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1. 发明专利

TWI440993B 晶圓之清潔方法有权
简体标题：晶圆之清洁方法
公开(公告)号：TWI440993B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：TW100148710
申请日：2011-12-26
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： G03F7/38 , H01L21/304 , C11D7/60 , C09K3/18
CPC分类号： H01L21/02057 , C11D3/162 , C11D11/0047

2. 发明专利

TWI564385B 矽晶圓用洗淨劑有权
简体标题：硅晶圆用洗净剂
公开(公告)号：TWI564385B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW099101652
申请日：2010-01-21
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C11D7/28 , C11D7/32 , H01L21/306
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/30 , C11D7/3209 , C11D11/0064 , C11D11/007 , H01L21/02052

3. 发明专利

TWI425002B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI425002B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW100119865
申请日：2011-06-07
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C07F7/10 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/306 , G03F7/40

4. 发明专利

TWI548730B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI548730B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW101100213
申请日：2012-01-03
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C09K3/18 , C07F9/38 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02068 , C11D11/0047

5. 发明专利

TWI482854B 矽晶圓用洗淨劑有权
简体标题：硅晶圆用洗净剂
公开(公告)号：TWI482854B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW099112885
申请日：2010-04-23
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C11D7/28 , C11D7/50
CPC分类号： H01L21/02057 , C11D3/162 , C11D7/261 , C11D7/262 , C11D7/5022 , C11D11/0047

6. 发明专利

TWI460263B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI460263B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW100117675
申请日：2011-05-19
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C09K3/18 , C07F7/18 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02057 , C09D183/08 , H01L21/0206 , H01L21/302 , H01L21/3105

7. 发明专利

TWI455198B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI455198B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW099137048
申请日：2010-10-28
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： H01L21/304 , C11D1/66
CPC分类号： H01L21/02068 , C11D1/002 , C11D1/004 , C11D1/04 , C11D1/40 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/0212 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/31127

8. 发明专利

TW201232196A 晶圓之清潔方法审中-公开
简体标题：晶圆之清洁方法
公开(公告)号：TW201232196A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100148710
申请日：2011-12-26
申请人：中央硝子股份有限公司
发明人：公文創一 , 齋尾崇 , 荒田忍 , 齋藤真規 , 七井秀壽 , 赤松佳則
IPC分类号： G03F , H01L , C11D , C09K
CPC分类号： H01L21/02057 , C11D3/162 , C11D11/0047
摘要：本發明提供一種晶圓之清潔方法,其於表面具有凹凸圖案之晶圓之製造方法中,用以改善容易導致圖案崩塌之清潔步驟。本發明之清潔方法係於表面具有凹凸圖案之晶圓之清潔方法,至少包括:用清潔液清潔上述晶圓之步驟、清潔後用撥水性藥液置換保持於晶圓之凹部中之清潔液之步驟、及將晶圓乾燥之步驟;上述清潔液為含有80質量%以上之沸點為55~200℃之溶劑者;藉由使上述置換之步驟中所供給之撥水性藥液之溫度為40℃以上且未達該撥水性藥液之沸點,而使至少上述凹部表面撥水化。
简体摘要：本发明提供一种晶圆之清洁方法,其于表面具有凹凸图案之晶圆之制造方法中,用以改善容易导致图案崩塌之清洁步骤。本发明之清洁方法系于表面具有凹凸图案之晶圆之清洁方法,至少包括:用清洁液清洁上述晶圆之步骤、清洁后用拨水性药液置换保持于晶圆之凹部中之清洁液之步骤、及将晶圆干燥之步骤;上述清洁液为含有80质量%以上之沸点为55~200℃之溶剂者;借由使上述置换之步骤中所供给之拨水性药液之温度为40℃以上且未达该拨水性药液之沸点,而使至少上述凹部表面拨水化。

9. 发明专利

TW201131629A 保護膜形成用藥液审中-公开
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TW201131629A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099137048
申请日：2010-10-28
申请人：中央硝子股份有限公司
发明人：齋藤真規 , 荒田忍 , 齋尾崇 , 公文創一 , 七井秀壽 , 赤松佳則
IPC分类号： H01L , C11D
CPC分类号： H01L21/02068 , C11D1/002 , C11D1/004 , C11D1/04 , C11D1/40 , C11D11/0047 , H01L21/02057 , H01L21/0212 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/31127
摘要：本發明係揭示一種晶圓之撥水性保護膜形成用藥液,其特徵在於:其係在進行如下晶圓之清洗時用以至少於下述凹部表面形成撥水性保護膜之含有撥水性保護膜形成劑之藥液,該晶圓係於表面形成有微細之凹凸圖案之晶圓中,該凹凸圖案之至少凹部表面之一部分包含選自由鈦、氮化鈦、鎢、鋁、銅、錫、氮化鉭、釕、及矽所組成之群中之至少1種物質之晶圓;且該撥水性保護膜形成劑為非水溶性之界面活性劑。藉由該藥液形成之撥水性保護膜可防止清洗步驟中之晶圓之圖案崩塌。
简体摘要：本发明系揭示一种晶圆之拨水性保护膜形成用药液,其特征在于:其系在进行如下晶圆之清洗时用以至少于下述凹部表面形成拨水性保护膜之含有拨水性保护膜形成剂之药液,该晶圆系于表面形成有微细之凹凸图案之晶圆中,该凹凸图案之至少凹部表面之一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌、及硅所组成之群中之至少1种物质之晶圆;且该拨水性保护膜形成剂为非水溶性之界面活性剂。借由该药液形成之拨水性保护膜可防止清洗步骤中之晶圆之图案崩塌。

10. 发明专利

TWI330621B 防起霧性被膜及防起霧性物品失效
简体标题：防起雾性被膜及防起雾性物品
公开(公告)号：TWI330621B
公开(公告)日：2010-09-21
申请号：TW095126273
申请日：2006-07-18
申请人：中央硝子股份有限公司
发明人：扇谷幸宏 , 赤松佳則
IPC分类号： C03C , C09D , B60J
CPC分类号： C09K3/185 , C03C17/322 , C08G18/3893 , C08G18/4063 , C08G18/4833 , C08G18/61 , C08G18/7831 , C08G2290/00 , C09D5/00 , C09D175/04 , H01B3/302
摘要：本發明係提供一種於透明基材上所形成之防起霧性被膜。該被膜由吸水率20~40重量%之胺基甲酸乙酯樹脂所成，該胺基甲酸乙酯由平均分子量1000~4000之丙烯聚醇、及平均分子量400~5000之聚環氧化物系聚醇所衍生後所成者，且該被膜為被被膜吸水飽和後具有強制性由被膜脫水機制之用於室內環境者，出現防起霧性時不形成水膜者為其特徵之防起霧性被膜。
简体摘要：本发明系提供一种于透明基材上所形成之防起雾性被膜。该被膜由吸水率20~40重量%之胺基甲酸乙酯树脂所成，该胺基甲酸乙酯由平均分子量1000~4000之丙烯聚醇、及平均分子量400~5000之聚环氧化物系聚醇所衍生后所成者，且该被膜为被被膜吸水饱和后具有强制性由被膜脱水机制之用于室内环境者，出现防起雾性时不形成水膜者为其特征之防起雾性被膜。

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