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1. 发明专利

TWI354340B 反射模式中使用Ｘ-光繞射之臨界尺寸的量測 MEASUREMENT OF CRITICAL DIMENSIONS USING X-RAY DIFFRACTION IN REFLECTION MODE 有权
简体标题：反射模式中使用Ｘ-光绕射之临界尺寸的量测 MEASUREMENT OF CRITICAL DIMENSIONS USING X-RAY DIFFRACTION IN REFLECTION MODE
公开(公告)号：TWI354340B
公开(公告)日：2011-12-11
申请号：TW094142979
申请日：2005-12-06
申请人：喬丹菲利半導體有限公司
发明人：艾薩克馬洛 , 伯瑞斯約辛
IPC分类号： H01L , G01N , G01B
CPC分类号： G01N23/20
摘要：本發明提供一種用於一樣本之X－光分析之方法，其包括：引導一X－光之光束以衝擊該樣本之一表面上的一週期特徵之一區域；及在一反射模式中接收自該表面散射的X－光，以便偵測該等散射之X－光中的一繞射之光譜作為一方位角之函數。分析該繞射之光譜以便判定該特徵之尺寸。
简体摘要：本发明提供一种用于一样本之X－光分析之方法，其包括：引导一X－光之光束以冲击该样本之一表面上的一周期特征之一区域；及在一反射模式中接收自该表面散射的X－光，以便侦测该等散射之X－光中的一绕射之光谱作为一方位角之函数。分析该绕射之光谱以便判定该特征之尺寸。

2. 发明专利

TW200801513A 改進之方法 IMPROVED PROCESS 审中-公开
简体标题：改进之方法 IMPROVED PROCESS
公开(公告)号：TW200801513A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW096122855
申请日：2007-06-25
申请人：佛密斯根澳洲有限公司 FERMISCAN AUSTRALIA PTY LIMITED
发明人：蓋瑞柯瑞諾 CORINO, GARY
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N23/20 , G01N2333/4742
摘要：本發明提供一種用於偵測異常成份在取自患有病理狀態之受檢者之角蛋白樣本中存在的方法,其包含以下步驟:a)使該角蛋白樣本暴露於溶脹物質以便滲透該角蛋白樣本,由此產生衍生化學物質;b)自該衍生化學物質獲得資料;c)將自該衍生化學物質獲得之資料與參考資料庫中所含有之第二組資料比較,以便鑑別該異常成份在該角蛋白樣本中之存在;藉此,該異常成份之偵測係與該受檢者中病理狀態之存在一致。
简体摘要：本发明提供一种用于侦测异常成份在取自患有病理状态之受检者之角蛋白样本中存在的方法,其包含以下步骤:a)使该角蛋白样本暴露于溶胀物质以便渗透该角蛋白样本,由此产生衍生化学物质;b)自该衍生化学物质获得数据;c)将自该衍生化学物质获得之数据与参考数据库中所含有之第二组数据比较,以便鉴别该异常成份在该角蛋白样本中之存在;借此,该异常成份之侦测系与该受检者中病理状态之存在一致。

3. 发明专利

TWI238188B 將不相容石油混合物中之瀝青烯解集的方法 DISAGGREGATION OF ASPHALTENES IN INCOMPATIBLE PETROLEUM OIL MIXTURES 失效
简体标题：将不兼容石油混合物中之沥青烯解集的方法 DISAGGREGATION OF ASPHALTENES IN INCOMPATIBLE PETROLEUM OIL MIXTURES
公开(公告)号：TWI238188B
公开(公告)日：2005-08-21
申请号：TW091103327
申请日：2002-02-25
申请人：艾克頌美孚研究工程公司 EXXONMOBIL RESEARCH AND ENGINEERING COMPANY
发明人：湯瑪斯梅森 MASON, THOMAS G. , 林民宇 LIN, MIN YUE
IPC分类号： C10G , H05H , G01T
CPC分类号： G01N23/20 , Y10T436/21 , Y10T436/24
摘要：本發明是一種藉溫和加熱將石油及油混合物中之瀝青烯解集的方法。瀝青烯之存在藉小角度中子散射來測定。
简体摘要：本发明是一种藉温和加热将石油及油混合物中之沥青烯解集的方法。沥青烯之存在藉小角度中子散射来测定。

