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热词
    • 2. 发明专利
    • 半導體製造裝置及製造方法
    • 半导体制造设备及制造方法
    • TW201806056A
    • 2018-02-16
    • TW106116686
    • 2017-05-19
    • 吉帝偉士股份有限公司J-DEVICES CORPORATION
    • 甲斐稔KAI, MINORU
    • H01L21/67H01L21/68H01L23/14H01L23/498
    • H01L21/67132H01L21/67144H01L21/681H01L21/6838H01L23/147H01L23/49833H01L24/05H01L24/75
    • 在此提供一種半導體製造裝置及半導體裝置之製造方法,能夠維持半導體晶片對於被搭載體之被接合面之搭載精確度,且能夠縮短晶粒附著所耗費的時間。半導體製造裝置包含工作台、吸附控制部、擷取部及控制部。工作台接續於真空產生器,且用以吸附具有多個半導體晶片之半導體晶圓。吸附控制部接續於工作台及真空產生器,且用以控制工作台與真空產生器間之接續情形。擷取部用以分別擷取各個半導體晶片。控制部用以控制擷取部之移動及旋轉,且用以控制吸附控制部。控制部用以控制擷取部將半導體晶片自工作台移動至且接合於支撐基板上之裝設位置。
    • 在此提供一种半导体制造设备及半导体设备之制造方法,能够维持半导体芯片对于被搭载体之被接合面之搭载精确度,且能够缩短晶粒附着所耗费的时间。半导体制造设备包含工作台、吸附控制部、截取部及控制部。工作台接续于真空产生器,且用以吸附具有多个半导体芯片之半导体晶圆。吸附控制部接续于工作台及真空产生器,且用以控制工作台与真空产生器间之接续情形。截取部用以分别截取各个半导体芯片。控制部用以控制截取部之移动及旋转,且用以控制吸附控制部。控制部用以控制截取部将半导体芯片自工作台移动至且接合于支撑基板上之装设位置。
    • 5. 发明专利
    • 半導體接合設備及相關技術
    • 半导体接合设备及相关技术
    • TW201742106A
    • 2017-12-01
    • TW106105124
    • 2017-02-16
    • 蘇士微科技印刷術股份有限公司SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH
    • 強生 黑爾JOHNSON, HALE喬治 葛瑞格利GEORGE, GREGORY
    • H01L21/02H01L21/30
    • H01L21/67092B65G47/91H01L21/30H01L21/4763H01L21/683H01L24/75H01L2224/7531H01L2224/7555Y10T156/10Y10T156/1092Y10T156/1744
    • 一種半導體結構接合設備被揭露。該設備可包括校平調整系統(leveling adjustment system),其被建構來提供該設備的上塊體組件及下塊體組件的校平調整。在一些例子中,該校平調整系統可包括多個螺紋柱、異螺距螺紋式(differentially threaded)調整軸套、及校平套筒。在一些例子中,該校平調整系統可進一步包括多個預加載彈簧,其被建構來提供一給定的預加載能力和調整範圍。在一些例子中,該校平調整系統可進一步包括一測力器(load cell),該等螺紋柱的一者可被插入穿過該測力器。在一些實施例中,該上塊體組件可進一步包括一反作用力板(reaction plate),其被建構來減小該上塊體組件的變形。在一些實施例中,該上塊體組件可進一步包括一隔熱板,其被建構來提供服貼的撓曲(compliance deflection)且可如所需地是單片式或多片式構造。
    • 一种半导体结构接合设备被揭露。该设备可包括校平调整系统(leveling adjustment system),其被建构来提供该设备的上块体组件及下块体组件的校平调整。在一些例子中,该校平调整系统可包括多个螺纹柱、异螺距螺纹式(differentially threaded)调整轴套、及校平套筒。在一些例子中,该校平调整系统可进一步包括多个预加载弹簧,其被建构来提供一给定的预加载能力和调整范围。在一些例子中,该校平调整系统可进一步包括一测力器(load cell),该等螺纹柱的一者可被插入穿过该测力器。在一些实施例中,该上块体组件可进一步包括一反作用力板(reaction plate),其被建构来减小该上块体组件的变形。在一些实施例中,该上块体组件可进一步包括一隔热板,其被建构来提供服贴的挠曲(compliance deflection)且可如所需地是单片式或多片式构造。