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1. 发明专利

TW201314709A 積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW201314709A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101128739
申请日：2012-08-09
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：荒井香太郎 , ARAI, KOUTAROU , 瀨田康弘 , SETA, YASUHIRO , 小川一幸 , OGAWA, KAZUYUKI
IPC分类号： H01B5/14 , H01B13/00
CPC分类号： H05K1/092 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , C23C18/1258 , C23C18/1291
摘要：本發明揭示一種積層體及其製造方法，該積層體具有：基板：其於表面具有縱橫比為1.5~100之凹凸；及導電膜：其以大致均勻之厚度積層於上述凹凸中之底、側壁面及頂，為選自由ITO膜、FTO膜、SnO2膜、ATO膜、AZO膜、GZO膜、IZO膜、及IGZO膜所組成之群中之任一種。
简体摘要：本发明揭示一种积层体及其制造方法，该积层体具有：基板：其于表面具有纵横比为1.5~100之凹凸；及导电膜：其以大致均匀之厚度积层于上述凹凸中之底、侧壁面及顶，为选自由ITO膜、FTO膜、SnO2膜、ATO膜、AZO膜、GZO膜、IZO膜、及IGZO膜所组成之群中之任一种。

2. 发明专利

TWI374859B 光能轉換的觸媒材料及其製備方法 PHOTO ENERGY TRANSFORMATION CATALYSTS AND METHODS FOR FABRICATING THE SAME 有权
简体标题：光能转换的触媒材料及其制备方法 PHOTO ENERGY TRANSFORMATION CATALYSTS AND METHODS FOR FABRICATING THE SAME
公开(公告)号：TWI374859B
公开(公告)日：2012-10-21
申请号：TW097119686
申请日：2008-05-28
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：黃朝琴 , 張文昇 , 鄭名山 , 陳佩君 , 李岱洲 , 吳錦貞
IPC分类号： C01G , H01L
CPC分类号： B01J27/04 , B01J23/002 , B01J35/0033 , B01J35/004 , B01J37/0219 , B01J2523/00 , C23C18/1204 , C23C18/1229 , C25B1/003 , Y02E10/541 , B01J2523/18 , B01J2523/33 , B01J2523/62
摘要：本發明提供一種光能轉換的觸媒材料之製備方法。該方法包含將具有IB族元素之正金屬離子溶液及IIIA族元素之正金屬離子溶液與包含VIA族元素負離子溶液混合得到一金屬混合液，以及利用液相沉積(Liquid phase deposition，LPD)薄膜技術，將上述金屬混合液在一基板上沉積一層包含IB族元素、IIIA族元素及VIA族元素之薄膜。
简体摘要：本发明提供一种光能转换的触媒材料之制备方法。该方法包含将具有IB族元素之正金属离子溶液及IIIA族元素之正金属离子溶液与包含VIA族元素负离子溶液混合得到一金属混合液，以及利用液相沉积(Liquid phase deposition，LPD)薄膜技术，将上述金属混合液在一基板上沉积一层包含IB族元素、IIIA族元素及VIA族元素之薄膜。

3. 发明专利

TWI546370B 玻璃研磨用複合粒子有权
简体标题：玻璃研磨用复合粒子
公开(公告)号：TWI546370B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW101133920
申请日：2012-09-17
申请人：堺化學工業股份有限公司 , SAKAI CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：川崎勇兒 , KAWASAKI, YUJI , 川岸弘享 , KAWAGISHI, HIROTAKA , 山本務 , YAMAMOTO, TSUTOMU , 見上勝 , MIKAMI, MASARU , 寺部敦樹 , TERABE, ATSUKI
IPC分类号： C09K3/14 , C04B35/622 , B24B7/24 , B24B37/00
CPC分类号： C09K3/1409 , C09K3/1445 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , C23C18/1245

4. 发明专利

TWI513805B 芯殼型無機粒子有权
简体标题：芯壳型无机粒子
公开(公告)号：TWI513805B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW103103755
申请日：2014-02-05
申请人：柯尼卡美能達股份有限公司 , KONICA MINOLTA, INC.
发明人：伊藤奈津紀 , ITO, NATSUKI , 前澤明弘 , MAEZAWA, AKIHIRO , 高橋篤 , TAKAHASHI, ATSUSHI , 溝口啓介 , MIZOGUCHI, KEISUKE , 乾智惠 , INUI, CHIE
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1445 , C01F17/0043 , C01P2002/60 , C01P2004/32 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/80 , C01P2004/84 , C23C18/1216 , C23C18/1229