4. 发明专利

TWI233058B 週期性光柵繞射信號之信號館的產生 GENERATION OF A LIBRARY OF PERIODIC GRATING DIFFRACTION SIGNALS 失效
简体标题：周期性光栅绕射信号之信号馆的产生 GENERATION OF A LIBRARY OF PERIODIC GRATING DIFFRACTION SIGNALS
公开(公告)号：TWI233058B
公开(公告)日：2005-05-21
申请号：TW091102673
申请日：2002-02-18
申请人：丁伯瑞科技公司 TIMBRE TECHNOLOGIES, INC.
发明人：牛新輝 XINHUI NIU , 尼屈希.傑凱達 JAKATDAR, NICKHIL HARSHAVARDHAN
IPC分类号： G06G
CPC分类号： G03F7/70625 , G01N23/20 , G02B5/18 , G03F7/705
摘要：一種產生週期光柵之模擬繞射信號(模擬信號)之信號館之方法包括獲得量度之繞射信號(量度信號)。使虛擬參數與一虛擬輪廓關聯。使虛擬參數在一範圍內變化，以產生一組虛擬輪廓。根據量度之信號，調整變化虛擬參數之範圍。由該組虛擬輪廓產生一組模擬信號。
简体摘要：一种产生周期光栅之仿真绕射信号(仿真信号)之信号馆之方法包括获得量度之绕射信号(量度信号)。使虚拟参数与一虚拟轮廓关联。使虚拟参数在一范围内变化，以产生一组虚拟轮廓。根据量度之信号，调整变化虚拟参数之范围。由该组虚拟轮廓产生一组仿真信号。

5. 发明专利

TW562922B 密度不均勻試料解析方法及裝置,以及系統有权
简体标题：密度不均匀试料解析方法及设备,以及系统
公开(公告)号：TW562922B
公开(公告)日：2003-11-21
申请号：TW091113458
申请日：2002-06-20
申请人：理學電機股份有限公司
发明人：表和彥
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N23/20 , G01N23/201 , G01N23/203
摘要：本發明係提供新穎的密度不均勻試料解析方法及裝置、以及系統，乃藉由在包含有：依照表示粒狀物分布狀態的擬合參數，利用採用表示X線散亂曲線的散亂函數，利用與實測X線散亂曲線之測量條件相同的條件，而計算出模擬X線散亂曲線的步驟；以及一邊改變擬合參數，一邊執行模擬X線散亂曲線與實測X線散亂曲線之擬合的步驟；且藉由將模擬X線散亂曲線與實測X線散亂曲線為一致時的擬合參數值，設定為密度不均勻試料內的粒狀物分布狀態，而解析密度不均勻試料內之粒狀物分布狀態的密度不均勻試料解析方法中，實測X線散亂曲線為共平面繞射測量的共平面X線散亂曲線，並執行此共平面X線散亂曲線與模擬X線散亂曲線間的擬合，將模擬X線散亂曲線與共平面X線散亂曲線一致時的擬合參數值，設定為密度不均勻試料內之粒狀物面內方向的分布狀態。藉此便可簡單且正確的解析具非等向性之密度不均勻試料內的粒狀物之面丙方向的分布狀態。
简体摘要：本发明系提供新颖的密度不均匀试料解析方法及设备、以及系统，乃借由在包含有：依照表示粒状物分布状态的拟合参数，利用采用表示X线散乱曲线的散乱函数，利用与实测X线散乱曲线之测量条件相同的条件，而计算出仿真X线散乱曲线的步骤；以及一边改变拟合参数，一边运行仿真X线散乱曲线与实测X线散乱曲线之拟合的步骤；且借由将仿真X线散乱曲线与实测X线散乱曲线为一致时的拟合参数值，设置为密度不均匀试料内的粒状物分布状态，而解析密度不均匀试料内之粒状物分布状态的密度不均匀试料解析方法中，实测X线散乱曲线为共平面绕射测量的共平面X线散乱曲线，并运行此共平面X线散乱曲线与仿真X线散乱曲线间的拟合，将仿真X线散乱曲线与共平面X线散乱曲线一致时的拟合参数值，设置为密度不均匀试料内之粒状物面内方向的分布状态。借此便可简单且正确的解析具非等向性之密度不均匀试料内的粒状物之面丙方向的分布状态。

