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1. 发明专利

TW202026243A 二氧化矽溶膠的製造方法审中-公开
简体标题：二氧化硅溶胶的制造方法
公开(公告)号：TW202026243A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW109105522
申请日：2016-07-29
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 伊藤昌明 , ITO, MASAAKI , 篠田潤 , SHINODA, JUN
IPC分类号： C01B33/145
摘要：本發明之課題為提供一種即使二氧化矽粒子的粒徑為任何大小，皆可安定地生產均一的二氧化矽粒子的粒徑之二氧化矽溶膠之二氧化矽溶膠的製造方法。一種二氧化矽溶膠的製造方法，其係包含於液(A)中混合液(B)與液(C1)或者液(C2)而製作反應液的步驟，該液(A)係包含鹼觸媒、水及第1有機溶劑；該液(B)係包含烷氧基矽烷或其縮合物及第2有機溶劑；該液(C1)係包含水，pH5.0以上未達8.0；該液(C2)係包含水且不含鹼觸媒。
简体摘要：本发明之课题为提供一种即使二氧化硅粒子的粒径为任何大小，皆可安定地生产均一的二氧化硅粒子的粒径之二氧化硅溶胶之二氧化硅溶胶的制造方法。一种二氧化硅溶胶的制造方法，其系包含于液(A)中混合液(B)与液(C1)或者液(C2)而制作反应液的步骤，该液(A)系包含碱触媒、水及第1有机溶剂；该液(B)系包含烷氧基硅烷或其缩合物及第2有机溶剂；该液(C1)系包含水，pH5.0以上未达8.0；该液(C2)系包含水且不含碱触媒。

2. 发明专利

TW201819299A 陽離子改性二氧化矽之製造方法及陽離子改性二氧化矽分散體，以及使用陽離子改性二氧化矽之研磨用組成物之製造方法及使用陽離子改性二氧化矽之研磨用組成物审中-公开
简体标题：阳离子改性二氧化硅之制造方法及阳离子改性二氧化硅分散体，以及使用阳离子改性二氧化硅之研磨用组成物之制造方法及使用阳离子改性二氧化硅之研磨用组成物
公开(公告)号：TW201819299A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106132178
申请日：2017-09-20
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：田口創万 , TAGUCHI, SOUMA , 芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 三輪直也 , MIWA, NAOYA
IPC分类号： C01B33/18 , C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304
摘要：本發明提供在包含使用矽烷偶合劑而使二氧化矽原料改性步驟的陽離子改性二氧化矽之製造時，可抑制在矽烷偶合劑之添加時或添加後的凝膠化之產生的手段。本發明係一種陽離子改性二氧化矽之製造方法，其係具有下述步驟：混合仄他電位（zeta-potential）顯示為負值的二氧化矽原料與具有胺基或4級陽離子基的矽烷偶合劑，使前述二氧化矽原料與前述矽烷偶合劑反應，得到陽離子改性二氧化矽，　　前述陽離子改性二氧化矽係滿足以下之關係式（1）：　　X＜Y 關係式（1）　　關係式（1）中，X係陽離子改性二氧化矽之成為等電點的pH之值，Y係陽離子改性二氧化矽之pH之值。
简体摘要：本发明提供在包含使用硅烷偶合剂而使二氧化硅原料改性步骤的阳离子改性二氧化硅之制造时，可抑制在硅烷偶合剂之添加时或添加后的凝胶化之产生的手段。本发明系一种阳离子改性二氧化硅之制造方法，其系具有下述步骤：混合仄他电位（zeta-potential）显示为负值的二氧化硅原料与具有胺基或4级阳离子基的硅烷偶合剂，使前述二氧化硅原料与前述硅烷偶合剂反应，得到阳离子改性二氧化硅，　　前述阳离子改性二氧化硅系满足以下之关系式（1）：　　X＜Y 关系式（1）　　关系式（1）中，X系阳离子改性二氧化硅之成为等电点的pH之值，Y系阳离子改性二氧化硅之pH之值。