5. 发明专利

TW201520324A 研磨材、其製造方法及含有其之研磨漿料审中-公开
简体标题：研磨材、其制造方法及含有其之研磨浆料
公开(公告)号：TW201520324A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103131795
申请日：2014-09-15
申请人：三井金屬鑛業股份有限公司 , MITSUI MINING & SMELTING COMPANY, LTD.
发明人：尾形純和 , OGATA, SUMIKAZU , 德地成紀 , TOKUCHI, SHIGEKI , 丸山陽兵 , MARUYAMA, YOHEI , 大鹿元己 , OSHIKA, MOTOMI
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , C01G45/02 , C01P2004/03 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/84 , C09C3/063 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , C23C18/1212 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , H01L21/02024
摘要：本發明之研磨材包含如下研磨砥粒，該研磨砥粒於芯材含有金屬氧化物，於上述芯材之表面存在包含異於該芯材之金屬或半金屬之氧化物的被覆層。關於上述研磨砥粒，於將包含該研磨砥粒之漿料煮沸5小時後藉由掃描式電子顯微鏡觀察該研磨砥粒時，縱軸與橫軸之比為1.0以上且未達1.5。關於上述研磨砥粒，較佳為被覆層之質量相對於芯材之質量的比率即[被覆層之質量/芯材之質量]之值為0.3質量%以上且30質量%以下。亦較佳為上述被覆層之厚度為0.2nm以上且500nm以下。
简体摘要：本发明之研磨材包含如下研磨砥粒，该研磨砥粒于芯材含有金属氧化物，于上述芯材之表面存在包含异于该芯材之金属或半金属之氧化物的被覆层。关于上述研磨砥粒，于将包含该研磨砥粒之浆料煮沸5小时后借由扫描式电子显微镜观察该研磨砥粒时，纵轴与横轴之比为1.0以上且未达1.5。关于上述研磨砥粒，较佳为被覆层之质量相对于芯材之质量的比率即[被覆层之质量/芯材之质量]之值为0.3质量%以上且30质量%以下。亦较佳为上述被覆层之厚度为0.2nm以上且500nm以下。

6. 发明专利

TWI470651B 積層體及其製造方法有权
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TWI470651B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW101128739
申请日：2012-08-09
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：荒井香太郎 , ARAI, KOUTAROU , 瀨田康弘 , SETA, YASUHIRO , 小川一幸 , OGAWA, KAZUYUKI
IPC分类号： H01B5/14 , H01B13/00
CPC分类号： H05K1/092 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , C23C18/1258 , C23C18/1291

7. 发明专利

TW201303076A 附有表面處理皮膜之硬質粒子之製造方法及附有表面處理皮膜之硬質粒子审中-公开
简体标题：附有表面处理皮膜之硬质粒子之制造方法及附有表面处理皮膜之硬质粒子
公开(公告)号：TW201303076A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101106729
申请日：2012-03-01
申请人：日本巴可萊新股份有限公司 , NIHON PARKERIZING CO., LTD.
发明人：齊藤貴延 , SAITO, TAKANOBU , 石川貴 , ISHIKAWA, TAKASHI
IPC分类号： C23C18/00 , B24D3/00 , C25D15/00
CPC分类号： C23C18/1216 , C23C18/1229 , C23C18/1241
摘要：本發明提供可使用以低成本製造之濕式法，製造於金剛石或CBN等惰性硬質粒子表面上形成均一表面處理皮膜之分散性良好之附有表面處理皮膜之硬質粒子之方法等。本發明之附有表面處理皮膜之硬質粒子(1)可藉由具有下述步驟之方法製造：準備羅普(Knoop)硬度為1000以上之硬質粒子(2)之步驟；將該硬質粒子(2)保持於含有選自Zr、Ti、Si、Cr、Ta、Hf、Sn、Mo、W、Zn、In及V之一種或兩種以上之金屬的氟化物錯合物之水溶液中，而在前述硬質粒子(2)之表面上形成前述金屬之含水合氧化物膜(3’)之步驟；將形成前述金屬之含水合氧化物膜(3’)之硬質粒子乾燥之步驟。於含水合氧化物膜之形成步驟與乾燥步驟之間，較好設有與含有磷化合物之水溶液接觸之步驟。
简体摘要：本发明提供可使用以低成本制造之湿式法，制造于金刚石或CBN等惰性硬质粒子表面上形成均一表面处理皮膜之分散性良好之附有表面处理皮膜之硬质粒子之方法等。本发明之附有表面处理皮膜之硬质粒子(1)可借由具有下述步骤之方法制造：准备罗普(Knoop)硬度为1000以上之硬质粒子(2)之步骤；将该硬质粒子(2)保持于含有选自Zr、Ti、Si、Cr、Ta、Hf、Sn、Mo、W、Zn、In及V之一种或两种以上之金属的氟化物错合物之水溶液中，而在前述硬质粒子(2)之表面上形成前述金属之含水合氧化物膜(3’)之步骤；将形成前述金属之含水合氧化物膜(3’)之硬质粒子干燥之步骤。于含水合氧化物膜之形成步骤与干燥步骤之间，较好设有与含有磷化合物之水溶液接触之步骤。

