溶劑、電荷錯合添加劑及酸，該酸在處理微電子部件所需之溶解及沖洗實踐期間產生針對敏感金屬之保護性錯合物。該組合物可與用於移除部分及完全固化之交聯塗層之方法一起使用，該等塗層源自化學放大或PAG-環氧樹脂光可成像塗層。
简体摘要：本发明系关于在聚合物移除期间保护金属之电荷错合化学组合物。该等聚合物涂层包括借由如环氧树脂中之化学放大及光酸产生(PAG)方式经交联之系统。该系统包括溶剂、电荷错合添加剂及酸，该酸在处理微电子部件所需之溶解及冲洗实践期间产生针对敏感金属之保护性错合物。该组合物可与用于移除部分及完全固化之交联涂层之方法一起使用，该等涂层源自化学放大或PAG-环氧树脂光可成像涂层。

7. 发明专利

TW201639947A ＴｉＮ硬遮罩及蝕刻殘留物的移除审中-公开
简体标题：ＴｉＮ硬遮罩及蚀刻残留物的移除
公开(公告)号：TW201639947A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105113669
申请日：2016-05-02
申请人：氣體產品及化學品股份公司 , AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：劉文達 , LIU, WEN DAR , 李翊嘉 , LEE, YI CHIA , 加斯特爾威廉傑克 JR , CASTEEL, WILLIAM JACK, JR. , 陳天牛 , CHEN, TIANNIU , 阿加渥勞爵夫克里山 , AGARWAL, RAJIV KRISHAN , 雷馬乎卡巴斯卡拉 , RAO, MADHUKAR BHASKARA
IPC分类号： C09K13/00 , C11D11/00 , C11D7/18 , C11D7/32 , C11D7/26 , C23F11/14 , C11D7/50 , H01L21/3105
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D3/2086 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/33 , C11D3/3773 , C11D3/3947 , C11D3/43 , H01L21/02068 , H01L21/0332 , H01L21/31111 , H01L21/31144 , H01L21/32134 , H01L21/76865
摘要：本文揭示的是用於自28/20nm圖案晶圓移除PVD TiN硬遮罩的組合物、方法及系統。該組合物使用過氧化物充當在微鹼性條件之下移除PVD TiN硬遮罩的氧化劑。該組合物包含大型或長鏈有機胺類或聚烷基胺以改良PVD TiN對比於CVD TiN的移除/蝕刻選擇性。該組合物另外包含長鏈有機酸類或胺類以保持Co相容性。
简体摘要：本文揭示的是用于自28/20nm图案晶圆移除PVD TiN硬遮罩的组合物、方法及系统。该组合物使用过氧化物充当在微碱性条件之下移除PVD TiN硬遮罩的氧化剂。该组合物包含大型或长链有机胺类或聚烷基胺以改良PVD TiN对比于CVD TiN的移除/蚀刻选择性。该组合物另外包含长链有机酸类或胺类以保持Co兼容性。

8. 发明专利

TW201638325A 汽油引擎燃料輸送系統、進氣系統、及燃料室清潔用之組成物审中-公开
简体标题：汽油发动机燃料输送系统、进气系统、及燃料室清洁用之组成物
公开(公告)号：TW201638325A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105102293
申请日：2016-01-26
申请人：盧伯利索公司 , THE LUBRIZOL CORPORATION
发明人：巴特里史都爾L , BARTLEY, STUART L. , 威晏伯格湯瑪斯R , WEYENBERG, THOMAS R. , 尼裘斯麥可D , NICHOLLS, MICHAEL D. , 派克蓋瑞特 , PARKER, GARRETT
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/50 , C10L1/185
CPC分类号： C11D11/0041 , B08B9/00 , C11D1/44 , C11D1/72 , C11D3/3707 , C11D3/3723 , C11D3/43 , C11D7/247 , C11D7/261 , C11D7/263 , C11D7/3209 , C11D7/3281 , C11D7/5013 , C11D7/5022 , C11D7/5027 , F02B77/04
摘要：本發明揭示一種適合燃料輸送系統、進氣系統、進氣閥、及燃料室清潔用之清潔組成物，其包括至少3重量百分比之多醚成分、至少5重量百分比之極性溶劑、及至少5重量百分比之非極性溶劑。該多醚成分選自多醚、多醚胺、及其混合物。
简体摘要：本发明揭示一种适合燃料输送系统、进气系统、进气阀、及燃料室清洁用之清洁组成物，其包括至少3重量百分比之多醚成分、至少5重量百分比之极性溶剂、及至少5重量百分比之非极性溶剂。该多醚成分选自多醚、多醚胺、及其混合物。

9. 发明专利

TW201629197A 含氟化界面活性劑之組成物审中-公开
简体标题：含氟化界面活性剂之组成物
公开(公告)号：TW201629197A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104130016
申请日：2015-09-10
申请人： 3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：拉馬納威廉馬力歐 , LAMANNA, WILLIAM MARIO , 沙維派翠西亞瑪莉 , SAVU, PATRICIA MARIE , 奇瑞恩傑森麥克 , KEHREN, JASON MICHAEL , 黃莉苹 , NG, , IPING CLARYN , 池谷菜海子 , IKEGAYA, NAMIKO
IPC分类号： C11D1/72 , C11D11/00
CPC分类号： C11D1/002 , B08B3/02 , B08B3/08 , B08B5/02 , C07C311/09 , C11D1/004 , C11D3/43 , G03F7/426
摘要：一種組成物，其包括氟化或全氟化有機溶劑及通式(1)之氟化界面活性劑： Rf為具有1至6個碳原子之全氟烷基。R1及R2每次出現時係獨立地為H或CH，n為1至3，且x為1至3。
简体摘要：一种组成物，其包括氟化或全氟化有机溶剂及通式(1)之氟化界面活性剂： Rf为具有1至6个碳原子之全氟烷基。R1及R2每次出现时系独立地为H或CH，n为1至3，且x为1至3。

10. 发明专利

TW201624152A 可抑制含鎢材料之損壞的半導體元件之清洗液及利用該清洗液的半導體元件之清洗方法审中-公开
简体标题：可抑制含钨材料之损坏的半导体组件之清洗液及利用该清洗液的半导体组件之清洗方法
公开(公告)号：TW201624152A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104132919
申请日：2015-10-07
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：尾家俊行 , OIE, TOSHIYUKI , 島田憲司 , SHIMADA, KENJI
IPC分类号： G03F7/42 , C11D7/04 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/02041 , C11D3/30 , C11D3/43 , C11D7/04 , C11D7/06 , C11D7/12 , C11D7/32 , C11D11/0047 , C11D17/08 , C22C38/12 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/304 , H01L21/31133
摘要：根據本發明可以提供一種清洗液，其將具有低介電常數膜(Low-k膜)與含10原子%以上之鎢之材料之半導體元件之表面上之光阻予以除去；含有鹼土類金屬化合物0.001~5質量%、無機鹼及/或有機鹼0.1~30質量%、及水。
简体摘要：根据本发明可以提供一种清洗液，其将具有低介电常数膜(Low-k膜)与含10原子%以上之钨之材料之半导体组件之表面上之光阻予以除去；含有碱土类金属化合物0.001~5质量%、无机碱及/或有机碱0.1~30质量%、及水。

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