6. 发明专利

TW528796B 鈰基研磨材料及鈰基研磨材料之評價方法失效
简体标题：铈基研磨材料及铈基研磨材料之评价方法
公开(公告)号：TW528796B
公开(公告)日：2003-04-21
申请号：TW090129098
申请日：2001-11-23
申请人：三井金屬業股份有限公司
发明人：山崎秀彥 , 內野義嗣 , 高橋和明
IPC分类号： C09K , C01F , B24B , G01N
CPC分类号： B24D3/346 , C01F17/00 , C01F17/0043 , C01P2002/54 , C01P2002/72 , C01P2002/77 , C01P2002/78 , C09G1/02 , C09K3/1409 , G01N23/20
摘要：本發明之目的係提供一種切削性更好的鈰基研磨材料而能夠形成高精度的研磨面。以及，提供一種比較簡易的鈰基研磨材料評價方法。為解決上述問題，在含有40重量%以上(全稀土類氧化物比)的氧化鈰的鈰基研磨材料中，包括相對於鈰基研磨材料重量而以原子重量換算氟元素0.5~10重量，同時地含有經由粉末X光繞射法所測定的晶格常數係0.544~0.560nm範圍的結晶的研磨粒子。還有，該鈰基研磨材料評價方法係包括根據由粉末X光繞射法來分析評價對象的鈰基研磨材料，在顯示既定的4個範圍的各區域的最大尖峰之中，至少求得1個最大尖峰的繞射角(θ)，經由此而計算構成研磨粒子的結晶的晶格常數之過程。
简体摘要：本发明之目的系提供一种切削性更好的铈基研磨材料而能够形成高精度的研磨面。以及，提供一种比较简易的铈基研磨材料评价方法。为解决上述问题，在含有40重量%以上(全稀土类氧化物比)的氧化铈的铈基研磨材料中，包括相对于铈基研磨材料重量而以原子重量换算氟元素0.5~10重量，同时地含有经由粉末X光绕射法所测定的晶格常数系0.544~0.560nm范围的结晶的研磨粒子。还有，该铈基研磨材料评价方法系包括根据由粉末X光绕射法来分析评价对象的铈基研磨材料，在显示既定的4个范围的各区域的最大尖峰之中，至少求得1个最大尖峰的绕射角(θ)，经由此而计算构成研磨粒子的结晶的晶格常数之过程。

7. 发明专利

TWI581670B Ｘ射線光學裝置、Ｘ射線光學設備及用於調節或產生Ｘ射線束之方法有权
简体标题：Ｘ射线光学设备、Ｘ射线光学设备及用于调节或产生Ｘ射线束之方法
公开(公告)号：TWI581670B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW102115523
申请日：2013-04-30
申请人：喬丹菲利半導體有限公司 , JORDAN VALLEY SEMICONDUCTORS LTD.
发明人：萊恩保羅安東尼 , RYAN, PAUL ANTHONY , 沃爾約翰雷納 , WALL, JOHN LEONARD , 史賓斯約翰 , SPENCE, JOHN
IPC分类号： H05G1/26
CPC分类号： G21K1/06 , G01N23/20 , G01N2223/308 , G01N2223/315 , G01N2223/316