3. 发明专利

TW201840478A 二氧化矽溶膠的製造方法审中-公开
简体标题：二氧化硅溶胶的制造方法
公开(公告)号：TW201840478A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107105173
申请日：2018-02-13
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI
IPC分类号： C01B33/145
摘要： [課題] 本發明係提供一種可獲得不產生膠狀物、且高度締合之二氧化矽粒子之二氧化矽溶膠的製造方法。　　[解決手段] 一種二氧化矽溶膠的製造方法，其係包含，於包含鹼觸媒、水、第1有機溶劑及締合用二氧化矽粒子之液(A)中，混合包含四甲氧矽烷及其縮合物之至少一者以及第2有機溶劑之液(B)，以製作反應液的步驟，於前述混合時，前述液(B)的添加速度係相對前述液(A)中所含的水1mol，為以矽原子換算為8.5×10-4~5.6×10-3mol/min。
简体摘要： [课题] 本发明系提供一种可获得不产生胶状物、且高度缔合之二氧化硅粒子之二氧化硅溶胶的制造方法。　　[解决手段] 一种二氧化硅溶胶的制造方法，其系包含，于包含碱触媒、水、第1有机溶剂及缔合用二氧化硅粒子之液(A)中，混合包含四甲氧硅烷及其缩合物之至少一者以及第2有机溶剂之液(B)，以制作反应液的步骤，于前述混合时，前述液(B)的添加速度系相对前述液(A)中所含的水1mol，为以硅原子换算为8.5×10-4~5.6×10-3mol/min。

4. 发明专利

TW201631073A 研磨用組成物审中-公开
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TW201631073A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105101553
申请日：2016-01-19
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1436 , H01L21/31053
摘要：本發明之課題在於提供一種於磺酸修飾之水性陰離子溶膠中，在用以研磨包含SiN之研磨對象物之研磨用組成物中用作為研磨粒時，可提升SiN研磨速率之隨時間經過的穩定性，並且亦可降低過氧化氫的含量之技術。本發明之解決手段，係於pH6以下之研磨用組成物中，含有：磺酸被固定化於二氧化矽粒子的表面而成之磺酸修飾之膠態矽、與水；此時，前述磺酸修飾之膠態矽，係使用來自藉由下述製造方法所製造之磺酸修飾之水性陰離子矽溶膠者，該製造方法包含：在具有可化學性地轉換成磺酸基之官能基之矽烷偶合劑的存在下，加熱原料膠態矽而得到反應物之第1反應步驟，該原料膠態矽，其具有依據使用掃描型電子顯微鏡之影像解析所得的Heywood徑(圓等效徑)之體積平均粒徑40%以下的粒徑之微小粒子的個數分布比率為10%以下；以及藉由處理前述反應物，將前述官能基轉換成磺酸基之第2反應步驟。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种于磺酸修饰之水性阴离子溶胶中，在用以研磨包含SiN之研磨对象物之研磨用组成物中用作为研磨粒时，可提升SiN研磨速率之随时间经过的稳定性，并且亦可降低过氧化氢的含量之技术。本发明之解决手段，系于pH6以下之研磨用组成物中，含有：磺酸被固定化于二氧化硅粒子的表面而成之磺酸修饰之胶态硅、与水；此时，前述磺酸修饰之胶态硅，系使用来自借由下述制造方法所制造之磺酸修饰之水性阴离子硅溶胶者，该制造方法包含：在具有可化学性地转换成磺酸基之官能基之硅烷偶合剂的存在下，加热原料胶态硅而得到反应物之第1反应步骤，该原料胶态硅，其具有依据使用扫描型电子显微镜之影像解析所得的Heywood径(圆等效径)之体积平均粒径40%以下的粒径之微小粒子的个数分布比率为10%以下；以及借由处理前述反应物，将前述官能基转换成磺酸基之第2反应步骤。

