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1. 发明专利

TW201947331A 帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束描繪方法审中-公开
简体标题：带电粒子束描绘设备及带电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TW201947331A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108114242
申请日：2019-04-24
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：野村春之 , NOMURA, HARUYUKI , 上久保貴司 , KAMIKUBO, TAKASHI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01J37/304
摘要：本發明之實施形態有關帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束描繪方法。帶電粒子束描繪裝置，具備：描繪室，收容載置描繪對象物之平台；及射束照射部，對被載置於前述平台的前述描繪對象物照射帶電粒子束；及平台驅動部，使前述平台移動；及溫度分布計算部，基於前述平台的移動履歷資訊，計算前述描繪室內的熱源所造成之前述描繪對象物的溫度分布；及變形量計算部，基於被載置於前述平台的前述描繪對象物的拘束條件、及前述被計算出的溫度分布，來計算前述描繪對象物的變形量；及位置修正部，基於前述被計算出的變形量，修正對於前述描繪對象物之帶電粒子束的照射位置。前述射束照射部，基於藉由前述位置修正部而被修正的照射位置來照射前述帶電粒子束。
简体摘要：本发明之实施形态有关带电粒子束描绘设备及带电粒子束描绘方法。带电粒子束描绘设备，具备：描绘室，收容载置描绘对象物之平台；及射束照射部，对被载置于前述平台的前述描绘对象物照射带电粒子束；及平台驱动部，使前述平台移动；及温度分布计算部，基于前述平台的移动履历信息，计算前述描绘室内的热源所造成之前述描绘对象物的温度分布；及变形量计算部，基于被载置于前述平台的前述描绘对象物的拘束条件、及前述被计算出的温度分布，来计算前述描绘对象物的变形量；及位置修正部，基于前述被计算出的变形量，修正对于前述描绘对象物之带电粒子束的照射位置。前述射束照射部，基于借由前述位置修正部而被修正的照射位置来照射前述带电粒子束。

2. 发明专利

TWI691814B 帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束描繪方法有权
简体标题：带电粒子束描绘设备及带电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TWI691814B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW108114242
申请日：2019-04-24
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：野村春之 , NOMURA, HARUYUKI , 上久保貴司 , KAMIKUBO, TAKASHI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01J37/304

3. 发明专利

TW201730684A 帶電粒子束的照射量修正用參數之取得方法，帶電粒子束描繪方法及帶電粒子束描繪裝置审中-公开
简体标题：带电粒子束的照射量修正用参数之取得方法，带电粒子束描绘方法及带电粒子束描绘设备
公开(公告)号：TW201730684A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105135750
申请日：2016-11-03
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：野村春之 , NOMURA, HARUYUKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： G03F7/2061 , G03F7/70516 , H01J37/31
摘要：本發明一種態樣之帶電粒子束的照射量修正用參數之取得方法，其特徵為，使用帶電粒子束，在塗布有阻劑的基板上，描繪複數個評估圖樣，對每一評估圖樣一面將描繪條件設為可變，一面對每一描繪條件，在複數個評估圖樣當中相異的任一評估圖樣的周邊，於經過了足以忽視該評估圖樣的描繪所造成之阻劑溫度上昇的影響之時間後，使用帶電粒子束的複數個擊發，遵照對應的描繪條件來描繪周邊圖樣，對前述每一描繪條件，測定在周邊描繪有前述周邊圖樣之前述評估圖樣的寬度尺寸，對前述每一描繪條件，演算從前述複數個擊發的各擊發到達至該評估圖樣之背向散射劑量，對前述每一描繪條件，演算於前述複數個擊發的各擊發時由於來自比該擊發時還早的擊發的熱傳導所造成之該評估圖樣的溫度上昇量，使用前述每一描繪條件的評估圖樣的寬度尺寸、及前述每一描繪條件的各擊發時之該評估圖樣的溫度上昇量、及從前述每一描繪條件的各擊發對評估圖樣之背向散射劑量，來演算並輸出相關參數，該相關參數係定義評估圖樣的寬度尺寸變動量與評估圖樣的溫度上昇量與到達至評估圖樣之背向散射劑量之相關關係。
简体摘要：本发明一种态样之带电粒子束的照射量修正用参数之取得方法，其特征为，使用带电粒子束，在涂布有阻剂的基板上，描绘复数个评估图样，对每一评估图样一面将描绘条件设为可变，一面对每一描绘条件，在复数个评估图样当中相异的任一评估图样的周边，于经过了足以忽视该评估图样的描绘所造成之阻剂温度上升的影响之时间后，使用带电粒子束的复数个击发，遵照对应的描绘条件来描绘周边图样，对前述每一描绘条件，测定在周边描绘有前述周边图样之前述评估图样的宽度尺寸，对前述每一描绘条件，演算从前述复数个击发的各击发到达至该评估图样之背向散射剂量，对前述每一描绘条件，演算于前述复数个击发的各击发时由于来自比该击发时还早的击发的热传导所造成之该评估图样的温度上升量，使用前述每一描绘条件的评估图样的宽度尺寸、及前述每一描绘条件的各击发时之该评估图样的温度上升量、及从前述每一描绘条件的各击发对评估图样之背向散射剂量，来演算并输出相关参数，该相关参数系定义评估图样的宽度尺寸变动量与评估图样的温度上升量与到达至评估图样之背向散射剂量之相关关系。

4. 发明专利

TWI591674B 電子束描繪裝置及電子束之收斂半角調整方法有权
简体标题：电子束描绘设备及电子束之收敛半角调整方法
公开(公告)号：TWI591674B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW104107918
申请日：2015-03-12
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：野村春之 , NOMURA, HARUYUKI
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/10 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/1471 , H01J37/045 , H01J37/10 , H01J2237/043 , H01J2237/063 , H01J2237/06375 , H01J2237/1502

5. 发明专利

TW201603096A 電子束描繪裝置及電子束之收斂半角調整方法审中-公开
简体标题：电子束描绘设备及电子束之收敛半角调整方法
公开(公告)号：TW201603096A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104107918
申请日：2015-03-12
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：野村春之 , NOMURA, HARUYUKI
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/10 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/1471 , H01J37/045 , H01J37/10 , H01J2237/043 , H01J2237/063 , H01J2237/06375 , H01J2237/1502
摘要：本發明之一態樣之電子束描繪裝置之特徵為具備：電子槍機構，其係射出電子束；高度調整部，其被配置在相對於光軸方向較電子槍機構後側，能夠可變地調整電子槍機構之高度位置；電子透鏡，其被配置在相對於光軸方向較高度調整部後側，使電子束收斂；透鏡控制部，其係在電子槍機構之高度位置被可變調整地而變化的每個高度位置，以在特定位置電子束形成交叉之方式，控制電子透鏡；及接物鏡，其被配置在相對於光軸方向較電子透鏡後側，使通過電子透鏡之上述電子束在試料上成像。
简体摘要：本发明之一态样之电子束描绘设备之特征为具备：电子枪机构，其系射出电子束；高度调整部，其被配置在相对于光轴方向较电子枪机构后侧，能够可变地调整电子枪机构之高度位置；电子透镜，其被配置在相对于光轴方向较高度调整部后侧，使电子束收敛；透镜控制部，其系在电子枪机构之高度位置被可变调整地而变化的每个高度位置，以在特定位置电子束形成交叉之方式，控制电子透镜；及接物镜，其被配置在相对于光轴方向较电子透镜后侧，使通过电子透镜之上述电子束在试料上成像。

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