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1. 发明专利

TW469757B 遷移型電漿加熱用陽極有权
简体标题：迁移型等离子加热用阳极
公开(公告)号：TW469757B
公开(公告)日：2001-12-21
申请号：TW089126456
申请日：2000-12-12
申请人：新日本製鐵股份有限公司
发明人：河內毅 , 山村和人 , 三武裕幸 , 木下潤一 , 今永克洋 , 土岐正弘 , 木村欣晃 , 川輝夫
IPC分类号： H05H , B22D
CPC分类号： B22D11/11 , B22D41/015 , H05B7/00 , H05B7/185 , H05H1/28 , H05H1/34 , H05H1/40 , H05H2001/3421 , H05H2001/3478
摘要：一種遷移型電漿加熱用陽極，其係用以將直流電流通電至容器內之熔融金屬，而使之一面發生Ar電漿、一面加熱該熔融金屬者，乃具有：一由導電性金屬所構成，且內部具有水冷結構之陽極；一隔一定間隔而設於前述陽極外側，且內部具有水冷結構之金屬製保護體；及，一用以供給含有Ar之氣體於前述陽極與前述保護體之間隙之氣體供給構件。而，前述陽極前端外表面之中心部則朝內側呈凹陷狀。
简体摘要：一种迁移型等离子加热用阳极，其系用以将直流电流通电至容器内之熔融金属，而使之一面发生Ar等离子、一面加热该熔融金属者，乃具有：一由导电性金属所构成，且内部具有水冷结构之阳极；一隔一定间隔而设于前述阳极外侧，且内部具有水冷结构之金属制保护体；及，一用以供给含有Ar之气体于前述阳极与前述保护体之间隙之气体供给构件。而，前述阳极前端外表面之中心部则朝内侧呈凹陷状。

2. 发明专利

TW200915372A 電漿頭結構及具有該電漿頭結構之電漿放電裝置 PLASMA HEAD AND PLASMA-DISCHARGING DEVICE USING THE SAME 审中-公开
简体标题：等离子头结构及具有该等离子头结构之等离子放电设备 PLASMA HEAD AND PLASMA-DISCHARGING DEVICE USING THE SAME
公开(公告)号：TW200915372A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW096135262
申请日：2007-09-21
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：蔡陳德 TSAI, CHEN DER , 陳志瑋 CHEN, CHIH WEI , 張加强 CHANG, CHIA CHIANG , 許文通 HSU, WEN TUNG , 楊德輝 YANG, TE HUI
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H05H1/28 , H05H1/34 , H05H2001/3468
摘要：一種電漿頭結構及具有該電漿頭結構之電漿放電裝置,該電漿放電裝置包含一具有兩電極端之電源供應器;該電漿頭結構包括一外電極、一內電極及一導流結構:該外電極及內電極分別連接電源供應器之兩電極端,該外電極具有一腔室,該內電極設置於該腔室內;該導流結構係設置於該內電極內,其具有至少一輸入端及至少一輸出端,該輸入端係可輸入工作流體,該輸出端係連通外電極之腔室;由導流結構導引工作流體進入內電極內部,再將工作流體輸出至外電極之腔室;藉由該工作流體對內電極進行冷卻作用,可有效降低內電極溫度、避免內電極損耗,增加內電極使用壽命及避免金屬離子剝離所造成的污染。
简体摘要：一种等离子头结构及具有该等离子头结构之等离子放电设备,该等离子放电设备包含一具有两电极端之电源供应器;该等离子头结构包括一外电极、一内电极及一导流结构:该外电极及内电极分别连接电源供应器之两电极端,该外电极具有一腔室,该内电极设置于该腔室内;该导流结构系设置于该内电极内,其具有至少一输入端及至少一输出端,该输入端系可输入工作流体,该输出端系连通外电极之腔室;由导流结构导引工作流体进入内电极内部,再将工作流体输出至外电极之腔室;借由该工作流体对内电极进行冷却作用,可有效降低内电极温度、避免内电极损耗,增加内电极使用寿命及避免金属离子剥离所造成的污染。

