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1. 发明专利

TW201301331A 用於處理靶材表面的帶電荷粒子系統审中-公开
简体标题：用于处理靶材表面的带电荷粒子系统
公开(公告)号：TW201301331A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101115109
申请日：2012-04-27
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：凡登布朗艾爾瑞克 , VAN DEN BROM, ALRIK , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅 , STEENBRINK, STIJN WILLEM HERMAN KAREL , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 卡派爾霍夫彼得 , KAPPELHOF, PIETER
IPC分类号： H01J37/20
CPC分类号： H01J37/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70975 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/024 , H01J2237/03 , H01J2237/0437 , H01J2237/1502 , H01J2237/153
摘要：本發明關於一種用於以至少一個帶電荷粒子束來處理靶材表面的帶電荷粒子系統。該系統包含光學柱，其具有用於產生複數個帶電荷粒子束的束產生器模組、用於將該複數個束接通及切斷的束調變器模組以及用於將束或子束投射在該靶材表面上的束投射器模組。該系統更包含將該等模組中的各者支撐在固定位置的框架以及用於將束及/或子束中的至少一者與下游模組元件對準的對準元件。
简体摘要：本发明关于一种用于以至少一个带电荷粒子束来处理靶材表面的带电荷粒子系统。该系统包含光学柱，其具有用于产生复数个带电荷粒子束的束产生器模块、用于将该复数个束接通及切断的束调制器模块以及用于将束或子束投射在该靶材表面上的束投射器模块。该系统更包含将该等模块中的各者支撑在固定位置的框架以及用于将束及/或子束中的至少一者与下游模块组件对准的对准组件。

2. 发明专利

TWI412053B 多束充電粒子光學系統以及具有至少兩個電極的透鏡結構失效
简体标题：多束充电粒子光学系统以及具有至少两个电极的透镜结构
公开(公告)号：TWI412053B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW096127014
申请日：2007-07-25
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：彼得克路特 , KRUIT, PIETER , 張艷霞 , ZHANG, YANXIA , 馬汀J 梵布魯根 , VAN BRUGGEN, MARTIJN J. , 史提恩威廉卡瑞爾赫曼史提賓克 , STEENBRINK, STIJN WILLEM HERMAN KAREL
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/063
CPC分类号： H01J37/12 , H01J2237/0453 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/153 , H01J2237/26 , H01J2237/3175

3. 发明专利

TW201009877A 用於離子佈植系統減速後磁性能量過濾器 POST-DECEL MAGNETIC ENERGY FILTER FOR ION IMPLANTATION SYSTEMS 审中-公开
简体标题：用于离子布植系统减速后磁性能量过滤器 POST-DECEL MAGNETIC ENERGY FILTER FOR ION IMPLANTATION SYSTEMS
公开(公告)号：TW201009877A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098121321
申请日：2009-06-25
申请人：艾克塞利斯科技公司
发明人：芮汀傑佛瑞 , 法雷馬文 , 梵德伯格寶 , 史密克希歐多爾 , 坂瀨貴夫
IPC分类号： H01J , H01L
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J2237/0492 , H01J2237/103 , H01J2237/1405 , H01J2237/1501 , H01J2237/1523 , H01J2237/153 , H01J2237/21 , H01J2237/24528 , H01J2237/31705
摘要：提供一種於離子佈植至工件之期間以磁性過濾一離子束之系統及方法，其中，自一離子源發射離子且加速該等離子使其遠離該離子源以形成一離子束。離子束由一質量分析器所質量分析，其中，離子是選擇的。一旦該離子束為質量分析，離子束接著經由一減速器所減速，且進而磁性過濾減速之下游的離子束。磁性過濾由一四極磁性能量過濾器所提供，其中，形成一磁場，用於截取離開該減速器之離子束的離子以選擇性過濾不合意的離子與快速的中性粒子。
简体摘要：提供一种于离子布植至工件之期间以磁性过滤一离子束之系统及方法，其中，自一离子源发射离子且加速该等离子使其远离该离子源以形成一离子束。离子束由一质量分析器所质量分析，其中，离子是选择的。一旦该离子束为质量分析，离子束接着经由一减速器所减速，且进而磁性过滤减速之下游的离子束。磁性过滤由一四极磁性能量过滤器所提供，其中，形成一磁场，用于截取离开该减速器之离子束的离子以选择性过滤不合意的离子与快速的中性粒子。

5. 发明专利

TW201310025A 減少檢測時基板邊緣效應的方法與裝置审中-公开
简体标题：减少检测时基板边缘效应的方法与设备
公开(公告)号：TW201310025A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW100143068
申请日：2011-11-24
申请人：漢民微測科技股份有限公司 , HERMES MICROVISION INC.
发明人：趙炎 , ZHAO, YAN , 招允佳 , JAU, JACK , 王義向 , WANG, YI-XIANG
IPC分类号： G01N23/04 , G01R1/067
CPC分类号： G01N23/225 , G01N2223/611 , H01J2237/0048 , H01J2237/153 , H01J2237/2817
摘要：本發明揭露一種減少檢測時由施加基板偏壓引起造成影像變化或扭曲的基板邊緣效應的裝置與方法。本發明利用具有邊緣效應消除器的邊緣板以使得當利用帶電粒子束檢視基板時可獲得在基板邊緣處無扭曲的影像。
简体摘要：本发明揭露一种减少检测时由施加基板偏压引起造成影像变化或扭曲的基板边缘效应的设备与方法。本发明利用具有边缘效应消除器的边缘板以使得当利用带电粒子束视图基板时可获得在基板边缘处无扭曲的影像。