8. 发明专利

TWI525213B 矽層之製法有权
简体标题：硅层之制法
公开(公告)号：TWI525213B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW099139377
申请日：2010-11-16
申请人：贏創德固賽有限責任公司 , EVONIK DEGUSSA GMBH
发明人：偉伯史蒂芬 , WIEBER, STEPHAN , 帕茲麥瑟斯 , PATZ, MATTHIAS , 卡魯斯倫哈德 , CARIUS, REINHARD , 布朗格托斯坦 , BRONGER, TORSTEN , 科洛麥克 , COELLE, MICHAEL
IPC分类号： C23C18/12 , H01L21/208
CPC分类号： C23C18/1204 , C08G77/60 , C09D183/16 , C23C18/122 , C23C18/1225 , C23C18/1229 , C23C18/1295 , C23C18/14 , H01L21/0237 , H01L21/02532 , H01L21/02628

9. 发明专利

TW201523984A 經碳塗覆之硫化鋰审中-公开
简体标题：经碳涂覆之硫化锂
公开(公告)号：TW201523984A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103137267
申请日：2014-10-28
申请人：洛克伍德鋰公司 , ROCKWOOD LITHIUM GMBH
发明人：德瓦利斯亨利克 , DE VRIES, HENRIK , 鄭相植 , JEONG, SANGSIK , 帕瑟里尼史戴法諾 , PASSERINI, STEFANO
IPC分类号： H01M4/13 , H01M10/052
CPC分类号： H01M4/366 , C01B17/22 , C23C18/1204 , C23C18/1229 , H01B1/10 , H01M4/0471 , H01M4/136 , H01M4/1393 , H01M4/1397 , H01M4/5815 , H01M4/625 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M2004/028 , H01M2220/20 , Y02E60/122
摘要：本發明提供一種自硫化鋰及離子液體產生電池用活性材料之方法、相應活性材料、陰極材料、電池及相應用途。
简体摘要：本发明提供一种自硫化锂及离子液体产生电池用活性材料之方法、相应活性材料、阴极材料、电池及相应用途。

10. 发明专利

TW201502261A 芯殼型無機粒子审中-公开
简体标题：芯壳型无机粒子
公开(公告)号：TW201502261A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103103755
申请日：2014-02-05
申请人：柯尼卡美能達股份有限公司 , KONICA MINOLTA, INC.
发明人：伊藤奈津紀 , ITO, NATSUKI , 前澤明弘 , MAEZAWA, AKIHIRO , 高橋篤 , TAKAHASHI, ATSUSHI , 溝口啓介 , MIZOGUCHI, KEISUKE , 乾智惠 , INUI, CHIE
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1445 , C01F17/0043 , C01P2002/60 , C01P2004/32 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/80 , C01P2004/84 , C23C18/1216 , C23C18/1229
摘要：本發明之課題係提供一種可抑制鈰之使用量，對更硬質之被研磨物能獲得高的研磨速度，且可使被研磨物之表面粗糙度減小之研磨材中所含之芯殼型無機粒子。本發明之芯殼型無機粒子(P)之特徵係研磨材中所含之芯殼型無機粒子(P)，其具有芯(1)及殼(2)，其中芯(1)含有選自釔(Y)、鈦(Ti)、鍶(Sr)、鋇(Ba)、釤(Sm)、銪(Eu)、鎘(Gd)及鋱(Tb)之至少一種元素之鹽，殼(2)含有選自前述8種元素之至少一種元素之鹽與鈰(Ce)之鹽，且構成殼(2)之結晶子(crystallite)的平均結晶子徑在4~30nm之範圍內。
简体摘要：本发明之课题系提供一种可抑制铈之使用量，对更硬质之被研磨物能获得高的研磨速度，且可使被研磨物之表面粗糙度减小之研磨材中所含之芯壳型无机粒子。本发明之芯壳型无机粒子(P)之特征系研磨材中所含之芯壳型无机粒子(P)，其具有芯(1)及壳(2)，其中芯(1)含有选自钇(Y)、钛(Ti)、锶(Sr)、钡(Ba)、钐(Sm)、铕(Eu)、镉(Gd)及铽(Tb)之至少一种元素之盐，壳(2)含有选自前述8种元素之至少一种元素之盐与铈(Ce)之盐，且构成壳(2)之结晶子(crystallite)的平均结晶子径在4~30nm之范围内。

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