3. 发明专利

TW201612135A 金屬複合氧化物微粒子及其製造方法审中-公开
简体标题：金属复合氧化物微粒子及其制造方法
公开(公告)号：TW201612135A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104118123
申请日：2015-06-04
申请人：日清工程股份有限公司 , NISSHIN ENGINEERING INC.
发明人：木下晶弘 , KINOSHITA, AKIHIRO
IPC分类号： C04B35/45 , C04B35/64
CPC分类号： C01G3/006 , C01G3/00 , C01P2002/72 , C01P2002/84 , C01P2004/03 , C01P2004/64 , C01P2006/40 , C01P2006/60 , H05H1/28 , H05H1/42 , H05H1/46 , H05H2001/4667
摘要：金屬複合氧化物微粒子係以一般式MCu2O2所表示且包含銅。M係Sr及Ba當中至少1個之鹼土類金屬，粒徑為1~100nm，且具有透明性。M亦可進一步包含Mg及Ca當中至少1個之鹼土類金屬。此金屬複合氧化物微粒子係可提供一種具有透明性，且其粒度分布寬度窄，具有均勻的粒徑，幾乎無1μm以上之粗大粒子的混入之粒狀的p型無機氧化物半導體之微粒子的金屬複合氧化物微粒子。又，金屬複合氧化物微粒子之製造方法係可容易且確實地製造具有透明性之粒狀的金屬複合氧化物微粒子。
简体摘要：金属复合氧化物微粒子系以一般式MCu2O2所表示且包含铜。M系Sr及Ba当中至少1个之碱土类金属，粒径为1~100nm，且具有透明性。M亦可进一步包含Mg及Ca当中至少1个之碱土类金属。此金属复合氧化物微粒子系可提供一种具有透明性，且其粒度分布宽度窄，具有均匀的粒径，几乎无1μm以上之粗大粒子的混入之粒状的p型无机氧化物半导体之微粒子的金属复合氧化物微粒子。又，金属复合氧化物微粒子之制造方法系可容易且确实地制造具有透明性之粒状的金属复合氧化物微粒子。

4. 发明专利

TW200706072A 用於廢棄物處理室之改良電漿炬 AN IMPROVED PLASMA TORCH FOR USE IN A WASTE PROCESSING CHAMBER 失效
简体标题：用于废弃物处理室之改良等离子炬 AN IMPROVED PLASMA TORCH FOR USE IN A WASTE PROCESSING CHAMBER
公开(公告)号：TW200706072A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095112617
申请日：2006-04-10
申请人： E. E. R. 環境能源(以色列)有限公司 E.E.R. ENVIRONMENTAL ENERGY RESOURCES (ISRAEL) LTD.
发明人：維拉里G 尼丹柯 GNEDENKO, VALERI G. , 亞力山卓L 梭里斯 SURIS, ALEXANDER L. , 大衛佩蓋茲 PEGAZ, DAVID
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H05H1/48 , H05H1/28
摘要：本發明係關於一種電漿炬,用以插入廢棄物處理室壁上之開口。本發明的電漿炬之特徵在於其包含一具有一上端與一下端之同軸套筒,套筒至少圍繞於位於開口之電炬的外表面部分,藉以於電炬的外表面與套筒的內表面之間形成一絕緣室;其中至少一部份之同軸套筒的部分是多孔的或是對於一熱交換流體是有滲透性的,該同軸套筒至少圍繞一部份之該電炬的該外表面,該電炬位於該壁之該開口中,該電炬包含一入口,用以將該熱交換流體導入絕緣室。當經由開口插入電漿炬時,於處理室壁與同軸套筒之間存在一間隙,藉此,同軸套筒與絕緣室可以遮住大量的從處理室壁與從處理室內部輻射出的熱,以保護電漿炬之外表面,而且流經入口的熱交換流體離開絕緣室進入處理室。
简体摘要：本发明系关于一种等离子炬,用以插入废弃物处理室壁上之开口。本发明的等离子炬之特征在于其包含一具有一上端与一下端之同轴套筒,套筒至少围绕于位于开口之电炬的外表面部分,借以于电炬的外表面与套筒的内表面之间形成一绝缘室;其中至少一部份之同轴套筒的部分是多孔的或是对于一热交换流体是有渗透性的,该同轴套筒至少围绕一部份之该电炬的该外表面,该电炬位于该壁之该开口中,该电炬包含一入口,用以将该热交换流体导入绝缘室。当经由开口插入等离子炬时,于处理室壁与同轴套筒之间存在一间隙,借此,同轴套筒与绝缘室可以遮住大量的从处理室壁与从处理室内部辐射出的热,以保护等离子炬之外表面,而且流经入口的热交换流体离开绝缘室进入处理室。