8. 发明专利

TW201508240A 用於光學度量衡之自動波長或角度修剪审中-公开
简体标题：用于光学度量衡之自动波长或角度修剪
公开(公告)号：TW201508240A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103119304
申请日：2014-06-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李列泉 , LEE, LIE-QUAN , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： G03F7/70625 , G01D21/00 , G01N23/20 , G05B99/00 , G06F11/30 , G06F17/40 , G06F19/00 , G06Q50/04 , H05K13/08 , Y02P90/30
摘要：本發明描述用於光學度量衡之自動波長或角度修剪。用於光學度量衡之自動波長或角度修剪之一方法之一實施例包括：判定包括複數個參數之一結構之一模型；設計並計算用於該模型的波長相依或角度相依資料之一資料集；將該資料集儲存於一電腦記憶體中；用一處理器執行對用於該模型之該資料集之一分析，包括：對該資料集應用一離群值偵測技術及識別任何資料離群值，每一資料離群值為一波長或角度；且若在該模型之該資料集之該分析中識別任何資料離群值，則自該資料集移除對應於該等資料離群值之該等波長或角度以產生一修改資料集，且將該修改資料集儲存於該電腦記憶體中。
简体摘要：本发明描述用于光学度量衡之自动波长或角度修剪。用于光学度量衡之自动波长或角度修剪之一方法之一实施例包括：判定包括复数个参数之一结构之一模型；设计并计算用于该模型的波长相依或角度相依数据之一数据集；将该数据集存储于一电脑内存中；用一处理器运行对用于该模型之该数据集之一分析，包括：对该数据集应用一离群值侦测技术及识别任何数据离群值，每一数据离群值为一波长或角度；且若在该模型之该数据集之该分析中识别任何数据离群值，则自该数据集移除对应于该等数据离群值之该等波长或角度以产生一修改数据集，且将该修改数据集存储于该电脑内存中。

9. 发明专利

TW201341341A 水泥熟料製造系統审中-公开
简体标题：水泥熟料制造系统
公开(公告)号：TW201341341A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW101148990
申请日：2012-12-21
申请人：三菱綜合材料股份有限公司 , MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
发明人：山下牧生 , YAMASHITA, MAKIO , 田中久順 , TANAKA, HISANOBU , 田中幸生 , TANAKA, YUKIO , 市原克彦 , ICHIHARA, KATSUHIKO , 坂本一夫 , SAKAMOTO, KAZUO , 太幡一男 , TABATA, KAZUO
IPC分类号： C04B7/38 , C04B7/48 , G01N23/20 , G01N23/223 , G01N33/38
CPC分类号： C04B7/4446 , C04B7/425 , G01N23/20 , G01N23/223 , G01N33/38 , G01N2223/076 , Y02P40/121 , C04B7/361
摘要：本發明揭示一種適於水泥熟料之低溫燒成，且可獲得高品質之水泥的水泥熟料製造系統。這種水泥熟料製造系統是具備：供應礦化劑之氟源及硫源的手段；供應熟料原料的手段；將混合了礦化劑之氟源及熟料原料的調和原料粉碎的手段；燒成已粉碎之調和原料的燒窯；將礦化劑之硫源投入燒窯的手段；以及將燃料供應至燒窯的手段，其特徵為：設有分別採取燒成前的調和原料及燒成後的熟料，並依所採取的試料種類測定氟量、主要成分量及游離石灰量的試料分析系統，根據該測定量控制氟源及硫源的供應量、調和原料的供應量以及燃料的供應量至少一個。
简体摘要：本发明揭示一种适于水泥熟料之低温烧成，且可获得高品质之水泥的水泥熟料制造系统。这种水泥熟料制造系统是具备：供应矿化剂之氟源及硫源的手段；供应熟料原料的手段；将混合了矿化剂之氟源及熟料原料的调和原料粉碎的手段；烧成已粉碎之调和原料的烧窑；将矿化剂之硫源投入烧窑的手段；以及将燃料供应至烧窑的手段，其特征为：设有分别采取烧成前的调和原料及烧成后的熟料，并依所采取的试料种类测定氟量、主要成分量及游离石灰量的试料分析系统，根据该测定量控制氟源及硫源的供应量、调和原料的供应量以及燃料的供应量至少一个。

10. 发明专利

TWI392866B 用於檢驗一樣本的設備及方法有权
简体标题：用于检验一样本的设备及方法
公开(公告)号：TWI392866B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW095125854
申请日：2006-07-14
申请人：喬丹菲利半導體有限公司 , JORDAN VALLEY SEMICONDUCTORS LTD.
发明人：艾薛沛雷 , PELED, ASHER , 艾薩克馬洛 , MAZOR, ISAAC , 伯瑞斯約辛 , YOKHIN, BORIS
IPC分类号： G01N23/201
CPC分类号： G01N23/20

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