6. 发明专利

TW201248672A 帶電粒子束裝置之單色器 MONOCHROMATOR FOR CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS 审中-公开
简体标题：带电粒子束设备之单色器 MONOCHROMATOR FOR CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS
公开(公告)号：TW201248672A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW101118079
申请日：2012-05-21
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：任偉明 , 陳仲瑋
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/28 , G21K1/093 , H01J37/05 , H01J2237/049 , H01J2237/057 , H01J2237/153
摘要：本發明提供一種可減少帶電粒子裝置中一主帶電粒子束之能量散佈的單色器,單色器包含一粒子束調整元件、二個Wien過濾器形式的分散單元與一能量限制孔徑。在單色器中,形成折射散佈與沿光軸的基本軌跡的雙對稱性,不但根本上避免引發實際上無法補償的離軸像差,同時也可確保離開的粒子束在單色器內具有一共焦、無分散的虛擬交叉。因此,在掃描式電子顯微鏡中使用單色器可以減少色散像差而不會引起不良的影響,以提高最終成像解析度。成像解析度的改進對於基於低電壓掃描式電子顯微鏡原理的低電壓掃描式電子顯微鏡及相關裝置而言更加明顯,例如半導體良率管理的缺陷檢測與缺陷檢視。本發明同時提供了兩種將一單色器整合到一掃描式電子顯微鏡的方法,其一是將一單色器置於電子源與聚光鏡之間,而另一種方法是將一單色器置於粒子束限制孔徑與物鏡之間。前者提供一額外能量角度過濾,並獲得一個較小的有效能量散佈。
简体摘要：本发明提供一种可减少带电粒子设备中一主带电粒子束之能量散布的单色器,单色器包含一粒子束调整组件、二个Wien过滤器形式的分散单元与一能量限制孔径。在单色器中,形成折射散布与沿光轴的基本轨迹的双对称性,不但根本上避免引发实际上无法补偿的离轴像差,同时也可确保离开的粒子束在单色器内具有一共焦、无分散的虚拟交叉。因此,在扫描式电子显微镜中使用单色器可以减少色散像差而不会引起不良的影响,以提高最终成像分辨率。成像分辨率的改进对于基于低电压扫描式电子显微镜原理的低电压扫描式电子显微镜及相关设备而言更加明显,例如半导体良率管理的缺陷检测与缺陷视图。本发明同时提供了两种将一单色器集成到一扫描式电子显微镜的方法,其一是将一单色器置于电子源与聚光镜之间,而另一种方法是将一单色器置于粒子束限制孔径与物镜之间。前者提供一额外能量角度过滤,并获得一个较小的有性能量散布。

7. 发明专利

TW201637064A 於掃描式電子顯微鏡圖像中減少電荷聚集假影之方法及系統审中-公开
简体标题：于扫描式电子显微镜图像中减少电荷聚集假影之方法及系统
公开(公告)号：TW201637064A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW105106549
申请日：2016-03-03
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：希爾斯克里斯多福 , SEARS, CHRISTOPHER , 克拉克班傑明 , CLARK, BENJAMIN
IPC分类号： H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/265 , H01J2237/004 , H01J2237/153 , H01J2237/226
摘要：本發明揭示一種用於減輕電荷聚集假影之掃描式電子顯微鏡系統，其包含用於獲取來自一樣品之多個圖像之一掃描式電子顯微鏡子系統。該等圖像包含一或多組互補圖像。該一或多組互補圖像包含沿著一第一掃描方向獲取之一第一圖像及沿著與該第一掃描方向相反之一第二掃描方向獲取之一第二圖像。該系統包含以通訊方式耦合至該掃描式電子顯微鏡子系統之一控制器。該控制器經組態以自該掃描式電子顯微鏡子系統接收該樣品之圖像。該控制器經進一步組態以藉由組合該一或多組互補圖像而產生一合成圖像。
简体摘要：本发明揭示一种用于减轻电荷聚集假影之扫描式电子显微镜系统，其包含用于获取来自一样品之多个图像之一扫描式电子显微镜子系统。该等图像包含一或多组互补图像。该一或多组互补图像包含沿着一第一扫描方向获取之一第一图像及沿着与该第一扫描方向相反之一第二扫描方向获取之一第二图像。该系统包含以通信方式耦合至该扫描式电子显微镜子系统之一控制器。该控制器经组态以自该扫描式电子显微镜子系统接收该样品之图像。该控制器经进一步组态以借由组合该一或多组互补图像而产生一合成图像。

