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1. 发明专利

TWI694089B 一種樹脂組合物及其製品有权
简体标题：一种树脂组合物及其制品
公开(公告)号：TWI694089B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW108123872
申请日：2019-07-05
申请人：大陸商台光電子材料(昆山)有限公司
发明人：張岩 , 尚振方 , 王榮濤 , 袁明升
IPC分类号： C08F22/40 , C08J5/24 , B32B15/08 , H05K1/03

2. 发明专利

TWI675058B 用於密封液晶之可固化樹脂組成物有权
简体标题：用于密封液晶之可固化树脂组成物
公开(公告)号：TWI675058B
公开(公告)日：2019-10-21
申请号：TW104103128
申请日：2015-01-30
申请人：德商漢高股份有限及兩合公司 , HENKEL AG & CO. KGAA
发明人：周婧 , ZHOU, JING , 王騰芳 , WANG, TENGFANG , 李琴 , LI, QIN , 陳大衛 , CHEN, DAWEI
IPC分类号： C08L35/00 , C08F22/40 , C08K5/14 , C08K5/23 , C08L63/00 , C08G59/40 , G02F1/1339

3. 发明专利

TW201815947A 製造絕緣層及多層印刷電路板的方法审中-公开
简体标题：制造绝缘层及多层印刷电路板的方法
公开(公告)号：TW201815947A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106126934
申请日：2017-08-09
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：鄭遇載 , JEONG, WOO JAE , 慶有真 , KYUNG, YOU JIN , 崔炳柱 , CHOI, BYUNG JU , 崔寶允 , CHOI, BO YUN , 李光珠 , LEE, KWANG JOO , 鄭珉壽 , JEONG, MIN SU
IPC分类号： C08L35/00 , C08F22/40 , C08L101/00 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01B3/30 , H01B3/44 , H01B19/04 , H05K1/03 , H05K3/46
摘要：本發明係關於製造絕緣層的方法，其可實現均勻且細微的圖案，同時改善成本及生產力方面之效率以及確保優異機械性質；以及使用自該製造絕緣層的方法所獲得之絕緣層來製造多層印刷電路板的方法。
简体摘要：本发明系关于制造绝缘层的方法，其可实现均匀且细微的图案，同时改善成本及生产力方面之效率以及确保优异机械性质；以及使用自该制造绝缘层的方法所获得之绝缘层来制造多层印刷电路板的方法。

4. 发明专利

TW201815838A 樹脂組成物、疊層體、附設有樹脂組成物層之半導體晶圓、附設有樹脂組成物層之半導體搭載用基板及半導體裝置审中-公开
简体标题：树脂组成物、叠层体、附设有树脂组成物层之半导体晶圆、附设有树脂组成物层之半导体搭载用基板及半导体设备
公开(公告)号：TW201815838A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106117816
申请日：2017-05-31
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：瀧口武紀 , TAKIGUCHI, TAKENORI , 東口鑛平 , HIGASHIGUCHI, KOHEI , 木田剛 , KIDA, TSUYOSHI
IPC分类号： C08F22/40 , C08K5/09 , C08K5/13 , C08K5/17 , C08K5/20 , C08K5/544 , C08K13/02 , C08L35/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J179/04 , C09J7/00 , H01L23/29 , H01L23/31
摘要：本發明係一種底層填充材用之樹脂組成物，含有馬來醯亞胺化合物(A)及2級單胺基化合物(B)，且該2級單胺基化合物(B)之沸點為120℃以上。
简体摘要：本发明系一种底层填充材用之树脂组成物，含有马来酰亚胺化合物(A)及2级单胺基化合物(B)，且该2级单胺基化合物(B)之沸点为120℃以上。

5. 发明专利

TW201708271A 圖案形成方法、電子器件的製造方法及抗蝕劑組成物审中-公开
简体标题：图案形成方法、电子器件的制造方法及抗蚀剂组成物
公开(公告)号：TW201708271A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105121834
申请日：2016-07-12
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：金子明弘 , KANEKO, AKIHIRO , 土村智孝 , TSUCHIMURA, TOMOTAKA , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： C08F22/40 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32
摘要：本發明提供一種形成極微細的圖案時靈敏度較高且解析力較高的圖案形成方法、電子器件的製造方法及抗蝕劑組成物。圖案形成方法具有如下製程：製程（1），使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成膜，前述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有：（A）含有說明書中的通式（1）所表示且ClogP值為2.2以下的重複單元，並且藉由酸的作用而對含有有機溶劑之顯影液之溶解度減少之樹脂；（B）藉由光化射線或放射線的照射產生酸之化合物；及（C）溶劑；製程（2），使用光化射線或放射線對上述膜進行曝光；及製程（3），使用含有有機溶劑之顯影液，對在上述製程（2）中進行了曝光之膜進行顯影而形成負型圖案。
简体摘要：本发明提供一种形成极微细的图案时灵敏度较高且解析力较高的图案形成方法、电子器件的制造方法及抗蚀剂组成物。图案形成方法具有如下制程：制程（1），使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜，前述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有：（A）含有说明书中的通式（1）所表示且ClogP值为2.2以下的重复单元，并且借由酸的作用而对含有有机溶剂之显影液之溶解度减少之树脂；（B）借由光化射线或放射线的照射产生酸之化合物；及（C）溶剂；制程（2），使用光化射线或放射线对上述膜进行曝光；及制程（3），使用含有有机溶剂之显影液，对在上述制程（2）中进行了曝光之膜进行显影而形成负型图案。