5. 发明专利

TW201630810A 改質膠態矽及製造方法以及使用其之研磨劑审中-公开
简体标题：改质胶态硅及制造方法以及使用其之研磨剂
公开(公告)号：TW201630810A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105101552
申请日：2016-01-19
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO
IPC分类号： C01B33/02 , B01J13/02 , C09K3/14 , C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C01B33/146 , C01B33/148 , C01B33/149 , C01P2004/03 , C01P2004/51 , C01P2004/61 , C07F7/025 , C09K3/14 , C09K3/1436 , H01L21/304 , H01L21/31053 , H01L21/76819
摘要：本發明之課題在於提供一種在用以研磨包含如SiN晶圓般之容易附著帶電的改質膠態矽之材料的研磨對象物之研磨用組成物中，用作為研磨粒時，可提升研磨速率之隨時間經過的穩定性之改質膠態矽及其製造方法。本發明之解決手段為一種改質膠態矽，其係將原料膠態矽改質而成，該原料膠態矽，係具有依據使用掃描型電子顯微鏡之影像解析所得的Heywood徑(圓等效徑)之體積平均粒徑為40%以下的粒徑之微小粒子的個數分布比率為10%以下。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种在用以研磨包含如SiN晶圆般之容易附着带电的改质胶态硅之材料的研磨对象物之研磨用组成物中，用作为研磨粒时，可提升研磨速率之随时间经过的稳定性之改质胶态硅及其制造方法。本发明之解决手段为一种改质胶态硅，其系将原料胶态硅改质而成，该原料胶态硅，系具有依据使用扫描型电子显微镜之影像解析所得的Heywood径(圆等效径)之体积平均粒径为40%以下的粒径之微小粒子的个数分布比率为10%以下。

6. 发明专利

TW201806861A 陽離子改性二氧化矽之製造方法及陽離子改性二氧化矽分散體审中-公开
简体标题：阳离子改性二氧化硅之制造方法及阳离子改性二氧化硅分散体
公开(公告)号：TW201806861A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106110856
申请日：2017-03-30
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：田口創万 , TAGUCHI, SOUMA , 芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 三輪直也 , MIWA, NAOYA
IPC分类号： C01B33/146 , C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： C01B33/149
摘要：本發明提供於包含使用矽烷偶合劑使原料二氧化矽改性之陽離子改性二氧化矽分散體之製造中，抑制矽烷偶合劑添加時或添加後之凝膠化發生，並且即使使用具有高二氧化矽濃度之二氧化矽原料時，亦可於二氧化矽粒子表面導入充分量的陽離子性基之手段。對於ζ電位顯示負值之二氧化矽原料，乃添加具有陽離子性基之矽烷偶合劑，使前述二氧化矽原料與前述矽烷偶合劑反應而獲得陽離子改性二氧化矽。
简体摘要：本发明提供于包含使用硅烷偶合剂使原料二氧化硅改性之阳离子改性二氧化硅分散体之制造中，抑制硅烷偶合剂添加时或添加后之凝胶化发生，并且即使使用具有高二氧化硅浓度之二氧化硅原料时，亦可于二氧化硅粒子表面导入充分量的阳离子性基之手段。对于ζ电位显示负值之二氧化硅原料，乃添加具有阳离子性基之硅烷偶合剂，使前述二氧化硅原料与前述硅烷偶合剂反应而获得阳离子改性二氧化硅。

7. 发明专利

TW201716328A 二氧化矽溶膠的製造方法审中-公开
简体标题：二氧化硅溶胶的制造方法
公开(公告)号：TW201716328A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105124163
申请日：2016-07-29
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 伊藤昌明 , ITO, MASAAKI , 篠田潤 , SHINODA, JUN
IPC分类号： C01B33/145
CPC分类号： C01B33/145
摘要：本發明之課題為提供一種即使二氧化矽粒子的粒徑為任何大小，皆可安定地生產均一的二氧化矽粒子的粒徑之二氧化矽溶膠之二氧化矽溶膠的製造方法。一種二氧化矽溶膠的製造方法，其係包含於液(A)中混合液(B)與液(C1)或者液(C2)而製作反應液的步驟，該液(A)係包含鹼觸媒、水及第1有機溶劑；該液(B)係包含烷氧基矽烷或其縮合物及第2有機溶劑；該液(C1)係包含水，pH5.0以上未達8.0；該液(C2)係包含水且不含鹼觸媒。
简体摘要：本发明之课题为提供一种即使二氧化硅粒子的粒径为任何大小，皆可安定地生产均一的二氧化硅粒子的粒径之二氧化硅溶胶之二氧化硅溶胶的制造方法。一种二氧化硅溶胶的制造方法，其系包含于液(A)中混合液(B)与液(C1)或者液(C2)而制作反应液的步骤，该液(A)系包含碱触媒、水及第1有机溶剂；该液(B)系包含烷氧基硅烷或其缩合物及第2有机溶剂；该液(C1)系包含水，pH5.0以上未达8.0；该液(C2)系包含水且不含碱触媒。

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