5. 发明专利

TWI352368B 電漿頭結構及具有該電漿頭結構之電漿放電裝置 PLASMA HEAD AND PLASMA-DISCHARGING DEVICE USING THE SAME 有权
简体标题：等离子头结构及具有该等离子头结构之等离子放电设备 PLASMA HEAD AND PLASMA-DISCHARGING DEVICE USING THE SAME
公开(公告)号：TWI352368B
公开(公告)日：2011-11-11
申请号：TW096135262
申请日：2007-09-21
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：蔡陳德 , 陳志瑋 , 張加強 , 許文通 , 楊德輝
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H05H1/28 , H05H1/34 , H05H2001/3468
摘要：一種電漿頭結構及具有該電漿頭結構之電漿放電裝置，該電漿放電裝置包含一具有兩電極端之電源供應器；該電漿頭結構包括一外電極、一內電極及一導流結構：該外電極及內電極分別連接電源供應器之兩電極端，該外電極具有一腔室，該內電極設置於該腔室內；該導流結構係設置於該內電極內，其具有至少一輸入端及至少一輸出端，該輸入端係可輸入工作流體，該輸出端係連通外電極之腔室；由導流結構導引工作流體進入內電極內部，再將工作流體輸出至外電極之腔室；藉由該工作流體對內電極進行冷卻作用，可有效降低內電極溫度、避免內電極損耗，增加內電極使用壽命及避免金屬離子剝離所造成的污染。
简体摘要：一种等离子头结构及具有该等离子头结构之等离子放电设备，该等离子放电设备包含一具有两电极端之电源供应器；该等离子头结构包括一外电极、一内电极及一导流结构：该外电极及内电极分别连接电源供应器之两电极端，该外电极具有一腔室，该内电极设置于该腔室内；该导流结构系设置于该内电极内，其具有至少一输入端及至少一输出端，该输入端系可输入工作流体，该输出端系连通外电极之腔室；由导流结构导引工作流体进入内电极内部，再将工作流体输出至外电极之腔室；借由该工作流体对内电极进行冷却作用，可有效降低内电极温度、避免内电极损耗，增加内电极使用寿命及避免金属离子剥离所造成的污染。

6. 发明专利

TW315340B 電漿焊炬失效
简体标题：等离子焊炬
公开(公告)号：TW315340B
公开(公告)日：1997-09-11
申请号：TW085101734
申请日：1996-02-12
申请人：小松製作所股份有限公司
发明人：北橋正光 , 德永裕之
IPC分类号： B23K
CPC分类号： H05H1/3405 , H05H1/28 , H05H2001/3436 , H05H2001/3478
摘要：一種電漿焊炬，其係將從電極延伸之電漿電弧在焊炬噴嘴縮小而使其噴出之電漿焊炬，其特徵為可將焊炬噴嘴軸心對於焊炬體中心偏心。
简体摘要：一种等离子焊炬，其系将从电极延伸之等离子电弧在焊炬喷嘴缩小而使其喷出之等离子焊炬，其特征为可将焊炬喷嘴轴心对于焊炬体中心偏心。

7. 发明专利

TW201806022A 電漿源及半導體加工裝置审中-公开
简体标题：等离子源及半导体加工设备
公开(公告)号：TW201806022A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW105139032
申请日：2016-11-28
申请人：北京北方華創微電子裝備有限公司
发明人：孫寶林
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67 , H05H1/28
摘要：本發明提供一種電漿源及半導體加工裝置。該電漿源包括介電質襯筒、環繞在該介電質襯筒周圍的線圈以及罩設在該線圈周圍的線圈盒，其中，在該線圈盒的側壁的底部區域設置有第一進氣口，用以向該線圈盒內輸送冷卻氣體；在該線圈盒的頂壁上設置有第一出氣口，用以排出該線圈盒內的冷卻氣體。本發明提供的電漿源，其可以降低熱對流的阻力，提高熱對流的速度，從而可以提高裝置的散熱能力。
简体摘要：本发明提供一种等离子源及半导体加工设备。该等离子源包括介电质衬筒、环绕在该介电质衬筒周围的线圈以及罩设在该线圈周围的线圈盒，其中，在该线圈盒的侧壁的底部区域设置有第一进气口，用以向该线圈盒内输送冷却气体；在该线圈盒的顶壁上设置有第一出气口，用以排出该线圈盒内的冷却气体。本发明提供的等离子源，其可以降低热对流的阻力，提高热对流的速度，从而可以提高设备的散热能力。