8. 发明专利

TWI464775B 用於將離子佈植至一工件的離子佈植系統、磁性過濾一離子束之方法以及用於降低於離子佈植系統的粒子污染之方法有权
简体标题：用于将离子布植至一工件的离子布植系统、磁性过滤一离子束之方法以及用于降低于离子布植系统的粒子污染之方法
公开(公告)号：TWI464775B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW098121321
申请日：2009-06-25
申请人：艾克塞利斯科技公司 , AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：芮汀傑佛瑞 , RYDING, GEOFFREY , 法雷馬文 , FARLEY, MARVIN , 梵德伯格寶 , VANDERBERG, BO , 史密克希歐多爾 , SMICK, THEODORE , 坂瀨貴夫 , SAKASE, TAKAO
IPC分类号： H01J37/317 , H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J2237/0492 , H01J2237/103 , H01J2237/1405 , H01J2237/1501 , H01J2237/1523 , H01J2237/153 , H01J2237/21 , H01J2237/24528 , H01J2237/31705

9. 发明专利

TW200823954A 多束充電粒子光學系統 A MULTIPLE BEAM CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM 失效
简体标题：多束充电粒子光学系统 A MULTIPLE BEAM CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM
公开(公告)号：TW200823954A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096127014
申请日：2007-07-25
申请人：瑪波微影IP公司 MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：彼得克路特 KRUIT, PIETER , 張艶霞 ZHANG, YANXIA , 馬汀J 梵布魯根 VAN BRUGGEN, MARTIJN J. , 史提恩威廉卡瑞爾赫曼史提賓克 STEENBRINK, STIJN WILLEM HERMAN KAREL
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/12 , H01J2237/0453 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/153 , H01J2237/26 , H01J2237/3175
摘要：本發明相關於多束線充電粒子光學系統,其包括具有至少一個電極的靜電透鏡結構,提供有孔徑,其中在該孔徑中受到該電極影響的透鏡場實際尺寸做得極小。該系統可以包括一個發散的充電粒子束線部件,其中包含透鏡結構。透鏡的實質尺度製作成極小,尤其是比一毫米更小,更特別地比十幾微米小。在進一步詳述中,透鏡與一個電流限制孔徑一起組合,其相對於該結構的一個透鏡對準,使得受到該電流限制孔徑影響的實際孔徑放置在該透鏡中像差總合減到最少的相對最佳位置。
简体摘要：本发明相关于多束线充电粒子光学系统,其包括具有至少一个电极的静电透镜结构,提供有孔径,其中在该孔径中受到该电极影响的透镜场实际尺寸做得极小。该系统可以包括一个发散的充电粒子束线部件,其中包含透镜结构。透镜的实质尺度制作成极小,尤其是比一毫米更小,更特别地比十几微米小。在进一步详述中,透镜与一个电流限制孔径一起组合,其相对于该结构的一个透镜对准,使得受到该电流限制孔径影响的实际孔径放置在该透镜中像差总合减到最少的相对最佳位置。

10. 发明专利

TW201802857A 多帶電粒子束照射裝置、多帶電粒子束的照射方法及多帶電粒子束的調整方法审中-公开
简体标题：多带电粒子束照射设备、多带电粒子束的照射方法及多带电粒子束的调整方法
公开(公告)号：TW201802857A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106107826
申请日：2017-03-09
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：西村慎祐 , NISHIMURA, SHINSUKE , 小笠原宗博 , OGASAWARA, MUNEHIRO , 東矢高尚 , TOUYA, TAKANAO , 森田博文 , MORITA, HIROFUMI
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/045 , H01J37/141 , H01J37/1472 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/0492 , H01J2237/153
摘要：本發明一態樣之多帶電粒子束照射裝置，其特徵為，具備：放出部，放出帶電粒子束；成形孔徑陣列基板，形成有複數個第1開口部，在包含複數個第1開口部全體之區域受到帶電粒子束的照射，帶電粒子束的一部分分別通過複數個第1開口部當中的相對應之第1開口部，藉此形成多射束並且將多射束成形；及複數段的透鏡，係以相較於最終段的透鏡所造成之多射束的縮小倍率而言最終段的回退側的至少1個透鏡所造成之多射束的縮小倍率會成為較大之方式配置，一面修正將多射束予以成形而成的多射束的孔徑像的成像變形，一面在最終段的透鏡與最終段的回退1個的透鏡之間的高度位置及試料面上將多射束的孔徑像予以成像。
简体摘要：本发明一态样之多带电粒子束照射设备，其特征为，具备：放出部，放出带电粒子束；成形孔径数组基板，形成有复数个第1开口部，在包含复数个第1开口部全体之区域受到带电粒子束的照射，带电粒子束的一部分分别通过复数个第1开口部当中的相对应之第1开口部，借此形成多射束并且将多射束成形；及复数段的透镜，系以相较于最终段的透镜所造成之多射束的缩小倍率而言最终段的回退侧的至少1个透镜所造成之多射束的缩小倍率会成为较大之方式配置，一面修正将多射束予以成形而成的多射束的孔径像的成像变形，一面在最终段的透镜与最终段的回退1个的透镜之间的高度位置及试料面上将多射束的孔径像予以成像。

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