6. 发明专利

TWI488840B 雙馬來醯胺酸，雙馬來亞醯胺和其硬化物有权
简体标题：双马来酰胺酸，双马来亚酰胺和其硬化物
公开(公告)号：TWI488840B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW098119014
申请日：2009-06-08
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：上等和良 , UERA, KAZUYOSHI , 大野大典 , OHNO, DAISUKE , 石井賢治 , ISHII, KENJI
IPC分类号： C07D207/452 , C07C235/76 , C07C231/02 , C08F22/40 , C08F290/06
CPC分类号： C07D207/408 , C08G65/44 , C08G65/485

7. 发明专利

TW201427936A 具有橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜之基板的製造方法审中-公开
简体标题：具有横向电场驱动型液晶显示组件用液晶配向膜之基板的制造方法
公开(公告)号：TW201427936A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102136027
申请日：2013-10-04
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：後藤耕平 , GOTO, KOHEI , 山之內洋一 , YAMANOUCHI, HIROKAZU , 南悟志 , MINAMI, SATOSHI , 名木達哉 , NAGI, TATSUYA , 萬代淳彦 , MANDAI, ATSUHIKO , 芦澤亮一 , ASHIZAWA, RYOICHI , 根木之 , NEGI, TAKAYUKI , 櫻葉汀丹尼爾 , SAHADE, DANIEL ANTONIO , 森內正人 , MORIUCHI, MASATO , 川野勇太 , KAWANO, YUTA , 川月喜弘 , KAWATSUKI, NOBUHIRO , 近藤瑞穂 , KONDO, MIZUHO
IPC分类号： C07C381/00 , C07D207/452 , C07D307/58 , C07D311/16 , C08F20/38 , C08F22/40 , G02F1/1337
CPC分类号： C07D307/58 , C07D207/452 , C07D213/63 , C07D311/16 , C08F12/30 , C08F12/32 , C08F20/38 , C08F22/40 , C08F212/145 , G02F1/133711 , G02F2001/133715
摘要：本發明係提供一種以高效率賦予配向控制功能，且烙印(burn-in)特性優異之橫向電場驅動型液晶顯示元件。本發明係提供一種基板的製造方法，其特徵為藉由具有[I]~[III]之步驟，而得到賦予配向控制功能之橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜，而具有前述液晶配向膜，[I]：將含有(A)於特定之溫度範圍表現液晶性之感光性側鏈型高分子、及(B)有機溶劑之聚合物組成物，塗佈於具有橫向電場驅動用之導電膜之基板上而形成塗膜之步驟；[II]：於[I]所得到之塗膜照射經偏光之紫外線之步驟；及[III]：加熱[II]所得到之塗膜之步驟。
简体摘要：本发明系提供一种以高效率赋予配向控制功能，且烙印(burn-in)特性优异之横向电场驱动型液晶显示组件。本发明系提供一种基板的制造方法，其特征为借由具有[I]~[III]之步骤，而得到赋予配向控制功能之横向电场驱动型液晶显示组件用液晶配向膜，而具有前述液晶配向膜，[I]：将含有(A)于特定之温度范围表现液晶性之感光性侧链型高分子、及(B)有机溶剂之聚合物组成物，涂布于具有横向电场驱动用之导电膜之基板上而形成涂膜之步骤；[II]：于[I]所得到之涂膜照射经偏光之紫外线之步骤；及[III]：加热[II]所得到之涂膜之步骤。

8. 发明专利

TWI408156B 可硬化之樹脂組成物及其用途有权
简体标题：可硬化之树脂组成物及其用途
公开(公告)号：TWI408156B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW094118545
申请日：2005-06-06
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：野崎充 , MITSURU NOZAKI
IPC分类号： C08G73/12 , C08F22/40 , B32B7/04
CPC分类号： B32B15/043 , B32B7/12 , B32B27/04 , B32B27/26 , B32B27/281 , B32B27/36 , B32B27/38 , B32B2262/0261 , B32B2262/0269 , B32B2262/101 , B32B2307/306 , B32B2307/51 , B32B2311/00 , B32B2311/12 , B32B2333/04 , B32B2363/00 , B32B2379/08 , B32B2457/08 , C08G73/0655 , C08G73/12 , H05K1/0346

9. 发明专利

TWI402278B 高分岐聚合物之形成方法有权
公开(公告)号：TWI402278B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW097127913
申请日：2008-07-23
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：潘金平 , PAN, JING PIN , 王宗雄 , WANG, TSUNG HSIUNG
IPC分类号： C08F22/40
CPC分类号： C08G73/12 , C08G83/005 , C08L79/085

10. 发明专利

TW201906891A 微影用膜形成材料、微影用膜形成用組成物、微影用下層膜及圖型形成方法审中-公开
简体标题：微影用膜形成材料、微影用膜形成用组成物、微影用下层膜及图型形成方法
公开(公告)号：TW201906891A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107116317
申请日：2018-05-14
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：岡田佳奈 , OKADA, KANA , 堀內淳矢 , HORIUCHI, JUNYA , 牧野嶋高史 , MAKINOSHIMA, TAKASHI , 越後雅敏 , ECHIGO, MASATOSHI
IPC分类号： C08G61/12 , C08F22/40 , C08G8/28 , C08G12/26 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要：本發明係提供一種微影用膜形成材料，其特徵係包含具有下述式(0)之基的化合物，。
简体摘要：本发明系提供一种微影用膜形成材料，其特征系包含具有下述式(0)之基的化合物，。

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