8. 发明专利

TWI418260B 用於廢棄物處理室之改良電漿炬失效
简体标题：用于废弃物处理室之改良等离子炬
公开(公告)号：TWI418260B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW095112617
申请日：2006-04-10
申请人： E.E.R.環境能源(以色列)有限公司 , E.E.R. ENVIRONMENTAL ENERGY RESOURCES (ISRAEL) LTD.
发明人：維拉里G 尼丹柯 , GNEDENKO, VALERI G. , 亞力山卓L 梭里斯 , SURIS, ALEXANDER L. , 大衛佩蓋茲 , PEGAZ, DAVID
IPC分类号： H05H1/42 , H05H1/34 , H05H1/28 , F23G5/00
CPC分类号： H05H1/48 , H05H1/28

9. 发明专利

TW528624B 用以加熱熔鋼之電漿噴槍有权
简体标题：用以加热熔钢之等离子喷枪
公开(公告)号：TW528624B
公开(公告)日：2003-04-21
申请号：TW091102621
申请日：2002-02-15
申请人：新日本製鐵股份有限公司
发明人：福永新一 , 西原良治 , 田中和久 , 朝野三司 , 安光和典 , 平本二 , 三武裕幸 , 河內毅
IPC分类号： B22D
CPC分类号： H05H1/34 , B22D11/11 , B22D41/015 , H05B7/00 , H05H1/28 , H05H1/48 , H05H2001/3436 , H05H2001/3457 , H05H2001/3478
摘要：本發明係一種用於熔鋼之加熱之電漿噴槍20a，包含有一外筒26，係由已環狀地封閉底部之二重管21所構成者；及，一有底之筒狀陽電極28，係於外筒26之內部與二重管21之內側隔一間隙而裝設者；而，陽電極28之材料不包括純銅，且該材料之軟化溫度超過150℃，該陽極28之導電係數D相對該外筒26之導電係數N之比則滿足0.2≦D/N≦1.0，而可防止產生於陽極之熱及潑濺所導致之熔損及磨損，並抑制旁側電弧之產生，以使電漿噴槍之壽命延長，並使鑄造作業安定化且提昇鑄片之品質。
简体摘要：本发明系一种用于熔钢之加热之等离子喷枪20a，包含有一外筒26，系由已环状地封闭底部之二重管21所构成者；及，一有底之筒状阳电极28，系于外筒26之内部与二重管21之内侧隔一间隙而装设者；而，阳电极28之材料不包括纯铜，且该材料之软化温度超过150℃，该阳极28之导电系数D相对该外筒26之导电系数N之比则满足0.2≦D/N≦1.0，而可防止产生于阳极之热及泼溅所导致之熔损及磨损，并抑制旁侧电弧之产生，以使等离子喷枪之寿命延长，并使铸造作业安定化且提升铸片之品质。

10. 发明专利

TW225085B 電漿槍失效
简体标题：等离子枪
公开(公告)号：TW225085B
公开(公告)日：1994-06-11
申请号：TW082106716
申请日：1993-08-20
申请人：電漿技術股份有限公司
发明人：麥可斯戴爾提可
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H05H1/42 , H05H1/28 , H05H1/34
摘要：本發明之電漿槍特別適於對窄小的洞穴孔洞及孔道等之內壁進行塗層。此電漿槍基本上包括電漿槍頭部構件、電漿槍桿構件及連接構件。此三單元設計成可由電漿槍操作人員迅速且輕易更換之可換模組。電漿槍頭部僅藉兩支螺絲釘固定於電漿槍桿構件，同時，連接構件僅藉三支螺絲釘固定於電漿槍桿構件上。所有供給電漿槍操作所需之介質及電能之孔道、導體及導管皆延伸於電漿槍桿組合之內。
简体摘要：本发明之等离子枪特别适于对窄小的洞穴孔洞及孔道等之内壁进行涂层。此等离子枪基本上包括等离子枪头部构件、等离子枪杆构件及连接构件。此三单元设计成可由等离子枪操作人员迅速且轻易更换之可换模块。等离子枪头部仅藉两支螺丝钉固定于等离子枪杆构件，同时，连接构件仅藉三支螺丝钉固定于等离子枪杆构件上。所有供给等离子枪操作所需之介质及电能之孔道、导体及导管皆延伸于等离子枪杆组合之内。

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